分子束外延 (MBE) 技术-基质加热器

MBE组件完全按照操作标准加工，旨在提供高度可靠、灵活的性能。Veeco提供了一套完整的MBE系统组件，包括专为MBE工艺开发的先进的加热器、电源、设备控制器、布线和软件包。1.基质加热器适用于特定温度和生长环境Veeco提供适用于特定应用领域、专为特定温度和生长环境条件而制造的基底加热器。标准设计使用PBN扩散器板和高级线丝，可提供优异的跨区一致性并降低了能耗。•优异的热均匀性•低能耗清洁操作提供多丝材料适合于特定应用领域的设计和材料延长了氧和氨环境下的寿命提供双丝加热器适用于所有标准MBE系统MBE线性移动快门动作更快、寿命更长借助Veeco线性移动快门可替代整体快门来控制分子束外延(MBE)系统中的射束流量，从而实现更快的动作。该快门带阻尼设计，实现了更长的使用寿命(>1百万次)，活动部件由波纹管密封并由气压驱动，而且轴受到保护可防止气动启动器阻塞。可靠、耐用、动作快速(50ms即可打开或关闭)，因此可替代整体快门来控制MBE系统中的射束流量带阻尼设计的快门受到的冲击与振动降低-设计使用寿命>1百万次活动部件由波纹管密封并由气压驱动轴受到轴壳保护，可防止凝结的蒸发物阻塞启动器气动启动器可避免干扰RHEED或其他敏感设备适用于所有标准MBE系统气体源交付系统用于VeecoMBE气体源精确控制Veeco的气体源传送系统(GSDS)提供对气体的精确控制、互锁和监测惰性气体、有害气体和/或可燃气体。Molly®ECS1生长控制软件可轻松与您的现有系统实现集成。提供各种组合选项以符合您的需求及预算。所有组合均附带每条管路的手动气管切断阀、气体过滤净化器、质量流量控制器和气动控制运行排气阀。对VeecoMBE气体源实现高效、安全的气体控制便捷的操作和监测流程三种模型配置以满足特定应用和预算

磷回收系统高效、安全的捕获及中和白磷的方法由于白磷极易与氧气发生反应，Veeco磷回收系统（PRS）提供了一种在为MBE系统通风以进行维护和/或源重新装载之前捕获及中和生长模块中白磷的安全高效方法。该过程受VeecoMolly®生长扩展软件的控制和严密监测。为适应小批量制造环境或大批量制造环境，VeecoPRS有两种型号可供选择。•高效、安全的磷中和方法•利用Molly生长控制软件可轻松地操作和监测流程•与所有MBE系统兼容CBr4气体流量控制系统碳掺杂的最终控制解决方案Veeco多孔CBr4气体流量控制系统配合Veeco低温气体源使用时可在利用CBr4气体作为碳掺杂源时控44制CBr4气体向超高真空（UHV）环境的引入过程。采用了闭环压力控制和一系列气动开关阀，该系统可最大限度地发挥调节气体的能力。联锁的采用可避免潜在的设备损坏并确保最佳的真空系统性能。该系统还包括用于将H2气体引入Veeco原子氢源从而将其转化为原子氫的可选独立管线系统。此方法可在基底清洁过程中降低氧化物脱附温度，并在薄膜生长过程中充当表面活化剂以提高原子表面迁移率。VeecoCBr4气体流量控制系统为选择的系统状态提供了两种模式：4本地和远程。MBE自动系统上的远程状态需要ECS1版本的Molly生长控制软件来控制系统生长。•将CBr4气体引入UHV环境这一方法不仅高效而且安全•可选的独立管线系统可将h2气体转化为原子氢以便于基底清洁磷阀式裂解器温度控制器准确、稳定地控制流量不稳定性Veeco磷阀式裂解器温度控制器可以与以前版本和当前版本的Veeco磷阀式裂解器协同工作。该控制器可轻松确保白色区域温度精确、稳定，消除生长期间的流量不稳定性。将磷白色区域温度保持在土0.05°C内，将流量保持在＜土1%内与所有Veeco磷阀式裂解器兼容消除由于水温、空气温度和气流造成的磷流量不稳定性

阀门自动定位器流量控制精确、可重现且可自动实现VeecoSMC-II系列阀门自动定位器配合Veeco阀式裂化器使用可通过源针阀提供精确且可重现的流量控制。阀门由远程自动控制或本地手动控制的伺服电机驱动。由于易于与生长控制软件进行集成，SMC可在无人职守的情况下自行运行。成本低且适合于许多种不同的分子束外延应用•配合Veeco阀式裂化器使用可通过源针阀提供精确且可重现的MBE流量控制阀门可由远程自动控制或本地手动控制的伺服电机驱动由于易于与现有的MBE生长控制软件进行集成，它可在无人职守的情况下自行运行生长阶段定位器精确、准确且可重现的定位VeecoSMC-II系列生长阶段定位器（GSP）配合Veeco控制器使用可利用光学编码位置反馈实现对基底位置和旋转非常精确、可重复的闭环运动控制。可通过远程自动控制或本地手动控制实现对基底控制操作的控制。由于易于与生长控制软件进行集成，GSP可在无人职守的情况下自行运行。成本低且适合于许多种不同的分子束外延应用配合Veeco控制器使用可实现精确且可重复的基底定位和旋转可通过远程自动控制或本地手动控制的伺服电机加以驱动由于易于与现有的MBE生长控制软件进行集成，它可在无人职守的情况下自行运行UNI-BulbRF等离子源自动调节器自动MBE等离子源优化解决方案借助可自动调整和保持最佳等离子源状态的VeecoUNI-Bulb等离子源自动调节器，可实现MBE等离子源的自动操作--即使您的操作条件经常更改。此调节器可直接替换常用的Veeco手动调节器，并可与现有电源配合使用，由于UNI-Bulb在稳定性、可再现性和能效方面的优点，此调节器已成为氧化物和氮化物应用领域的极佳材料提供系统。•支持自动MBE操作--自动调整和保持最佳等离子源状态在实验过程中不再需要手动调整；适合于操作条件经常更改的应用场合经验证的常用VeecoRF等离子源的自动化版本适用于氧化物和氮化物的极佳材料提供系统--良好的稳定性、可再现性和能效适用于MBE系统的生长控制和计划软件流程控制的完整解决方案

借助Veeco推出的全面集成Molly®生长控制软件和批量Manage®计划软件，可实现精确的配方控制和监测并实现生长流程自动化。本软件控制解决方案旨在通过将批量Manager配合Molly使用来为研究和生产分子束外延(MBE)系统实现晶片传送控制自动化。•针对研究和生产MBE系统的全面集成软件控制解决方案•凭借EpiTrend“始终开启”的数据归档器和显示屏可比较当前数据和历史数据，因此，Molly生长控制软件是研究应用的理想之选。批量Manager使用高度灵活的批量和运行表控制自动化生产MBE系统；可配置为自动控制滚筒传输以及启动用户定义的生长配方扩展脚本语言可实现更加精确的控制配方检查和诊断有助于最大限度地降低停机时间和报废率结合PID温度控制器的直流电源多用途MBE功率和温度控制Veeco推出的用于分子束外延(MBE)的直流电源系列包括集成PID温度控制器，可实现源和基底加热器的操作准确、可靠。通过使用闭环温度或功率反馈，该电源可提供极佳的流量稳定性，并且能够以独立或堆叠的方式使用。Veeco的直流电源与Veeco的所有泻流室都兼容。完整的直流电源系列包括集成PID温度控制器，可实现MBE源和基底加热器的操作准确、可靠通过使用闭环温度或功率反馈可提供极佳的流量稳定性可用作独立电源，也可以堆叠的形式使用以满足对功率的更高要求•与Veeco的所有泄流室兼容增加了灵活性和适用性经证明符合所有主要的法规遵从标准；提供4年部件和人工保修MBE坩埚针对各种应用的PBN解决方案借助Veeco推出的用于分子束外延(MBE)泄流室的一套完整的PBN坩埚(包括专门用于Veeco的SUMO室的坩埚)可增加主要源的电荷携带量。VeecoPBN坩埚设计为适合于双丝室、改进型丝室、标准型丝室、低温室、掺杂室和SUMO室。一套完整的MBE坩埚产品独一无二的SUMO室坩埚可增加主要源的电荷携带量非常适合于在双丝室、改进型丝室、标准型丝室、低温室、掺杂室和SUMO室中使用•Veeco坩埚几乎可满足任何MBE应用MBE加热式视口控制和监测效果是传统视口无法比拟的。Veeco推出的加热式视口可防止在分子束外延(MBE)系统中的光学端口上形成涂层-通过使用传统视口所无法比拟的原位监测技术可对晶体生长实现连续、实时的反馈控制。加热式视口使实验室能够避免传统视口上不得不进行的操作：为系统通风以清除从砷源升华而来并涂覆在传统视口上的As4。

Veeco加热式视口可防止在MBE系统中的光学端口上形成涂层，通过使用原位监测技术可对晶体生长实现连续、实时的反馈控制比传统非加热式视口更加可靠，传统视口会被砷源升华出来的As4涂覆无需为系统通风以清除视口上的涂层视口可由室温加热至>500°C配备了半机架或全机架安装套件的可选台式直流电源适合更灵活的应用电源配有7m完全耐烘烤电缆MBE源法兰适合于UHV反应器中的沉积制程您可利用Veeco源法兰为超高真空(UHV)反应器增加分子束外延(MBE)类型的沉积能力。法兰可与多种MBE源和应用兼容，并且有各式各样的源法兰可供选择，包括当今最常用的样式。各式各样的选件增加了灵活性•允许用户向UHV反应器增加高品质MBE类型的沉积能力•法兰可与多种MBE源兼容，有助于生长多种类型的外延薄膜-适合多种实验室或生产需求•有各式各样的源法兰可供选择，包括最常用的样式(“源到基底”距离~4"-10"/102mm-254mm)有一系列产品选件可供选择-用户可以选择所需外径的主法兰、室端口数量以及气源到基底的距离MBE系统电缆与清洁室兼容，具有高温特性用Veeco推出的完整系列的系统电缆将室与控制器相连，可实现较高的电荷携带量和较高的工作温度，进而可确保分子束外延(MBE)泄流室的运行安全、可靠。由经Teflon®涂层处理的较粗电线和屏蔽式热电偶扩展组件制成的电缆，可提供与清洁室完全兼容的有效解决方案。电缆的耐烘烤温度达200°C，因此无需在加热前将电缆移开。•用于连接控制器和MBE泄流室的完整电缆系列-适合于各种应用较高的电荷携带量和工作温度，运行安全、可靠与清洁室完全兼容•电缆的耐烘烤温度达200°C-无需在加热前将电缆移开UNI-BlockMBE基质承载座更灵活，颗粒生成更少利用VeecoUNI-Block™基底承载座可更快地将全部或部分基底安装在同一承载环中，最大程度地减少了颗粒生成。不需要安装线或夹卡，系统设计减少了颗粒污染。提供了适合于部分晶片和扩散器板的配置，并提供了可看到晶片背面的透光度，UNI-Block基底承载座几乎可用于所有分子束外延(MBE)系统。实现在同一承载环中快速安装全部或部分基底，最大程度地减少了颗粒生成快速安装最大程度地减少了基底暴露在环境中的机会系统设计减少了颗粒污染•适合于部分晶片和扩散器板的配置，或可看到晶片背面的透光度•几乎可用于所有MBE系统

氧压控制系统Efficient,safemeansofcontrollingoxygeninMBEoxideapplicationsWithincreasinginterestinoxygenapplications,Veeco'sOxygenPressureControlSystemenablestheprecisecontroloftheamountofoxygeninsidetheMBEgrowthmodule.Throughtime-savingautomation,thecontrolsystemworkstocomparativelymonitoroxygenpressurefeedbackandoperator-enteredvaluesforpressuresetpointandrampratetoderiveasignalvariablethatdirectstheopen/closemanipulationofapiezoelectricvalvetoemitthedesiredamountofoxygenintothegrowthmodule.TheVeecoOxygenPressureControlSystemisavailableforallVeecoMBEsystemsintegratedw