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文档简介
2025年半导体厂风险管控安全试题库及答案一、单项选择题(共20题,每题2分,共40分)1.半导体厂洁净室(Class1000)内,人员进入前必须完成的核心防护步骤是?A.佩戴普通口罩B.穿戴全套洁净服(包括头罩、鞋套、手套)C.喷洒酒精消毒D.检查手机是否关机答案:B2.半导体制造中常用的特种气体(如NF3、SiH4)存储时,气瓶与明火的安全距离应不小于?A.2米B.5米C.8米D.10米答案:D(依据GB16912-2021《深度冷冻法生产氧气及相关气体安全技术规程》)3.光刻工艺中使用的显影液(主要成分为TMAH)属于哪类危险化学品?A.易燃液体B.腐蚀性物质C.氧化性物质D.毒性物质答案:B(TMAH为强碱性,对皮肤、黏膜有强腐蚀性)4.半导体厂超纯水(UPW)系统的管道材质应优先选用?A.普通PVCB.316L不锈钢(抛光内壁)C.镀锌钢管D.铜质管道答案:B(需满足低溶出、耐腐蚀、无生物污染要求)5.洁净室压差控制中,核心工艺区(如光刻间)与相邻辅助区的压差应保持?A.正压5-10PaB.正压15-20PaC.负压5-10PaD.无压差要求答案:B(防止外部污染物侵入核心区)6.半导体设备(如PECVD)维护时,必须执行的“上锁挂牌”(LOTO)流程中,最后一步是?A.验证设备已断电B.由授权人员上锁C.移除锁具并测试设备D.填写LOTO记录表答案:C(确认设备恢复安全状态)7.半导体厂废气处理系统(Scrubber)的报警触发条件通常不包括?A.排气流量低于阈值B.洗涤液pH值异常C.设备运行时间累计D.排放口污染物浓度超标答案:C(运行时间非直接安全触发条件)8.静电防护(ESD)区域内,操作人员必须佩戴的基本防护装备是?A.防砸鞋B.腕带(接地)C.护目镜D.防尘口罩答案:B(通过接地释放人体静电)9.半导体厂使用的氢氟酸(HF)泄漏时,应急处理人员需佩戴的最高级别防护装备是?A.半面罩防毒面具B.正压式空气呼吸器+防化服(A级)C.普通橡胶手套D.护目镜+普通工作服答案:B(HF高毒且腐蚀性强,需全封闭防护)10.洁净室火灾报警系统中,烟雾探测器的安装间距应不大于?A.3米B.5米C.8米D.10米答案:C(依据GB50116-2013《火灾自动报警系统设计规范》)11.半导体制造用特种气体钢瓶的检验周期为?A.每1年B.每3年C.每5年D.每10年答案:B(高压气体钢瓶需定期检验,NF3等腐蚀性气体为3年)12.化学机械抛光(CMP)工艺中,研磨液(含二氧化硅颗粒)的主要安全风险是?A.易燃爆B.吸入性粉尘危害C.放射性D.低温冻伤答案:B(悬浮颗粒可导致呼吸道损伤)13.洁净室空调系统(HVAC)的高效过滤器(HEPA)更换后,必须进行的检测是?A.风速均匀性测试B.过滤效率验证(DOP测试)C.温湿度校准D.噪音检测答案:B(确保过滤效率符合Class要求)14.半导体厂废水处理站中,含氟废水(来自刻蚀工艺)的处理核心步骤是?A.中和沉淀(添加Ca(OH)2)B.活性炭吸附C.膜过滤D.臭氧氧化答案:A(氟离子与钙离子反应生成CaF2沉淀)15.电子束曝光机(EBL)运行时,主要的辐射防护措施是?A.屏蔽铅板+剂量监测B.佩戴防辐射手套C.定期通风D.增加照明亮度答案:A(电子束需通过铅屏蔽降低外照射剂量)16.半导体设备维修时,若需进入有限空间(如反应腔室),必须执行的程序是?A.直接进入并佩戴普通口罩B.气体检测(O2、有毒气体)+持续通风+监护人在场C.关闭设备电源即可D.仅佩戴护目镜答案:B(符合GB30871-2022《危险化学品企业特殊作业安全规范》)17.洁净室人员着装中,鞋套的材质应优先选用?A.普通布质B.防静电PVCC.橡胶D.纸质答案:B(防止静电积累及颗粒脱落)18.半导体厂氢气(H2)管道的连接方式应采用?A.螺纹连接B.法兰连接(带金属垫片)C.卡套连接(无泄漏设计)D.普通焊接答案:C(氢气易泄漏,需无明火、高密封性连接)19.光刻胶(主要成分为树脂+溶剂)的存储温度应控制在?A.0-5℃B.15-25℃C.30-35℃D.40℃以上答案:B(高温会加速光刻胶聚合失效,低温可能结晶)20.半导体厂应急演练中,化学品泄漏的黄金响应时间(从发现到初步控制)应不超过?A.2分钟B.5分钟C.10分钟D.15分钟答案:B(避免扩散导致更大危害)二、多项选择题(共15题,每题3分,共45分,每题至少2个正确选项)1.半导体厂危险化学品管理的“五双制度”包括?A.双人验收B.双人保管C.双把锁D.双本账E.双人使用答案:ABCD(“五双”指双人验收、双人保管、双把锁、双本账、双人发货)2.洁净室安全操作规范包括?A.禁止在洁净室内饮食B.快速行走以提高效率C.手套接触非洁净物品后需更换D.洁净服破损时继续使用E.退出洁净室时按规定脱除防护装备答案:ACE(快速行走会产生颗粒,破损洁净服需立即更换)3.半导体设备电气安全的关键措施有?A.接地保护(PE线)B.绝缘电阻测试(≥1MΩ)C.未培训人员可操作简单设备D.设备外壳带电时继续使用E.定期校验漏电保护器(RCD)答案:ABE(未经培训人员禁止操作,外壳带电需停机检修)4.特种气体(如SiH4)钢瓶的安全标识应包含?A.气体名称(中文+分子式)B.危险特性(如易燃、有毒)C.充装日期D.上次检验日期E.操作人员姓名答案:ABCD(操作人员姓名非强制标识内容)5.半导体厂火灾隐患排查的重点区域包括?A.化学品仓库B.气体柜区域C.配电间D.员工休息室E.纯水制备间答案:ABCDE(所有区域均需排查,重点为高风险区域)6.静电防护(ESD)的技术措施包括?A.地面铺设防静电材料(表面电阻10^6-10^9Ω)B.设备接地(接地电阻≤10Ω)C.环境湿度控制在30%-70%RHD.使用普通塑料托盘存放晶圆E.操作人员佩戴防静电腕带(接地)答案:ABCE(普通塑料易积累静电,需使用防静电托盘)7.半导体厂废水处理的环保要求包括?A.总砷(As)≤0.1mg/LB.总氟(F)≤10mg/LC.pH值6-9D.化学需氧量(COD)≤500mg/LE.悬浮物(SS)≤30mg/L答案:ABCDE(符合GB8978-1996《污水综合排放标准》)8.洁净室温湿度控制的意义是?A.防止光刻胶因湿度变化发生溶胀B.避免设备因温度波动导致精度下降C.减少人员因高温不适引发的操作失误D.抑制微生物繁殖E.降低静电产生概率答案:ABCDE(温湿度影响工艺、设备、人员及环境洁净度)9.半导体设备维护时的安全注意事项包括?A.关闭设备电源并确认B.释放设备内残留压力/气体C.直接用手触摸高温部件(如加热盘)D.使用专用工具拆卸E.维修后恢复安全防护装置(如防护罩)答案:ABDE(高温部件需冷却后操作)10.化学品MSDS(安全技术说明书)应包含的内容有?A.急救措施B.泄漏应急处理C.物理化学性质D.生产企业联系方式E.运输信息答案:ABCDE(符合GB/T16483-2008《化学品安全技术说明书内容和项目顺序》)11.半导体厂气体泄漏的检测方法包括?A.便携式气体检测仪(电化学/红外原理)B.嗅觉感知(仅适用于有气味气体)C.皂液检漏(观察气泡)D.激光遥测仪(远距离检测)E.肉眼观察(仅适用于可见气体)答案:ACD(嗅觉和肉眼不可靠,需仪器检测)12.洁净室人员行为规范禁止的动作有?A.用手触摸口罩外侧后触碰洁净表面B.剧烈咳嗽/打喷嚏时不遮挡C.携带非洁净物品(如普通纸张)进入D.按规定路线进出(一更→二更→风淋)E.脱洁净服时将内表面朝外折叠答案:ABC(D、E为正确操作)13.半导体厂应急物资的配备要求包括?A.洗眼器/冲淋装置(距危险区域≤15米)B.正压式空气呼吸器(数量≥岗位人数的1.5倍)C.灭火器材(ABC类干粉灭火器)每50㎡至少1具D.应急照明(断电后持续≥30分钟)E.个人防护装备(PPE)定期校验/更换答案:ABCDE(符合GB50493-2019《石油化工可燃气体和有毒气体检测报警设计标准》)14.半导体制造中射线装置(如X射线检测仪)的安全管理要点是?A.划定控制区(黄线)和监督区(绿线)B.操作人员佩戴个人剂量计(TLD)C.设备运行时无关人员可进入D.定期检测周围环境剂量率(≤2.5μSv/h)E.建立射线装置台账(含编号、使用记录)答案:ABDE(设备运行时控制区禁止无关人员进入)15.半导体厂安全培训的重点内容包括?A.岗位风险辨识与控制B.应急处置流程(如泄漏、火灾)C.安全操作规程(SOP)D.事故案例分析E.安全法律法规(如《安全生产法》)答案:ABCDE(需覆盖知识、技能、意识三方面)三、判断题(共15题,每题1分,共15分,正确填“√”,错误填“×”)1.半导体厂洁净室的新风量只需满足人员呼吸需求,无需考虑污染物稀释。(×)(需同时满足人员需求与污染物稀释,参考GB50073-2013)2.特种气体钢瓶使用完毕后,应保留瓶内余压(≥0.05MPa),防止空气倒灌。(√)3.洁净室内可以使用普通记号笔标注物料,因为墨水颗粒不会脱落。(×)(需使用洁净室专用记号笔,避免颗粒污染)4.半导体设备的联锁装置(如门开关与电源联锁)可以临时短接,以便快速维修。(×)(联锁装置是安全屏障,禁止短接)5.超纯水系统的电导率越低越好,因此无需控制微生物指标。(×)(微生物繁殖会导致离子污染,需定期消毒)6.化学品仓库内可以设置办公室,方便管理人员值守。(×)(危险化学品仓库禁止设置办公、居住场所)7.静电防护区域(EPA)内的设备可以不接地,只要操作人员佩戴腕带即可。(×)(设备必须接地,形成等电位环境)8.洁净室风淋室的吹淋时间应≥30秒,以确保去除人员表面颗粒。(√)9.半导体厂废水处理站的操作人员可以不佩戴防护装备,因为废水已中和。(×)(废水可能含残留酸碱或有毒物质,需佩戴PPE)10.特种气体管道的颜色标识中,氢气(H2)为深绿色,氮气(N2)为黑色。(√)(依据GB7231-2003《工业管道的基本识别色、识别符号和安全标识》)11.光刻工艺中使用的紫外灯(UV)属于非电离辐射,无需防护。(×)(UV可导致皮肤/眼睛灼伤,需佩戴防紫外线护目镜)12.半导体设备维护时,若发现工具缺失,可以临时用其他工具替代(如用螺丝刀代替扳手)。(×)(专用工具不可替代,防止损坏设备或引发事故)13.洁净室压差表显示负值(核心区压力低于辅助区)时,应立即检查空调系统或密封情况。(√)14.危险化学品的废弃可以直接排入废水系统,只要浓度低于排放标准。(×)(需分类收集,交有资质单位处理)15.半导体厂应急演练后无需总结,只要完成演练即可。(×)(需总结问题,修订预案)四、简答题(共10题,每题5分,共50分)1.简述半导体厂洁净室“人员动线”设计的基本原则。答案:①单向流动(从低洁净区到高洁净区);②避免交叉(操作人员与物料分开);③设置缓冲区域(如风淋室、传递窗);④明确标识(如“人员入口”“物料出口”);⑤限制停留时间(减少颗粒产生)。2.列举半导体厂特种气体(如NF3)钢瓶的5项安全检查内容。答案:①钢瓶外观无凹陷、腐蚀;②阀门无泄漏(皂液测试);③安全标签完整(含气体名称、危险特性);④检验标识在有效期内(每3年);⑤防震圈、安全帽齐全;⑥与其他气体(如O2)分开放置(间距≥5米)。(任意5项)3.说明半导体设备“上锁挂牌”(LOTO)流程的关键步骤。答案:①识别能源(电气、气动、液压等);②关闭能源(切断电源、关闭阀门);③锁定能源隔离装置(挂个人锁);④验证设备已停止运行(尝试启动);⑤释放残留能量(泄压、放电);⑥维修完成后由上锁人员解锁;⑦测试设备功能正常。4.半导体厂化学品泄漏的应急处置步骤有哪些?答案:①立即疏散无关人员(向上风方向撤离);②启动报警(触发区域警报或通知控制室);③佩戴合适PPE(如防化服+空气呼吸器);④控制泄漏源(关闭阀门、封堵容器);⑤围堵泄漏物(使用吸收棉、沙堆);⑥中和/收集污染物(按MSDS要求处理);⑦报告上级及EHS部门;⑧记录事故经过并分析原因。5.简述洁净室高效过滤器(HEPA)的更换标准及注意事项。答案:更换标准:①压差超过初始值的2倍;②破损或泄漏(DOP测试通过率<99.97%);③使用时间超过2年(视环境而定)。注意事项:①更换前关闭空调系统并通风;②佩戴防尘口罩+手套;③旧过滤器密封后按危险废物处理;④更换后进行检漏测试;⑤记录更换时间及过滤器参数。6.半导体厂静电防护(ESD)的“三维防护体系”包括哪些内容?答案:①环境控制(防静电地面、湿度30-70%RH);②人员防护(腕带、脚环、洁净服);③设备/物料防护(接地、防静电包装、离子风机);④管理措施(定期检测、培训、标识)。7.说明半导体制造用超纯水(UPW)的主要安全风险及控制措施。答案:风险:①管道内细菌滋生(导致离子污染);②高压管道泄漏(水锤效应损坏设备);③反渗透(RO)膜破裂导致杂质进入。控制措施:①定期消毒(臭氧/紫外线);②安装压力传感器及泄压阀;③在线监测电导率(≤0.055μS/cm);④备用RO膜组件;⑤管道材质选用316L不锈钢(抛光内壁)。8.列举半导体厂气体柜的5项安全设计要求。答案:①独立通风(换气次数≥12次/小时);②泄漏检测(安装气体传感器);③防爆设计(电气设备ExdIIBT3);④紧急切断阀(远程/现场控制);⑤防火隔墙(耐火极限≥2小时);⑥静电接地(接地电阻≤10Ω);⑦标识清晰(“危险气体”“禁止烟火”)。(任意5项)9.半导体厂火灾的主要类型及对应的灭火器材选择。答案:①电气火灾(E类):使用二氧化碳灭火器(无残留)或干粉灭火器;②化学品火灾(B类,如有机溶剂):使用泡沫灭火器或干粉灭火器;③金属火灾(D类,如镁粉):使用专用D类灭火器(氯化钠基);④普通固体火灾(A类,如纸张):使用水基灭火器或ABC干粉灭火器。10.简述半导体厂新员工三级安全教育的内容及要求。答案:三级教育包括:①公司级(厂级):安全生产法律法规、厂级风险(如化学品、气体)、应急逃生路线;②车间级(部门级):车间工艺特点、设备安全操作、本车间事故案例;③班组级(岗位级):岗位SOP、工具使用、应急处置(如泄漏、触电)。要求:培训时间≥72学时(高危岗位≥96学时),考核合格后方可上岗,建立培训档案。五、案例分析题(共5题,每题10分,共50分)案例1:某半导体厂光刻车间,操作人员在更换显影液(TMAH)时,未佩戴防化手套,导致手背接触液体后出现红肿疼痛。问题:(1)分析事故直接原因与间接原因;(2)提出改进措施。答案:(1)直接原因:操作人员未按规定佩戴防化手套(PPE缺失);间接原因:安全培训不到位(未强调TMAH腐蚀性)、现场监督缺失(无人制止违规操作)。(2)改进措施:①强制要求更换化学品时佩戴防化手套(丁腈或氟橡胶材质);②增加TMAH危害培训(含应急处置:立即用大量水冲洗15分钟,就医);③安装视频监控或设置监护人监督PPE穿戴;④在化学品存放点张贴警示标识(“腐蚀性,需佩戴手套”)。案例2:某半导体厂气体柜区域,巡检人员发现硅烷(SiH4)钢瓶接口处有白色粉末(推测为SiH4水解产物),同时便携式检测仪显示浓度5ppm(阈值为1ppm)。问题:(1)判断风险等级(高/中/低);(2)写出应急处置流程。答案:(1)风险等级:高(SiH4为自燃气体,浓度超标5倍,存在爆炸风险)。(2)处置流程:①立即疏散气体柜周边30米内人员(向上风方向);②启动气体柜紧急切断阀(关闭钢瓶阀门);③佩戴正压式空气呼吸器+防化服进入现场;④用氮气吹扫泄漏点(降低浓度);⑤使用皂液确认泄漏位置(接口密封垫损坏);⑥更换密封垫并再次检漏;⑦通知EHS部门及气体供应商;⑧记录泄漏量、处理过程及改进措施(如定期更换密封垫)。案例3:某半导体厂洁净室,操作人员在搬运晶圆时,因洁净服袖口破损,导致手臂接触晶圆表面,最终该批次晶圆因颗粒污染报废。
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