PVD 真空镀膜工艺技师考试试卷及答案

PVD真空镀膜工艺技师考试试卷及答案一、填空题（共10题，每题1分）1.PVD的中文全称是______。2.常用PVD工艺包括蒸发镀膜、溅射镀膜和______。3.1torr≈______Pa（真空度单位换算）。4.溅射镀膜常用靶材类型有金属靶、合金靶和______。5.镀膜前工件表面处理第一步通常是______。6.离子镀常用离子源有霍尔离子源和______。7.影响膜层附着力的关键因素之一是工件表面______。8.PVD真空系统核心组成含真空室、真空泵组和______。9.常用膜厚测量方法有台阶仪、XRF和______。10.PVD广泛应用于刀具、模具、装饰和______领域。二、单项选择题（共10题，每题2分）1.溅射镀膜工作气压范围是（）A.10⁻³~10⁻²PaB.1~10PaC.10⁻¹~1PaD.10~100Pa2.高熔点材料（钨、钼）蒸发常用（）A.电阻蒸发源B.电子束蒸发源C.高频感应源D.激光源3.PVD工艺真空度一般要求（）A.10⁻³Pa以下B.10⁻²~10⁻¹PaC.1~10PaD.10⁻¹~1Pa4.PVD膜层常见应力类型是（）A.拉应力B.压应力C.无应力D.混合应力5.属于陶瓷靶的是（）A.TiB.Cr-AlC.Al₂O₃D.Cu6.离子镀比蒸发镀膜的优势是（）A.速率快B.附着力强C.成本低D.操作简单7.真空泵启动顺序是（）A.机械泵→罗茨泵→分子泵B.分子泵→罗茨泵→机械泵C.罗茨泵→机械泵→分子泵D.机械泵→分子泵→罗茨泵8.工件除油常用（）A.砂纸打磨B.化学除油C.喷砂D.抛光9.膜厚实时监控常用（）A.称重法B.石英晶体振荡法C.台阶仪D.XRF10.PVD与CVD相比特点是（）A.温度高B.成分易控C.复杂形状适配好D.速率慢三、多项选择题（共10题，每题2分）1.常用PVD工艺含（）A.蒸发镀膜B.溅射镀膜C.离子镀D.CVD2.PVD真空系统组成含（）A.真空室B.机械泵C.分子泵D.冷却水系统3.膜层性能指标含（）A.硬度B.附着力C.耐磨性D.厚度4.工件表面处理步骤含（）A.除油B.除锈C.粗化D.清洗5.离子源类型含（）A.霍尔离子源B.考夫曼离子源C.电子枪D.射频离子源6.靶材安装注意事项含（）A.贴合紧密B.表面清洁C.接地良好D.纯度达标7.常见膜层材料含（）A.TiNB.CrNC.DLCD.Al₂O₃8.PVD应用行业含（）A.刀具制造B.模具加工C.装饰五金D.半导体9.真空度测量仪器含（）A.热偶真空计B.电离真空计C.电容薄膜计D.压力表10.膜层缺陷含（）A.色差B.针孔C.剥落D.厚度不均四、判断题（共10题，每题2分）1.PVD需高真空环境（）2.溅射靶材必须导电（）3.蒸发镀膜有离子轰击（）4.真空度越高膜层质量越好（）5.离子镀膜附着力比蒸发强（）6.CVD是化学沉积，PVD是物理沉积（）7.靶材纯度越高性能越好（）8.镀膜前需除油除锈（）9.电子束蒸发适用于高熔点材料（）10.PVD膜层比CVD薄（）五、简答题（共4题，每题5分）1.简述PVD核心原理。2.工件表面处理的目的及步骤。3.溅射与蒸发镀膜的主要区别。4.真空泵组合及作用。六、讨论题（共2题，每题5分）1.如何提高PVD膜层附着力？2.膜层色差的常见原因及解决措施。---答案部分一、填空题答案1.物理气相沉积2.离子镀3.133.3224.陶瓷靶5.除油（脱脂）6.考夫曼离子源7.清洁度（或粗糙度）8.抽气管道9.椭圆偏振仪10.电子器件二、单项选择题答案1.B2.B3.A4.A5.C6.B7.A8.B9.B10.B三、多项选择题答案1.ABC2.ABCD3.ABCD4.ABCD5.ABD6.ABCD7.ABCD8.ABCD9.ABC10.ABCD四、判断题答案1.√2.×3.×4.×5.√6.√7.×8.√9.√10.√五、简答题答案1.PVD核心原理：通过物理方法（蒸发/溅射）将靶材转化为气态原子/离子，在高真空下运输至工件表面，经吸附、扩散、凝结形成膜层；真空环境避免气态粒子与空气碰撞，保证沉积效率和膜质。2.表面处理目的及步骤：-目的：去油污/锈迹，提高清洁度/粗糙度，增强附着力。-步骤：除油（化学/超声）→除锈（酸洗/喷砂）→粗化（喷砂/刻蚀）→干燥→装夹。3.溅射与蒸发区别：-源转化：溅射（粒子轰击靶材）vs蒸发（加热汽化）；-附着力：溅射强（离子轰击）vs蒸发弱；-靶材：溅射（金属/合金/陶瓷）vs蒸发（低熔点金属）；-速率：蒸发快vs溅射慢。4.真空泵组合及作用：-组合：机械泵（前级）+罗茨泵（增压）+分子泵（高真空）；-作用：机械泵抽低真空（10⁵~10⁻¹Pa），罗茨泵增压（10⁻¹~10⁻³Pa），分子泵抽高真空（10⁻³Pa以下）。六、讨论题答案1.提高附着力方法：①表面处理：严格除油除锈，适当粗化（喷砂）；②真空环境：保证10⁻³Pa以下，无残留气体；③离子轰击：镀膜前用离子源活化表面；④参数优化：调整偏压（增强轰击）、沉积温度（促进扩散）；⑤过渡层设计：如T