管式PECVD初步讲解

管式PECVD初步讲解南京华伯仪器科技有限公司July30,2024目录一.PECVD技术二.管式PECVD基本原理三.管式PECVD基本组成电气控制系统加热系统冷却系统射频系统真空系统气路系统石墨舟加载系统July30,20242华伯仪器科技有限公司工程部内部培训July30,20243华伯仪器科技有限公司工程部内部培训一.PECVD技术PECVD=PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition即“等离子增强的化学气相沉积”，是一种化学气相沉积，其它的有HWCVD，LPCVD，MOCVD等。

PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

July30,20244华伯仪器科技有限公司工程部内部培训What’sPlasma?什么是等离子体？地球上，物质有三态，即：固，液，气。其共同点是由原子或分子组成，即基本单元是原子和分子，且为电中性。等离子体：气体在一定条件下受到高能激发，发生电离，部分外层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合组成的一种形态，这种形态就称为等离子态，即第四态。等离子体从宏观来说也是电中性，但是在局部可以为非电中性。一.PECVD技术July30,20245华伯仪器科技有限公司工程部内部培训PECVD技术原理:利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围，使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温实现。一.PECVD技术July30,20246华伯仪器科技有限公司工程部内部培训特点：

PECVD的一个基本特征是实现了薄膜沉积工艺的低温化（<450℃）。因此带来的好处：节省能源，降低成本提高产能减少了高温导致的硅片中少子寿命衰减一.PECVD技术July30,20247华伯仪器科技有限公司工程部内部培训其它方法的沉积温度：APCVD—常压CVD，700-1000℃LPCVD—低压CVD,~750℃,~0.1mbar对比

PECVD—300-450℃，~0.1mbar一.PECVD技术July30,20248华伯仪器科技有限公司工程部内部培训二.管式PECVD基本原理July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训9二.管式PECVD基本原理July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训10三.管式PECVD基本组成1.电气控制系统Tube1Tube2Tube3Tube4Tube1Tube2Tube3Tube4July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训11三.管式PECVD基本组成2.加热系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训12三.管式PECVD基本组成3.冷却系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训13三.管式PECVD基本组成4.射频系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训14三.管式PECVD基本组成5.真空系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训15三.管式PECVD基本组成5.真空系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内部培训16三.管式PECVD基本组成6.气路系统July30,2024华伯仪器科技有限公司工程部内