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文档简介
1、多晶硅生产工艺多晶硅生产工艺(1概述硅是地球上含量最丰富的元素之,约占地壳质量的25 8 ,仅次于氧元素,居第二位。硅在地球上不存在单质状态,基本上以氧化态存在于硅酸盐或二氧化硅中,其表现形态为各种各样的岩石,如花岗岩、石英岩等。硅是一种半导体元素,元素符号为Si ,位于元素周期表的第三周期第四主族,原子序数为 14 ,原子量为 28.0855 。硅材料的原子密度为 5.OOx1022 cm。 ,熔点为 141 5,沸点为 2355 它在常温 (300K) 下是具有灰色金属光泽的固体, 属脆性材料。硅材料有多种形态,按晶体结构,可分为单晶硅、多晶硅和非晶硅。单晶硅材料,是指硅原子在三维空间有规
2、律周期性的不问断排列,形成一个完整的晶体材料,材料性质体现各向异性,即在不同的晶体方向各种性质都存在差异。多晶硅材料,是指由两个以上尺寸不同的单晶硅组成的硅材料,它的材料性质体现的是各向同性。非晶硅材料,是指硅原子在短距离内有序排列、而在长距离内无序排列的硅材料,其材料的性质显示各向同性。通常硅晶体的晶体结构是金刚石型,有 9 个反映对称面、 6条二次旋转轴、 4 条三次旋转轴和 3 条四次旋转轴,其全部对称要素为3L44LS6L 9PC。如果加压到1.5GPa,硅晶体就会发生结构变化,由金刚石型结构转变为面心立方结构,此时的晶体常数为 0.6636nm 。硅材料是应用最广泛的元素半导体材料,
3、具有其他元素不具有的一些特性, 在室温下它的禁带宽度为 1.1 2eV , 其本征载流子浓度为 1.45x10 Dcm。 硅材料具有典型的半导体电学性质。硅材料的电阻率在 101010Ω·cm 间,导电能力介于导体和绝缘体之间。特性 其导电性受杂质、光、电、磁、热、温度等环境因素的影响 明显。 高纯无掺杂的无缺陷的硅晶体材料, 称为本征半导体,其电阻率在10 Ω·cm 以上。P-N 结构性。即 N 型硅材料和 P 型硅材料结合组成 PN 结,具有单向导电性等性质。这是所有硅半导体器件的基本结构。光电特性。 和其他半导体材料
4、一样, 硅材料组成p N 结后,在光的作用下能产生电流,如太阳能电池。2高纯多晶硅目前高纯多晶硅的大规模生产,被美国、日本和德国等少数发达国家所垄断。当前世界多晶硅的主要供应商有 HemlockW acker M EMC ASiMi Tokuyama KomatsuMitsubishi 、 SEH 等公司。冶金级硅是制造半导体多晶硅的原料, 它由石英砂(二氧化硅)在电弧炉中用碳还原而成。尽管二氧化硅矿石在自然界中随处可见,但仅有其中的少数可以用于冶金级硅的制备。一般说来,要求矿石中二氧化硅的含量应在97%98%以上, 并对各种杂质特别是砷、 磷和硫等的含量有严格的限制。冶金硅形成过程的化学反应
5、式为:冶金硅主要用于钢铁工业和铝合金工业,要求纯度为 98 。纯度大于 99 的冶金硅,则用于制备氯硅烷。在用于制造高纯多晶硅的冶金硅中,除了含有99 以上的Si外,还含有铁(Fe)、铝(AI)、钙(Ca)、磷(P)、硼(B)等,它们的含量在百万分之几十个到百万分之一千个(摩尔分数 )不等。而半导体硅中的杂质含量应该降到 10 (摩尔分数) 的水平, 太阳级硅中的杂质含量应降到106(摩尔分数)的水平。3.冶金硅 → 半导体硅或太阳级硅要把冶金硅变成半导体硅或太阳级硅,显然不可能在保持固态的状态下提纯,而必须把冶金硅变成含硅的气体,先通过分馏与吸附等方法对气体提纯,然后再把
6、高纯的硅源的气体通过化学气相沉积(CVD) 的方法转化成为多晶硅。生产制造高纯多晶硅的办法主要有三大流派,即:用 SIMENS 法 (又称 SiHCI3 法)生产多晶硅棒;用 ASiMi 法 (又称SiH 法)生产多晶硅棒:利用 Sil 硅源制造颗粒状多晶硅。SIMENS (西门子)法(SiHCI3 法)制造多晶硅该法于 1954 年推出, 随即淘汰了当时使用的 SiCI 锌还原法,而成为迄今一直使用的方法。它的第一步,是在250350 c的温度下让冶金硅粉末和氯化氢在流化床上反应;第二步,是对SiHCI3 进行分馏,在这一过程中可以把具有不同沸点的氯化物分离出来;第三步,是硅的沉积。多晶硅反
7、应炉一般均采用单端开口的钟罩形式。通常多晶硅的沉积反应要进行200300h,使沉积在硅桥上的硅棒直径达到150-200 m m 。ASiMi 法 (SiH 法)ASiMi 法 (SiH 法)制造多晶硅20 世纪 60 年代末期, ASiMi 公司(美国先进硅材料公司简称 AsiMI (阿斯米公司)公司总部位于美国蒙大拿州比优特城。生产超高纯度多晶硅和硅烷气体,是世界最大的硅烷气体生产和销售商。 )提出了用 SiH 作为原料生产多晶硅。利用 SiH 原料制造多晶硅棒, 一般使用金属钟型罩炉。 在高温时, SiH 会分解产生 Si 与 H2 。此法的总生产成本要比SiHCI3 法为高。Ethyl 公司的 SiH 法颗粒状多晶硅制造技术此法起源于Ethyl 公司(美国乙基公司作为全球知名的添加剂制造商,现跻身于全球三大石油添加剂制造商之列。乙基公司采用全球领先的添加剂技术,开发生产全系列的燃料油与润滑油添加剂。 ) 的 SiH 法。1987 年商业化的粒
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