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文档简介

3大棚薄皮甜瓜栽培技术规程NY/T496肥料合理使用准则通则4产地环境用粉碎后的玉米秸秆1500kg，病害严重的地块，高温闷棚每度应25cm以上。使用旧的塑料薄膜覆盖地面，膜下饱和灌水，淹没土壤。密封整个大棚，闷棚时间应在1个月为宜。闷棚结束后揭去地膜，通风4污泥或工业废渣。每667m2施有机肥4m3，缓释型三元复合肥（17-17-17）25kg～30kg，复合微生物菌肥将消过毒的种子，用湿纱布包好，保持在25℃~30℃的温度条件下恒温催芽后立即覆盖地膜进行保温保湿。出苗前气温白天保持28℃~35℃,夜间16℃~20℃,地温保持在20℃口与子叶方向垂直，深及接穗的整个胚轴，断顶插接嫁接。当砧木长到1叶1心，接穗子叶展开时（第一真叶露心时）叶基部0.5cm处斜削一刀，切面长0.5cm～0.8cm.用嫁接签紧贴砧木子叶叶柄基部向另一子叶柄基5接嫁接苗床温度白天应控制在25℃~28℃,夜间控制在20℃~22℃。封闭3d后，可在早上和傍晚除去覆盖物，使嫁接苗接受弱光和散射光，约0.5h，以后逐渐增加光照时间，10d后完全撤同时早晚进行通风换气，控制湿度；白天温度保持在25大棚内10cm地温稳定在l5℃以上，日平均气温稳定在l8℃以上，即可定植。选择苗龄在3定植，定植时注意保护好幼苗的根系，浇足底水，密闭塑料棚，棚内保持较高温度，以利主蔓22节～25节打掉生长点，后期留1条顶端的子蔓继续生长防止植株早衰，每株留瓜2～3个；子蔓第4～5叶节摘心，每条子蔓留2～3条孙蔓作为结瓜蔓，每条孙蔓留1个瓜，每株留瓜6～9采用0.1%氯吡脲对子房进行喷雾处理促进坐瓜，氯吡脲浓度需根据授粉时期环境温度适当调整，度保持在25～30℃,夜间温度不低于12℃,利于壮秧；相对湿度控制在50%～80%利于提高坐果率。6与非瓜类作物轮作，5～7年的间隔期为宜；进行土壤消毒、彻底清洁田园、摘除病叶和拔除同时促进植株长势健壮，提高植株的抗性，减悬挂黄板40张和蓝板40张诱杀蚜虫、白粉虱、蓟马。地爬栽培，黄板和蓝版悬挂于植株上方15cm~用高毒高残留农药，禁止施用剧毒、高毒、高残留和有3致(致癌、致畸、致突变)作用的农药，见附件参照GB/T25870执行。根据授粉日期和果77171737373733337777

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