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文档简介

激光光刻技术课程名称：激光加工技术主讲人：钟正根浙江工贸职业技术学院本次课教学目标：了解激光光刻技术及应用激光光刻技术一、激光光刻技术分类光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体工业的发展和半导体器件的性能。

激光光刻分为激光投影式光刻和激光无掩膜光刻技术。激光光刻技术

1、激光投影式光刻技术激光投影式光刻技术是基于光学曝光法，其曝光技术最终制约着光刻工艺的分辨率。光刻工艺流程：激光光刻技术光刻工艺的分辨率与曝光波长直接相关，曝光波长越短，分辨率越高。曝光波长的缩短沿着436nm365nm248nm193nm157nm13.5nm存在问题：13.5nm波长的光很容易被吸收，所以传统的棱镜透射式光学系统或镜面反射光学系统将不适用。激光光刻技术

2、激光无掩膜光刻技术

激光直接照射材料，使材料发生相变，通过显影等获得纳米图形结构，从而实现激光无掩膜光刻。激光无掩膜光刻技术可分为：激光近场扫描光刻、干涉光刻、非线性光刻以及激光热刻蚀和微透镜阵列光刻等。激光光刻技术激光光刻技术二、激光光刻技术的应用半导体集成电路小结：本次课介绍了激光光刻技术及应用，激光光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体工业的发展和半导体器件的性能。激光光刻技术思考题：

选用下列哪个波长的激光光刻分辨率更高？（）

A、436nmB、

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