Mentor-Graphics公司软件介绍

1、Mentor_Graphics公司软件介绍Mentor_Graphics公司软件介绍Mentor_Graphics公司软件介绍xxx公司Mentor_Graphics公司软件介绍文件编号： 文件日期： 修订次数：第 1.0 次更改 批 准审 核制 定方案设计，管理制度 Mentor Graphics公司软件介绍软件名称软件特点适合范围系统单芯片验证系列随着芯片设计的日趋复杂，如何验证产品的功能，确认它们的表现符合原来的设计要求，这已变成一个困难的挑战，Mentor提供了许多重要工具，让客户得以解决这方面的问题。在硬件描述语言的仿真、硬件与软件的协同验证、多核心内嵌式系统的除错以及可测试设计（D

2、esign-for-Test）等方面，Mentor 都居于市场领先的地位；此外，在美125国以外的地区，Mentor也是仿真工具市场的领导厂商，因此公司有能力协助客户解决这方面的问题 无论是今天正在面对的设计困难，或是明天即将面对的设计挑战。Seamless：可提供早期而精确的硬件软件协同验证； Nucleus：嵌入式实时操作系统； XRAY：芯片制造前与制造后的软件除错工具； FastScan：芯片测试资料的自动产生工具； VStation 和Celaro：硬件仿真工具/虚拟原型建构系统。硬件描述语言与FPGA设计在VHDL及混合硬件描述语言的仿真、FPGA组件的合成、以及设计的捕捉与管理等

3、方面，Mentor Graphics都是市场的领导厂商，这让公司成为百万逻辑闸等级的FPGA设计领域里，唯一有能力提供整合式设计解决方案的厂商；除此之外，无论是高阶硬件描述语言的设计与仿真，或是设计的捕捉与管理等方面，Mentor 也提供了非常杰出的独立应用工具。 ModelSim：提供数字仿真的功能； HDL Designer Series：设计的输入、分析与管理工具； Precision Synthesis：强大的FPGA合成解决方案。 实体设计与分析随着深次微米制程技术的不断发展，它也带来了许多复杂的实体效应，设计人员必须克服这些效应所产生的影响，才能把他们的设计转换为实际的芯片。Men

4、tor是实体验证市场的领导厂商，公司提供了整套的工具，让设计人员能在制程日渐精密的组件设计中，迅速找出及修正其中的所有重要错误。Calibre：速度最快且结果最精确的深次微米设计实体验证工具； Calibre OPC与PSM：次波长光学制程修正及相偏移光罩的发展工具； ADvance MS：混合模拟讯号设计解决方案； Eldo：晶体管阶层的仿真工具； EldoRF：射频分析工具； IC Station：全订制型集成电路设计与察看的整合式工具流程。电路板与系统设计今天，全世界许多最大的系统设计公司都在使用Mentor提供的工具与组件库，而且随着公司最近在这个产品线上所做的投资，Mentor已经做好了准备，有能力协助客户升级到新一代系统设计工具与方法，让他们能够很快的完成设计工作 即使在电路复杂性迅速成长的压力下。Board Station系列：不受限制的企业设计环境； Expedition系列：最适合个别设计人员或小型工程团队的设计环境； AutoActive RE：