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QYResearch报告出版商超纯水是通过去除饮用水、河水或工艺水中的杂质而生产的,这些水除了氢离子和氢氧化物之外几乎不含任何杂质,以满足高质量标准,包括>18.2MΩ-cm(18.2Mohm)电阻率和其他细至零件的参数万亿分之一,例如选择性污染物萃取(SCE)和ROInfinity(ROI),与补充、初级和精处理阶段的电去离子(EDI)相结合,以可靠地生产超纯水。超纯水广泛应用于半导体设备生产中的所有湿加工操作,包括晶圆清洗、蚀刻或抛光。更先进的技术使用超纯水进行浸没式光刻。因此,超纯水的纯度对于半导体制造工艺至关重要,因为它直接与硅片接触。有机物(TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子是影响产品产量的其他主要杂质。超纯水主要用于硅片和半导体材料的清洗、电镀液的配制、冷却设备、硅片的氧化等。据最新调研报告显示,预计2030年全球半导体制造用超纯水市场规模将达到27亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为7.9%。半导体制造用超纯水,全球市场总体规模如上图表/数据,摘自QYResearch最新报告“全球半导体制造用超纯水市场研究报告2024-2030”.全球半导体制造用超纯水市场前9强生产商排名及市场占有率(基于2023年调研数据;目前最新数据以本公司最新调研数据为准)如上图表/数据,摘自QYResearch报告“全球半导体制造用超纯水市场研究报告2024-2030”,排名基于2023数据。目前最新数据,以本公司最新调研数据为准。全球范围内半导体制造用超纯水生产商主要包括栗田工业、奥加诺、野村、SKionWater、威立雅、高频科技、雷铯科技股份有限公司、上海唐古环境科技有限公司、TaiwanPureWaterTechnology、C
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