第四章晶体缺陷3、4节位错的能量_第1页
第四章晶体缺陷3、4节位错的能量_第2页
第四章晶体缺陷3、4节位错的能量_第3页
第四章晶体缺陷3、4节位错的能量_第4页
第四章晶体缺陷3、4节位错的能量_第5页
已阅读5页,还剩43页未读 继续免费阅读

付费下载

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

第三节位错的能量及交互作用一.位错的应变能

图4-27单位长度刃、螺位错的应变能:

刃型位错:螺型位错:r0-位错内部半径r1-位错在晶体中的影响范围其中2πr为周向长度,b为总的剪切变形量,γ为各点的切应变。其中G为材料的切变模量。螺型位错周围的切应力应为:螺位错周围的切应变应为:无论是刃型、螺型还是混合型位错,均有:

a常取0.5~1.0,螺型位错取0.5,刃型位错取1.0,即位错的能量与切变模的平方成正比,所以柏氏矢量的模是影响位错能量的最重要因素

总结二.位错线张力

TR平衡时,位错上的作用力与线张力在水平方向上相等,即:由此可知,保持位错线弯曲所需的切应力与曲率半径成反比,这一关系式对位错运动及增殖有重要意义。三、位错的应力场及与其它缺陷的交互作用1.位错的应力场●螺位错:螺位错周围的晶格应变是简单的纯剪切,而且应变具有径向对称性,其大小仅与离位错中心的距离r成反比,所以切应变与切应力可简单地表达为:1)只有切应力而无正应力,所以无体积变化;2)应力的大小与r成反比,与b成正比;3)切应力是轴对称的;4)应力场公式不是用于位错中心。小结●刃位错

刃位错的应力场要复杂得多,由于插入一层半原子面,使滑移面上方的原子间距低于平衡间距,产生晶格的压缩应变,而滑移面下方则发生拉伸应变。压缩和拉伸正应变是刃位错周围的主要应变。3.位错与其它位错的交互作用“同号相斥,异号相吸”rrFFFFb1b2b1b2图4-33平衡螺型位错之间的交互作用力四.位错的合成与分解

●位错反应的两个条件几何条件:∑b前=∑b后,即反应前后位错在三维方向的矢量之和必须相等

能量条件:∑b2前=∑b2后,即位错反应后应变能必须降低,这是反应进行的驱动力

●判断位错反应能否进行

几何条件:

此反应满足几何与能量条件,故反应成立。能量条件:●实际晶体中位错的柏氏矢量

单位位错或全位错——位错的b

与连接点阵中最近邻两个原子的点阵矢量相等

不全位错——b

小于点阵矢量的位错

晶体类型最密排方向单位位错不全位错fccbcchcp扩展位错——又两个不全位错,中间夹一层错的位错组态。

扩展位错宽度d——3.fcc中全位错的分解及扩展位错小结1)位错实际上并不是线,而是具有一定宽度的管道;2)位错线是晶体中已滑移区与未滑移区的边界;3)位错线周围的点阵发生弹性畸变,其能量比其它地区高,并发生应力场,此应力场对晶体中的溶质原子或其它缺陷将发生交互作用,对金属和合金的性能将发生影响;4)位错运动不能引起晶体结构的变化,只能引起晶体缺陷组态与分布的变化;5)刃位错有一额外半原子面,位错线呈任意形状;螺型位错无额外半原子面,其位错线一定是直线;6)位错的滑移面就是位错线与它的柏氏矢量构成的晶面,即滑移面;而一定晶体的滑移面,是指该晶体的原子密排面,即易滑移面;位错的可滑移面不一定是晶体的易滑移面,当两个滑移面重合时,滑移才容易进行。第四节晶体中的界面

晶体材料中存在很多界面,同一种相的晶粒与晶粒的边界,不同相之间的边界以及晶体的外表面等。晶面也是晶体缺陷,属面缺陷。一、晶界的结构与晶界能根据晶界两侧晶粒位向差(θ角)的不同,可把晶界分为:小角度晶界(θ<10°)大角度晶界(θ>10°)1、小角度晶界的结构当晶界两侧的晶粒位向差很小时,晶界基本上由位错组成。最简单的是对称倾斜晶界,即晶界两侧的晶粒相对于晶界。对称倾斜了一个小的角度。所有的小角度晶界均由位错组成,晶界上的位错密度随位向差增大而增加。2、大角度晶界当晶粒间的位向差增大到一定程度后,位错已难以协调相邻晶粒之间的位向差,所以位错模型不能适应大角度晶界。大角度晶界相当于两晶粒之间的过度层,是仅有2~3个原子厚度的薄层,原子排列相对无序,也比较稀疏些。3、晶界能晶界能:原子偏离了平衡位置,相对于晶体内部,晶界处于较高的能量状态,高出的那部分能量。记作γG。G为切变模量,B为柏氏矢量,υ为泊松比,B为积分常数,取决与位错中心的错排能。Gb4π(1–υ)小角度晶界能γG

=γ0θ(B–lnθ)式中γ0为材料常数

γ0=

表面--把一个相和它本身蒸汽或真空接触的分界面。界面--把一相与另一相(结构不同)接触的分界面。二、表面及表面能rs=3rG对于大块材料,比表面很小,所以表面对晶体性能的影响不如晶界重要。对于多孔物质或粉末,比表面积很大,表面能成为关键因素。固体表面特征(1)、同一种固体物质,制备或加工条件不同也会有不同的表面性质;(2)、实际晶体的表面由于晶格缺陷、空位或位错而造成表面的不均一性;1、固体表面的不均一性(3)、只要固体暴露在空气中,其表面总是被外来物质所污染,被吸附的外来原子可占据不同的表面位置,形成有序或无序排列,也引起了固体表面的不均一性。总之,实际固体表面的不均一性,使固体表面的性质悬殊较大,从而增加了固体表面结构和性质研究的难度。实验观测表明:随着晶体面的不同,表面上原子的密度也不同。固体的实际表面是不规则和粗糙的,存在着无数台阶、裂缝和凹凸不平的山峰谷,这些不同的几何状态必然会对表面性质产生影响,其中最重要的是表面粗糙度和微裂纹。表面粗糙度会引起表面力场的变化,进而影响其表面结构性质。表面微裂缝可以因晶体缺陷或外力产生,对脆性材料强度尤为重要。三、表面吸附与晶界内吸附吸附:是一种物质的原子或分子附着在另一物质表面的现象。由于吸附膜的形成改变了表面原来的结构和性质,从而达到表面改性的目的。表面改性:

利用固体表面吸附特性,通过各种表面处理改变固体表面的结构和性质,以适应各种预期的要求。

表面活性剂:

能降低体系的表面(或界面)张力的物质,由亲水基和憎水基组成。

润湿的热力学定义:固体与液体接触后,体系(固体+液体)的吉布斯自由能降低时,就称润湿。四、润湿行为(二)、润湿与粘附应用:机械的润滑、金属焊接、陶瓷和搪瓷的坯釉结合、陶瓷与金属的封接等。分类:按润湿程度附着润湿浸渍润湿铺展润湿

1、附着润湿固体液体

附着润湿的吉布斯自由焓变化为:液-气界面(L-g)

固-气界面(S-g)

固-液界面(S-L)ΔG1=γSL-(γLV+γSV)此种润湿的逆过程,外界对体系所做功为w:

1、附着润湿附着功:W=γLV+γSV-γSLW愈大表示固液界面结合愈牢,即附着润湿愈强。液体在固体表面上的铺展由γLV、γSL、γSV所决定2、铺展润湿

从热力学观点看,液滴落在清洁平滑的固体表面上,当忽略液体的重力和粘度影响时,则液滴在固体表面上的铺展时由固-气、固-液和液-气三个界面张力所决定的,其平衡关系由下式决定。2、铺展润湿θθ(A)(C)(B)

cosθ=γSV-γSLγLVθ(A)θ(B)(C)

F=γLVcosθ=γSV—γSL

θ:润湿角;F:润湿张力。润湿与液滴的形状(A)润湿,θ<90o(B)不润湿,θ>90o(C)完全润湿,θ=0o

,液体铺开

可见,润湿的先决条件是γSV>γSL或γSL十分微小。当固—液两相的化学性能或化学结合方式很接近时,可以满足这一要求。

一种固体浸渍到液体中的自由能变为:3、浸渍润湿

固液体固定义:固体侵入液体中的过程。S—V界面为S—L界面代替。

-ΔG=γLVcosθ=γSV-γSL

若γSV>γSL,则θ<90o,浸渍润湿过程将自发进行,此时ΔG<0

若γSV<γSL

,则θ>90o,要将固体浸入液体之中必须做功,此时ΔG>0三种润湿的共同点:液体将气体从固体表面挤开,使原有的固—气(或液—气)界面消失,而代之以固—液界面。铺展是润湿的最高标准,能铺展则必能附着和侵渍。总之对于固-固-气界面张力平衡关系:

对于固-固-液界面张力平衡关系:(B)固-固-液平衡的二面角γSLγSSγSL固态晶粒

固态晶粒

γSVγSS(A)热腐蚀角(槽角)ψγSV异相间的润湿行为γSS/γSLcos(/2)

润湿性相分布

<1<1/2>1200

不孤立液滴

1~1/2~/2120~60

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论