EBL基本组成及工作原理

宋晨之20150202EBL基本结构与工作原理2021/7/11EBL=ElectronBeamLithography=电子束光刻2021/7/122021/7/13一、电子束曝光系统结构2021/7/142021/7/15column2021/7/16电子源的分类

直热式W，2700K热发射电子源旁热式LaB6，1800K电子源

热场发射ZrO/W，1800K场发射电子源

冷场发射2021/7/17四种电子源对比电子源三个关键参数：有效源尺寸，亮度，电子能量分布热发射源能量分布大，聚焦斑束大，产生严重相差。冷场致发射稳定性差，对真空要求高。故EBL系统选用热场致发射源。2021/7/18旁热式&热场致电子源结构示意图阳地超高电场阴阴阳2021/7/19EBL中电子源结构示意图2021/7/110几个牌子的EBL性能参数2021/7/111二次电子探测器Detector2021/7/112Illustrationswithdifferentsignalsources2021/7/1132021/7/114ImagingbymeansofSE2detector:>5mmWDImagingbymeansofInlensdetector:<=10mmWD(dependingonhighvoltagesetting)ImagingbymeansofBSEdetector:8-10mm(OptimumoftheBSelectrondetection)2021/7/115InfluenceofAccelerationVoltage2021/7/116InfluenceofBeamCurrent2021/7/117InfluenceofWorkingDistance2021/7/118二、坐标系的对准2021/7/119建立坐标系2021/7/120写场对准2021/7/121三、曝光2021/7/122扫描模式2021/7/123Exposureparameter2021/7/124Areadose2021/7/125Linedose2021/7/126Dotdoes2021/7/127Areamode2021/7/1282021/7/129Linemode2021/7/130Circlemode2021/7/131ExposurestrategiesUsedbyRaith2021/7/132四、临近效应2021/7/133VisualizationofEnergyDepositionGrid(EDG)2021/7/134高能电子打断PMMA内高分子链示意图2021/7/135前散射和背散射随PMMA厚度的变化关系2021/7/136MonteCarloSimulations2021/7/137Energydeposition2021/7/138ProximityfunctiontrajectoriesenergydepositionenergydistributiondoubleGaussianProximityfunctionproximityfunctionhasthesame

shapeasenergydistribution

withrespecttolateraldistancesbut:nodirectrelationbetween

energyandPE!(it’sjustamodel)2021/7/139Influenceofbeamenergyon