Si衬底GaN基LED器件结构设计及有源区内电流分布的研究的开题报告_第1页
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Si衬底GaN基LED器件结构设计及有源区内电流分布的研究的开题报告题目:Si衬底GaN基LED器件结构设计及有源区内电流分布的研究一、研究背景LED(LightEmittingDiode)作为一种新型绿色照明光源,具有高效、长寿命、低耗能等优点,正在逐渐替代传统照明光源。GaN(氮化镓)材料因其优异的光电性能成为制备高效、高亮度LED的重要材料。目前,GaN基LED器件的结构设计及性能研究受到广泛关注。在GaN基LED器件中,有源区是光电转换的关键部分,也是电流密度最大的区域。因此,有源区内电流分布的研究对于改善器件性能具有重要意义。同时,对Si衬底GaN基LED器件的结构设计也是当前研究热点之一。二、研究内容本文将围绕Si衬底GaN基LED器件的结构设计及有源区内电流分布两个方面展开研究。具体内容包括:1.分析Si衬底GaN基LED器件的基本结构和光电特性,确定优化的设计思路。2.通过数值模拟方法,研究器件的电学性能和光学性能,并优化有源区的设计方案。3.分析有源区内各个结构的电流分布,研究电流密度分布的影响因素,并寻求优化电流分布的方法。4.通过实验验证器件性能,并与仿真结果进行比较和分析。三、研究意义通过对Si衬底GaN基LED器件的结构设计及有源区内电流分布的研究,可以得到以下几点意义:1.优化器件结构,提高器件的光电转换效率和亮度。2.分析电流分布的影响因素,为优化电流分布提供理论依据。3.为制备高性能的GaN基LED器件提供相关数据和研究思路。四、研究方法本研究将采用有限元数值模拟方法(FEM)进行Si衬底GaN基LED器件结构设计和有源区内电流分布的研究。具体方法包括:1.建立器件的三维有限元模型。2.确定电学参数和材料参数,并设置边界条件。3.通过有限元计算求解器件的电场分布、电势分布、载流子分布等电学性能。4.通过计算得到器件的发光强度、辐射功率等光学性能,并分析有源区的光学特性。5.通过有限元分析,研究有源区内电流分布,并寻求优化电流分布的方法。五、预期结果通过本研究,预计可以得到如下预期结果:1.高效、低功耗的Si衬底GaN基LED器件设计思路和优化方案。2.有源区内电流密度分布的规律和影响因素。3.仿真结果与实验结果的比较和分析。六、研究进度本研究的进度安排如下:1.研究文献,明确研究方向和内容。2.建立数值模型及相关参数设置。3.进行数值计算,得到器件的电学性能和

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