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ICS.23.160J78中华人民共和国国家标准GB/T11164一1999真空镀膜设备通用技术条件Vacuumcoatingplantgenericspecification1999-04-08发布1999-09-01实施国家质量技术监督局发布
GB/T11164-1999本标准是对GB/T11164—1989《真空镀膜设备通用技术条件》进行修订而编制的。在内容上,对某些技术指标进行了修政,如:B类镀膜设备抽气时间从原来的1520min改为10min:增加了升压率指标;并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产,在本次标准修订中将C类产品取消。本标准自实施之日起代替GB/T11164—1989。本标准由国家机械工业局提出。本标准由全国真空技术标准化技术委员会归口本标准起草单位:上海曙光机械制造厂、沈阳真空技术研究所本标准主要起草人:张树中、李春影、李玉英。
中华人民共和国国家标准11164-GB/T-1999真空镀膜设备通用技术条件代替GB/T11164—1989Vacuumcoatingplantgeneriespecification1范围本标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和存等。本标准适用于压力在10~10-"Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设2引用标准下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为有效。所有标准都会被修订·使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性GB191—1990包装储运图示标志GB/T6070—1995真空法兰GB/T13384—1992机电产品包装通用技术条件JB/T7673—1995真空设备型号编制方法3定义本标准采用下列定义、3.1极限压力真空系统正常工作时,空载干燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位:Pa3.2抽气时间真空系统正常工作时,将空载干燥的镀膜室从大气压(10Pa)抽到规定的压力所需要的时间。单位:min.3.3升压率将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后,截止抽气,在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。单位:Pa/h.4技术要求4.1设备正常工作条件4.1.1环境温度:10~30C。4.1.2相对湿度:不大于75%、4.1.3冷却水进水温度:不高于25C4.1.4冷却水质:城市自来水或质量相当的水4.1.5供电电源:380V、三相、50Hz或220V、单相、50Hz(由所用电器需要而定)电压波动范围342~399V
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