标准解读

《GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件》相较于其前版《GB 11164-1989》，主要在以下几个方面进行了调整和更新：

  1. 标准性质的改变：从标准编号可见，新标准由原来的强制性国家标准（GB）转变为推荐性国家标准（GB/T），意味着新版标准为推荐执行，给企业更多的适应性和灵活性。

  2. 技术内容的更新：新版标准根据真空镀膜技术的发展，对设备的技术要求进行了修订和补充，包括但不限于提高了对真空系统密封性能、真空泵抽气速率、镀膜均匀性及控制系统的精度要求，以适应更高质量的镀膜产品需求。

  3. 安全与环保要求：增加了对设备操作安全及环境保护的相关要求，强调在设计和使用过程中需考虑能效比、废弃物处理及减少有害物质排放，体现了对可持续发展和生产安全的重视。

  4. 检测方法与验收准则：详细规定了更加科学严谨的检测方法和验收标准，确保设备性能的可靠评估。这包括对镀膜层的厚度、附着力、纯度等方面的测试方法进行了优化和明确，便于实际操作中的执行与验证。

  5. 术语与定义的完善：随着技术进步，对一些专业术语进行了重新定义或新增解释，使得标准的表述更加准确，便于行业内的统一理解和交流。

  6. 兼容性和互换性：考虑到技术的国际化趋势，新标准可能还增强了设备与国际标准的兼容性，促进了国内外技术交流与合作，提升了国内真空镀膜设备的国际市场竞争力。


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  • 被代替
  • 已被新标准代替，建议下载现行标准GB/T 11164-2011
  • 1999-04-08 颁布
  • 1999-09-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS.23.160J78中华人民共和国国家标准GB/T11164一1999真空镀膜设备通用技术条件Vacuumcoatingplantgenericspecification1999-04-08发布1999-09-01实施国家质量技术监督局发布

GB/T11164-1999本标准是对GB/T11164—1989《真空镀膜设备通用技术条件》进行修订而编制的。在内容上,对某些技术指标进行了修政，如：B类镀膜设备抽气时间从原来的1520min改为10min:增加了升压率指标；并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产，在本次标准修订中将C类产品取消。本标准自实施之日起代替GB/T11164—1989。本标准由国家机械工业局提出。本标准由全国真空技术标准化技术委员会归口本标准起草单位：上海曙光机械制造厂、沈阳真空技术研究所本标准主要起草人：张树中、李春影、李玉英。

中华人民共和国国家标准11164-GB/T-1999真空镀膜设备通用技术条件代替GB/T11164—1989Vacuumcoatingplantgeneriespecification1范围本标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和存等。本标准适用于压力在10～10-"Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设2引用标准下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为有效。所有标准都会被修订·使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性GB191—1990包装储运图示标志GB/T6070—1995真空法兰GB/T13384—1992机电产品包装通用技术条件JB/T7673—1995真空设备型号编制方法3定义本标准采用下列定义、3.1极限压力真空系统正常工作时，空载干燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位：Pa3.2抽气时间真空系统正常工作时,将空载干燥的镀膜室从大气压(10Pa)抽到规定的压力所需要的时间。单位：min.3.3升压率将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后，截止抽气，在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。单位：Pa/h.4技术要求4.1设备正常工作条件4.1.1环境温度：10～30C。4.1.2相对湿度：不大于75%、4.1.3冷却水进水温度：不高于25C4.1.4冷却水质：城市自来水或质量相当的水4.1.5供电电源：380V、三相、50Hz或220V、单相、50Hz(由所用电器需要而定)电压波动范围342～399V

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