- 现行
- 正在执行有效
- 2009-12-04 颁布
- 2010-06-01 实施
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文档简介
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中华人民共和国有色金属行业标准
犢犛/犜719—2009
平面磁控溅射靶材
光学薄膜用硅靶
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20091204发布20100601实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
书
犢犛/犜719—2009
前言
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。
本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。
Ⅰ
书
犢犛/犜719—2009
平面磁控溅射靶材
光学薄膜用硅靶
1范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存
及订货单(或合同)内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1551硅、锗单晶电阻率测定直流两探针法
GB/T2040铜及铜合金板材
GB/T5121(所有部分)铜及铜合金化学分析方法
GB/T5231加工铜及铜合金化学成分和产品形状
GB/T12963硅多晶
3术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
搭接率犫狅狀犱犻狀犵狆犲狉犮犲狀狋犪犵犲
硅板与背板之间的实际接合面积占应接合面积的百分比。
4要求
4.1材质
铜板(背板)和硅板。
4.2化学成分
硅板的化学成分应由供需双方商定;铜板的牌号及化学成分符合GB/T5231的规定。
4.3靶材的尺寸及其允许偏差
靶材尺寸及其允许偏差由供需双方协商,应符合双方签订的技术图样。
4.4表面状况
靶材表面粗糙度及平面度由供需双方协商。
4.5外观质量
硅板和铜板的外观质量应分别符合GB/T12963和GB/T2040的规定。
4.6
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