PX-2000光亮滚镀镍电镀工艺

1、 PX-2000光亮滾鍍鎳電鍍工藝Performance Barrel Nickel 2000 Plating ProcessesPX-2000滚镀光镍剂是本公司最新之高效能滚镀镍光剂，出光快，整平性高，镀层洁白镜亮，既适用高硫盐基溶液，也适用于高氯化物基溶液。镀液组成及操作条件 高硫酸盐基溶液 高氯化物基溶液硫酸镍 200-240克/升 50-60克/升氯化镍 50-60克/升 180-220克/升硼酸 40-45克/升 40-45克/升开缸剂PX-2000 Mu 20毫升/升 20毫升/升湿润剂 M-19 2毫升/升 2毫升/升pH 4.2-5.2 4.2-5.2温度 55-60 55-6

2、0阳极 电解镍角，镍板或含硫镍角均可阳极面积：阴极面积 2：1阴极电流密度 0.1-1.0安培/平方分米(平均电流密度)过滤 推荐连续过滤设备A镀槽 柔钢（Mild steed）缸衬上合适的塑料或其他认可材料B温度控制 可用蒸汽或石英电笔加热C空气搅拌 镀液需要平均而强烈的空气搅拌D循环过滤 镀液需要连续循环过滤，过滤泵最少能在一小时内能将镀液过滤四次，过滤泵应每四十工作小时，放入活性炭0.6g/L,或每8个工作小时混入0.12 g/L活性炭粉于助滤粉中更佳 苏州诺信商贸有限公司 TEL67541193 FAX址：苏州市东汇路78号平

3、江科技创业园209-1室 邮编：215001 镀液维护1、 镀液中硫酸镍、氯化镍、硼酸应定期分析，并调整补充至工艺范围之内；2、 添加剂的作用及消耗量PX-2000Mu开缸剂： 只在新配镀液或将旧镀液转为PX-2000时添加以后随溶液带出量每月应补加按开缸量1/10-1/20的用量，以维持溶液的完好性。PX-2000 R 补给剂： 补给剂的补充量随工作表面状态，光亮度及整平的要求而有差异在使用较低电流密度时，补充量要较高些。200-300毫升/1000安培小时PX-2000 F辅助剂：在特别的情况下可酎情补充辅光剂，以维持镀层的柔软性，50毫升/1000安培小时。M-19湿润剂： 当镀层出现针

4、孔时，可添加湿润剂，日常生产中经常添加少量湿润剂，可使镀层更为洁白，光亮。以水稀释后添加。0-15毫升/1000安培小时转缸方法 一般滚镍都可转为PX-2000号滚镀镍工艺，但因各电镀同业所采用的光亮镀镍工艺不同，镀液内所含各类杂质也不同，故不能统一归纳转缸方法，需要本公司化验室进行转缸实验后，才可转缸。其他 除杂水 M-15 当电镀锌基铸件或塑胶电镀时，可能会带入较多的铜及锌杂质，而影响电镀效果，可以添加M-15，1毫升M-15可以络合10ppm锌和5ppm铜，其消耗量为250毫升/KA·H。 除铁水 CF-6 当电镀铁工件时，通常镀液中铁杂质含量会比较高，可加入CF-6，使铁离子络合，不致影响电镀效果，也不会影响镀液的PH值。可加入0.5-3 ml/L。声明：此说明书内所有关于本公司产品的建议，是以本公司信赖的的实验及资料作为标准，因个从业者在操作上及设备上有所差异，故本公司不能保证及不负任何责任后果。此说明书内的所有资料也不能作为侵犯版权的证据。 苏州诺信商贸有限公司 TEL：0512