2026北方华创校招真题及答案

2026北方华创校招真题及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）1.半导体制造中，光刻的主要作用是？A.沉积薄膜B.刻蚀图案C.定义图案D.掺杂杂质2.以下哪种气体常用于半导体刻蚀工艺？A.氧气B.氮气C.氯气D.氢气3.北方华创的核心业务不包括？A.半导体装备B.新能源汽车C.真空装备D.锂电装备4.集成电路制造流程中，晶圆制造之后的步骤是？A.光刻B.封装测试C.刻蚀D.掺杂5.半导体设备中，用于物理气相沉积的是？A.CVDB.PVDC.ALDD.CMP6.以下哪种材料常用于半导体衬底？A.玻璃B.陶瓷C.硅片D.塑料7.北方华创的企业文化中，不包含以下哪项？A.以客户为中心B.创新驱动C.价格至上D.合作共赢8.刻蚀工艺中，湿法刻蚀和干法刻蚀相比，优势在于？A.精度高B.成本低C.污染小D.速度快9.半导体装备的发展趋势不包括？A.高精度B.低成本C.小型化D.高能耗10.以下哪个不属于北方华创的产品系列？A.刻蚀机B.光刻机C.清洗机D.氧化炉二、多项选择题（每题2分，共20分）1.北方华创的半导体装备涵盖以下哪些领域？A.刻蚀B.沉积C.清洗D.检测2.半导体制造中的关键工艺包括？A.光刻B.刻蚀C.沉积D.掺杂3.以下哪些是北方华创的企业价值观体现？A.诚信B.创新C.责任D.共赢4.物理气相沉积（PVD）的方法有？A.蒸发B.溅射C.化学气相沉积D.原子层沉积5.半导体设备的性能指标包括？A.精度B.速度C.稳定性D.兼容性6.北方华创在哪些行业有业务布局？A.半导体B.新能源C.航空航天D.医疗7.刻蚀工艺可分为？A.湿法刻蚀B.干法刻蚀C.化学刻蚀D.物理刻蚀8.半导体材料的特性有？A.导电性介于导体和绝缘体之间B.可通过掺杂改变导电性C.具有光电效应D.硬度极高9.北方华创的研发理念强调？A.自主创新B.引进吸收C.合作共赢D.快速迭代10.以下哪些属于半导体制造中的薄膜工艺？A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.原子层沉积D.电化学沉积三、判断题（每题2分，共20分）1.北方华创主要从事半导体装备的研发、生产和销售。（）2.光刻是半导体制造中唯一的图案定义工艺。（）3.化学气相沉积（CVD）属于物理工艺。（）4.北方华创的产品仅应用于半导体行业。（）5.刻蚀工艺的目的是去除不需要的材料。（）6.半导体材料的导电性不会受温度影响。（）7.北方华创注重技术创新和人才培养。（）8.物理气相沉积（PVD）只能沉积金属薄膜。（）9.半导体制造流程中，封装测试是最后一步。（）10.北方华创在行业内具有一定的市场竞争力。（）四、简答题（每题5分，共20分）1.简述北方华创的核心竞争力。北方华创核心竞争力在于技术研发强，掌握多种半导体装备关键技术；产品种类丰富，覆盖刻蚀、沉积等多领域；品牌认可度高，在行业内有良好口碑；服务体系完善，能为客户提供全方位支持。2.半导体刻蚀工艺的作用是什么？刻蚀工艺作用是将光刻定义的图案精确转移到半导体晶圆上，去除不需要的材料，形成集成电路所需的精细结构，确保芯片性能和功能符合设计要求。3.物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）有什么区别？PVD靠物理方法使材料沉积，如蒸发、溅射，沉积温度低，膜层与基底结合力弱；CVD通过化学反应沉积，沉积温度高，膜层质量好、均匀性佳，可精确控制成分。4.北方华创在半导体行业的发展前景如何？前景良好。半导体需求增长，北方华创技术实力强、产品丰富，能满足多样化需求；持续研发投入提升竞争力；国家政策支持，利于其拓展市场，实现进一步发展。五、讨论题（每题5分，共20分）1.讨论半导体装备国产化的重要性。半导体装备国产化可减少对国外依赖，保障产业安全，避免被“卡脖子”；降低成本，提高国内企业竞争力；带动上下游产业发展，促进技术创新，推动我国半导体产业自主可控、高质量发展。2.北方华创如何应对半导体行业的技术变革？北方华创应加大研发投入，吸引高端人才，保持技术领先；加强与高校、科研机构合作，共同攻克技术难题；关注行业动态，提前布局新兴技术，如先进封装、下一代半导体材料等。3.分析半导体制造工艺中光刻与刻蚀的关系。光刻定义图案，为刻蚀提供模板；刻蚀将光刻图案转移到晶圆上，二者紧密配合。光刻精度影响刻蚀图案的准确性，刻蚀效果决定芯片最终性能，缺一不可。4.探讨北方华创在环保方面可以采取的措施。可在设备设计上采用节能技术，降低能耗；优化工艺减少化学试剂使用，降低污染；建立废弃物回收处理体系，对废气、废水等有效处理；加强环保宣传，提高员工环保意识。答案一、单项选择题1.C2.C3.B4.B5.B6.C7.C8.B9.D10.B二、多项选择题1