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文档简介

工业废水高级题库及答案一、单项选择题(每题1分,共20分)1.某印染厂采用Fenton氧化法处理高色度废水,下列关于H₂O₂投加量与COD去除率关系的描述正确的是:A.H₂O₂浓度越高,COD去除率线性上升B.过量H₂O₂会淬灭·OH,导致去除率下降C.H₂O₂仅起消毒作用,对COD无影响D.H₂O₂投加量与Fe²⁺无关答案:B2.某电镀园区拟采用“离子交换+膜浓缩”组合工艺回收镍,树脂饱和后常用再生剂为:A.5%NaClB.10%H₂SO₄C.15%NaOHD.丙酮答案:B3.在厌氧氨氧化(Anammox)反应器中,下列哪项指标突然升高最直接暗示污泥活性受到抑制:A.pH=7.2B.NH₄⁺N出水>进水C.NO₂⁻N<0.5mg/LD.温度由30℃升至32℃答案:B4.某石化厂RO浓水TDS=12000mg/L,欲采用电渗析(ED)进一步浓缩,极限电流密度主要受控于:A.进水CODB.膜面流速C.浓室Ca²⁺浓度D.极水电导率答案:B5.采用“臭氧+生物活性炭”深度处理制药废水时,臭氧投加点设在:A.BAC后,以抑制生物泄露B.原水管,以提高可生化性C.炭滤反冲洗水管,以节约能耗D.清水池,以去除余臭氧答案:B6.某园区采用“分质分流”思路,下列废水最适合单独收集并采用“汽提+氨氮精馏”的是:A.生活污水B.合成氨事故排水C.循环冷却水排污水D.地面冲洗水答案:B7.在高级氧化过程中,若废水中存在高浓度HCO₃⁻,其主要影响机制为:A.与·OH反应生成CO₃⁻·,降低氧化效率B.增加溶液缓冲能力,提高·OH寿命C.作为光敏剂,产生¹O₂D.沉淀Fe³⁺,催化H₂O₂分解答案:A8.某线路板厂采用“络合萃取”回收铜,萃取剂为LIX984,反萃剂常用:A.稀HClB.浓H₂SO₄C.氨水D.煤油答案:B9.对于高含盐有机废水,采用“蒸发结晶+干燥”工艺时,防止母液COD富集导致色度超标的关键措施是:A.提高真空度B.母液回流稀释C.定期外排母液至焚烧炉D.降低进料温度答案:C10.某染料废水经“水解酸化+好氧”后出水B/C仍<0.1,最可能的原因是:A.好氧池DO过高B.染料分子含多偶氮键C.温度>40℃D.污泥龄过短答案:B11.采用“电Fenton”处理抗生素废水,下列电极组合中阳极析氧电位最低的是:A.Ti/IrO₂Ta₂O₅B.Ti/SnO₂SbC.石墨D.不锈钢答案:A12.某化工厂采用“树脂吸附+甲醇再生”处理高盐高COD废水,树脂污染后常用复苏剂为:A.1%NaClOB.95%乙醇C.5%HCl+10%NaClD.丙酮答案:C13.在“厌氧+Anammox”自养脱氮系统中,若进水SS>500mg/L,最先出现的故障是:A.厌氧产甲烷量升高B.Anammox菌流失C.反硝化过量D.亚硝化菌增殖答案:B14.某园区采用“MBR+NF+RO”零排放工艺,RO回收率85%,NF浓缩液最合理的处置方式为:A.直接回用绿化B.进入蒸发器C.回流至MBRD.与RO产水混合排放答案:B15.采用“过硫酸盐+热活化”处理含氰废水,主要活性物种为:A.·OHB.SO₄⁻·C.¹O₂D.O₃答案:B16.某炼油厂含硫废水采用“湿式空气氧化”(WAO),反应温度通常控制在:A.80~120℃B.150~220℃C.250~320℃D.400~500℃答案:C17.在“光催化+膜分离”耦合系统中,防止催化剂膜污染的核心参数是:A.膜孔径<0.01μmB.催化剂粒径>膜孔径10倍C.表面Zeta电位绝对值>30mVD.错流速度<0.1m/s答案:C18.某制药废水经“IC厌氧反应器”处理,发现VFA/ALK>0.4,应优先:A.降低进水CODB.投加NaHCO₃C.提高水力负荷D.降低温度答案:B19.采用“电渗析+结晶”回收硫酸钠,为防止膜堆极化,电流效率η通常要求:A.>95%B.80~90%C.60~70%D.<50%答案:B20.某电镀废水采用“螯合沉淀”除重金属,最佳pH范围由下列哪种药剂决定:A.Na₂SB.DTCRC.Ca(OH)₂D.FeSO₄答案:B二、多项选择题(每题2分,共20分)21.下列关于“正渗透”(FO)处理高盐有机废水的描述正确的是:A.水通量方向与RO相反B.需额外设置驱动液再生单元C.膜污染倾向低于ROD.能耗一定低于RO答案:A、B、C22.某园区采用“硫自养反硝化”深度脱氮,下列可作为电子供体的有:A.S⁰B.S₂O₃²⁻C.Fe²⁺D.CH₃OH答案:A、B、C23.在“臭氧催化氧化”体系中,下列属于自由基激发型催化剂的有:A.MnO₂B.Co₃O₄C.γAl₂O₃D.AC答案:A、B24.高含氟废水采用“钙盐+絮凝”沉淀,影响氟离子去除率的关键因素有:A.Ca²⁺投加量B.反应pHC.搅拌强度D.温度>60℃答案:A、B、C25.某线路板厂采用“膜萃取”回收氨,膜材料需具备:A.疏水性B.耐酸碱C.孔径<0.2μmD.正电性答案:A、B、C26.采用“电化学高级氧化”处理难降解废水,下列操作可抑制副反应析氧的有:A.投加Cl⁻B.采用BDD阳极C.提高电流密度D.降低pH至2答案:A、B、D27.在“蒸发塘”处置高盐废水时,导致周边地下水TDS升高的主要途径有:A.池底渗漏B.暴雨溢流C.毛细上升D.风力携带答案:A、C28.某化工厂采用“厌氧氨氧化”脱氮,下列属于Anammox菌特有细胞结构的有:A.厌氧氨氧化体B.周质空间C.细胞内膜D.脂滴答案:A、C29.采用“树脂吸附+纳滤”组合工艺,树脂泄露对NF膜的影响有:A.通量下降B.截留率升高C.膜面污染层压缩D.背压升高答案:A、C、D30.某园区采用“高级氧化+生物强化”工艺,下列措施可提高生物段对氧化中间产物的适应性:A.投加活性炭粉末B.延长污泥龄C.分段进水D.提高DO至6mg/L答案:A、B、C三、判断题(每题1分,共10分)31.电Fenton体系中,阴极原位生成H₂O₂可避免运输风险。答案:√32.正渗透的驱动液浓度越高,水通量一定越大。答案:×(浓差极化加剧)33.厌氧氨氧化菌属于异养菌。答案:×(自养)34.臭氧/UV体系在酸性条件下·OH产率高于碱性。答案:×35.采用“蒸发+结晶”工艺时,母液COD富集会导致晶体色度加深。答案:√36.电渗析脱盐过程中,阳极室pH一定下降。答案:√37.树脂吸附酚类后,可用8%NaOH+4%NaCl混合液再生。答案:√38.硫自养反硝化过程会产生N₂O。答案:×(几乎无)39.采用“MBR+RO”工艺时,MBR出水SDI<3可有效缓解RO膜污染。答案:√40.湿式空气氧化(WAO)可直接将氰化物氧化为N₂和CO₂。答案:√四、填空题(每空1分,共20分)41.在“臭氧+双氧水”体系中,臭氧与H₂O₂摩尔比为________时·OH产率最高,常用比值为________。答案:1:1,0.3~0.542.某高盐废水采用“电渗析”浓缩,极限电流密度i_lim可用________方程估算,其表达式为________。答案:Peers,i_lim=(F·k·C_b)/δ43.厌氧氨氧化最适pH范围为________,温度________℃。答案:7.5~8.0,30~3544.采用“树脂吸附”处理含酚废水,树脂再生液酚浓度可达________g/L,常通过________回收酚。答案:50~80,酸化萃取45.在“光催化”反应中,催化剂TiO₂的禁带宽度为________eV,对应激发波长________nm。答案:3.2,<38746.某电镀废水采用“螯合沉淀”除镍,最佳pH为________,常用螯合剂为________。答案:8~9,DTCR47.采用“正渗透”工艺时,驱动液常用________,其回收方式包括________和________。答案:NaCl或NH₄HCO₃,蒸馏,膜蒸馏48.在“电Fenton”体系中,阴极材料常用________,其优势为________。答案:气体扩散电极,原位产H₂O₂49.某线路板厂采用“膜萃取”回收氨,膜孔径需小于________μm,以防止________。答案:0.2,料液渗透50.采用“高级氧化+生物”组合工艺,氧化段出水B/C需提高至________以上,生物段HRT可缩短至________h。答案:0.3,4~6五、简答题(每题8分,共40分)51.简述“硫自养反硝化”与传统异养反硝化的核心差异,并给出两种电子供体及反应式。答案:硫自养反硝化以还原态硫(S⁰、S₂O₃²⁻)为电子供体,CO₂为碳源,无需外加碳源;传统异养反硝化需外加甲醇等有机物。反应式:5S⁰+6NO₃⁻+2H₂O→5SO₄²⁻+3N₂+4H⁺5S₂O₃²⁻+8NO₃⁻+H₂O→10SO₄²⁻+4N₂+2H⁺52.某园区RO浓水TDS=15000mg/L,COD=800mg/L,拟采用“电渗析+结晶”实现硫酸钠回收,请给出预处理流程并说明理由。答案:流程:软化(石灰+纯碱)→离子交换除Ca²⁺Mg²⁺→活性炭吸附COD→精密过滤→ED浓缩→蒸发结晶。理由:防止CaSO₄结垢;降低COD,避免晶体带色;保护ED膜。53.说明“臭氧催化氧化”中MnO₂的自由基激发机理,并给出表面反应式。答案:MnO₂表面Lewis酸位吸附O₃,引发O₃分解生成·OH;表面Mn⁴⁺/Mn³⁺循环传递电子。反应式:≡Mn⁴⁺+O₃+H₂O→≡Mn³⁺+·OH+O₂≡Mn³⁺+O₃→≡Mn⁴⁺+O₃⁻·54.某制药废水经“水解酸化+Anammox”后总氮仍超标,分析三种可能原因并提出对策。答案:原因1:进水COD/N高,异养菌竞争NO₂⁻;对策:设前置碳吸附。原因2:Anammox菌流失;对策:增设生物填料。原因3:温度波动;对策:保温至30±1℃。55.比较“正渗透”与“减压膜蒸馏”(VMD)在能耗与膜污染方面的差异。答案:FO能耗低但需驱动液再生;VMD需真空泵能耗高。FO膜污染倾向低,污染层松散;VMD膜污染以润湿为主,不可逆。六、计算题(每题10分,共30分)56.某印染废水流量2000m³/d,COD=2500mg/L,采用Fenton氧化,按COD:H₂O₂:Fe²⁺=1:2:0.5(质量比)投加,计算每日需27.5%H₂O₂和FeSO₄·7H₂O的吨数。答案:COD质量=2000×2500×10⁻³=5000kg/dH₂O₂=5000×2=10000kg/d(纯)27.5%H₂O₂=10000/0.275=36.36t/dFe²⁺=5000×0.5=2500kg/dFeSO₄·7H₂O分子量278,Fe²⁺56需量=2500×278/56=12410kg=12.41t/d57.某电镀废水含Ni²⁺50mg/L,流量100m³/d,采用Na₂S沉淀,按Ni:S²⁻=1:1.2(摩尔比),计算每日需60%Na₂S多少kg,并给出理论污泥量(NiS分子量91)。答案:Ni摩尔=50×100×10³/58.7=85178molS²⁻=85178×1.2=102213molNa₂S质量=102213×78/0.6=13.3×10⁶g=13.3tNiS污泥=85178

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