机械密封研磨及检测方法和注意事项

机封密封面研磨方式和留意事项1、密封摩擦副研磨与抛光的作用？保证摩擦副的平面度，就需要进展研磨和抛光工作。研磨与抛光加工一般是用磨料、磨液及磨具对时密封的动静环外表进展研磨与抛光后获得预定的外形和外表粗糙度。它是一种高精度的加工方法，也是作为高硬度材料的一种加工方法。机械密封摩擦副的外表的平面度要求高，粗糙度小，承受一般的加工方法很难到达，所以就需要用研磨和抛光的方法解决。研磨与抛光加工是将工件外表与磨具接触，两者之间参加研磨剂，在运动过程中，从工作外表去除极薄的面层，从而获得高精度的外表。研磨抛光改善了密封环工作端面的组织，为密封供给一个耐磨损的外表，其作用是：平面度。研磨抛光改善了密封环工作端面的组织，为密封供给一个耐磨损的外表，其作用是：使摩擦系数减小，外表强度得到相应得提高提高耐腐蚀性，外表美观它能提高外表反光系数，便于用光学平晶检测平面度。2、修理中常用磨料有哪些种？各种磨料具有不同的特性，研磨密封环常用磨料的有：①氧化铝系列氧化铝系列磨料有白色的结晶的纯氧化铝〔AI203〕俗称百刚玉，〔Cr203〕称为铬刚玉，常用的是百刚W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1②炭化物系主要有纯炭化硅〔Sic〕为绿色，当有微量元素时为黑色，还有炭化硼〔BC〕为黑色硬度超过炭化硅而低于金刚石。还有金刚石系。正确选择磨料格外重要，依据修磨的工件的硬度来选择磨料。磨料的硬度打算加工密封环的速度和外表粗糙度。常用的W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1。3、常用的磨液和磨具有哪些？磨液磨料需要用磨液来作载体，将磨料悬浮在其中，这需要按肯定的比例配制成磨液即称为研磨剂，研磨剂或抛光剂。它具有肯定的润滑、削减摩擦、冲洗、削减热量的作用。一般常用的有：干净的水、轻质煤油、菜子油及酒精，还要添加肯定的添加剂，主要目的就是防止研磨的外表产生划痕。它的作用是：磨具0200mm×200mm6um300mm×300mm7um300mm×400mm7um400mm×400mm7um450mm×600mm8um4、研磨的根本方法有几种？常用的研磨方法。按原理分为干式与湿式研磨、图7－1湿式研磨，工件完全被研磨剂所包覆，处于充分的潮湿状态，对于干式研磨，工件与平板之间处于枯燥的状态，仅用极少的研磨剂研磨，一般先用湿式研磨到达所要求的平面后，再用干式研磨法抛光，以到达美观光亮的外表。图图1－1湿式法与干式法湿式a〕b〕为干式9、实际研磨，7－1对于从设备更换下来的密封，首先检查确定是否可以修复。假设外表有裂纹坚决报废，通常经过检查密封环外表的沟0.3～0.5mm精度〔Ra1.6um以上〕方可进展研磨工作。石墨环的手工研磨抛光是在铸铁的平板上进展的。研磨前须用溶剂将工件擦净并将平板洗净。研磨抛光加工必要在交干净的室内进展，否则就不能保证得到高精度得加工端面。石墨环的研磨可分两步进展，即湿式法和干式法。操作方法如下：①在平板上涂少许磨液，用手将石墨环的加工面压向平〔〕和白刚玉然后在平板上连续做三角运动或往复运动等，其研磨运动普及整个平板的外表直至到达所要求得平面度为止。切记，密封环在初研时承受粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1。磨当石墨环的磨液处于半干状态即可得到所需要得镜面。取下石墨环后在用白棉纱进展摩擦其光亮还可以提高。石墨环的研磨要点：研磨用力不能过大，用力均匀、防止偏磨，研磨时不行使磨料积存，磨液不宜太多。其次步的干式研磨抛光的磨液应更少。用力要轻否则会消灭痕迹。将以煤油稀释，涂在硬环外表，将硬环的加工面放在初研的平板上，这时可以在环内参加少许轻质煤油和炭化硼，研磨时摩擦副环按三角形或8字型运动规律来回运动，留意把研磨平台的每个角落都磨到，连续研磨到看不到加工痕迹时，即可进入精研，W5-W1金刚石膏。然后在平板上连续做三角运动或往复等运动，假设研磨液挥发工件与平板润滑不好在加研磨液研磨，运动普及整个平板的外表直至到达所要求得平面度为止。擦净硬环环及平板涂少许轻质煤油，〔留意：不加金刚石膏〕重复上面研磨当硬环处于干半的状态即可得到所要求得平面度。取下硬环后在将平板擦干净，这时不加任何磨液和磨料，开头干研，用力不要大，直至到达镜面为止，在用白棉纱擦亮即可。④硬环的加工要点：研磨用力不能过大，用力均匀、防止偏磨，研磨时不行使磨料积存，磨液不宜太多。研磨速度不宜过快，其次步的干式研磨抛光的磨液应更少。用力要均匀否则会消灭痕迹。〔注：研磨平板肯定干净否则抛光效果不好〕5、密封摩擦副技术要求有哪些？检验目的是通过各种方法和手段进展测量，从而把密封件的质量数据化，为钳工的修理进展全面的质量治理，以及配件质量验收的评定地依据。机械密封摩擦副在安装前的精度检测，这对提高机械密封的安装精度和成功率格外重要。①平面度的测量，机械密封端面的平面度不大于0.0009mm其外表必需光滑。随着材料的不同，外表粗造度〔Ra〕的要求是：硬质合金0.01um硬碳0.3um 碳化硅0.05um氧化铝0.05um 特种铜0.2um之所以要求这样高的平面度，是为了保证端面的泄漏量从而增加机械密封的承载力量和密封的性能。机械密封的平面度的检测，通常是用光波的干预效应来测量的。可用质量格外好的光干预仪或光学平晶来进展测量。前者是格外接触法，后者是接触法。是我们练化企业常用的光学平晶检测法。6、什么是平晶检测平面的根本方法。1.56160mm80mm100mm150mm200mm250mm1级和20.03um和0.1um通常用1级平晶来检测密封环的平面度，平晶的直径大于被测外表的密封外径。假设密封环的外径超过250mm或是非金属材料的密封环〔反光度差〕可用涂色发检查，即在被测外表涂以红丹，在零件外表对研，环的接触痕迹必需连续，不能连续，接触连续面积大于总面积的80％为合格。一种代表一个不同波长的电磁波。当白光通过平晶射向被检测的外表发生光干预后，，在被测外表不同位置上显示出几种颜色的干预条纹，由于各色光线混杂，干预条纹的亮度和清楚度大为减弱，所以图象不够清楚，使用单一光源，具有单一的波长，图象明暗相间的亮带和暗带格外的清楚，可以看清较多的干预带，读数比较准确，单色光需要单色光源，如，钠光灯；也可通过自然光通过过滤色镜得到。下面就是7－2密封环平晶钠光灯光源密封环平晶钠光灯光源检验密封平面时首先将被测平面紧贴于平晶，两个外表都必需擦静，使两外表形成一层极薄的空气膜，单色光源通过空气膜，就会产生明暗相间的干预条纹。假设用白光〔自然光〕作为光源，则显示出几种颜色的干预条纹。检测时，应用彩色中最清楚的条纹来读数。白光可以随时取得，不需要附属装置。7、干预条纹的识别及读数？7－3钠光灯下检测到的。直带图像说明被测的平面度格外高，接0.029um7－37－4测到的同心园干预条纹。7－47－51、2、3、4、56、7、8、9、是不合格的干预带7－5推断被测外表不是中凹就是中凸，可用手指在平晶边缘轻轻的压，光干预条纹向外周移为中凸，反之为中凹。前者称为光圈高，后者成为光圈底。在实际测量时，只要是密封环上的干预条纹格外有规律，没有突变都可以使用。7－6平面度误差为2．7um。密封面这种局部平面度误差是由于8、测量密封平面度的留意事项？测量时，平晶和工件需要在一样的温度下才能得到一样的结果，2～3分钟钠光灯才能正常工作。②平晶是周密量具，它的硬度低，使用中简洁磨伤和划伤，因此应在无尘的条件下使用。假设附着赃物，可用酒精，汽油清洗，用鹿皮和镜头纸擦拭。使用时不行用平晶检查粗糙得外表，以免擦伤平晶。使用完毕后妥当保管。③平晶检测平面度，有时看不见干预条纹，可能有以下几种状况：㈠ 测平面不光滑或平面度很差。㈡ 被测平面不清洁或有毛刺。㈢被测平面为非金属材料，外表折光不好，或有毛刺未能很好的贴合等。9、摩擦副端面平面度检测方法？平面度0.0009，一般量具无法检测，通常利用光波的干预效应来检测。光波的干预效应，依据波动学原理，两波产生干预的条件是：①两波在相遇点振向全都；②两波具有一样的频率；③两波在相遇点有固定的周相差。〔两个同样的钠光灯不行，只有用同一光源发出的光设法分成两束，才满足相干条件〕满足相干条件的两束光的叠加效果是：在波程差为波长整数倍的地方，光强度加强；在波程差为半个波长的奇〔变暗平面度检测原理设入射角i=0，e为气膜厚度〔即是被检测面上点到平晶的距离〕，λ为光波波长，δ为光的波程差，那么δ=2e＋λ/2当δ=kλ时，被检测面上点变暗；δ =(2k1)λ /2〔k=0,1,2,3,4,…，k〕由以上公式可以得出下面结论：〔ⅰ〕相邻两条光带所对应两点的气膜厚度差〔高度差〕为λ/2，〔对于钠光灯λ=0.589µm，λ/2≈0.3µm〕〔ⅱ〕相邻两条光带宽b=λ/2Sinθ，〔θ为空气膜倾斜角〕〔ⅲ〕e=0δ=λ/2〔半波损失〕，消灭暗条纹；合格光带举例平面度检测器平晶：由派利克斯玻璃、熔凝水晶或折射系数为1.516的光学玻璃制造。外表平面度0.1µm(2级)，0.03µm(1级)。光源:钠光灯(λ=0.589µm)10、密封端面的粗糙度要求密封端面承载力量与外表粗糙度有很大关系，大约有如下关系：加工方法加工方法精车磨加工研磨抛光技