半导体工艺之光刻刻蚀教学课件_第1页
半导体工艺之光刻刻蚀教学课件_第2页
半导体工艺之光刻刻蚀教学课件_第3页
半导体工艺之光刻刻蚀教学课件_第4页
半导体工艺之光刻刻蚀教学课件_第5页
已阅读5页，还剩108页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

工艺之光+做3.1概述物理气相淀积镀膜化学气相淀积氧化半导体制作工艺扩散掺杂掺杂离子注入掺杂线焊封装倒装焊TSV一生活的中类半导体王苎掩膜+腐蚀掩膜+光照溅射+电镀概笑不脸上端意在心中WE!1!!光刻中大规模集微纳器件需要怎样的加工环境?50um100um0.01um-5um粉尘:1-100um灰尘:2-100um雾霾:>10um什么是PM25?超净间的组成及注意事项超净间构成·超净间并非简单的净化环境,还需要配合过渡间1(更衣间)、过渡间2,风淋室、工作间1、工作间2和传递间等·洁净度标准:每立方米体积内大于0.5微米颗粒数的平均值作为评判标准,具体级别划分如下class=0.IHm=0.2um=0.三D.B3000000更衣间风淋工作间1工作间2风淋室进口出口超净间一般行为准则11.进入超净间前不要化淞2.超净间内禁止东西和和暍水3.进入超净间前30分钟开始不要抽烟4.尽量避免带隐形眼睛。隐形眼镜可能吸收化学蒸气或者在眼球与镜片间吸附化学物质。紧急情况下,隐形眼睛影响沖洗眼睛。5.必须穿着超浄服和超浄靴或者脚套。如果是上下须收扎在裤子中,裤脚要收扎在靴子或者脚套中。6.只能使用圆珠笔,不能使用铅笔7.非必需品(包括书本、工具、包等)不能拿入超净间8.不能对着基片,水或者干净的器皿、表面咳嗽、说话或者打喷嚏。9.不要让你的皮肤直接接触超净间内任何物体。不要让你的脸接触到你的手套。不要用手接触手套的外表面。10.除了在紧急状态下,不要进入技术夹道或者灰区。11.离开时请收拾好你的工作空间,除非得到工程师同意,不要在超净间内留下物品。超净服的穿◆工作服穿戴步骤及注意事项第一步:戴上口罩注意事项:◆

人人文库> 全部分类> 教育资料 > 课件下载

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论