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文档简介
光学真空镀膜工艺技师考试试卷及答案一、填空题(共10题,每题1分)1.光学真空镀膜常用真空度单位有Pa和______。2.真空镀膜设备核心系统含真空获得、测量、______和镀膜源系统。3.电阻加热源常用材料有钨丝和______。4.减反射膜(AR膜)主要作用是______。5.基片镀膜前需______处理去除油污杂质。6.离子镀相比蒸发镀,膜层______更好。7.光学薄膜厚度常用单位是______。8.机械泵可获得______真空。9.多层膜沉积速率常用______监控。10.硬膜(SiO₂)沉积温度比软膜(MgF₂)______。二、单项选择题(共10题,每题2分)1.能获得10⁻³Pa以下高真空的设备是?A.机械泵B.旋片泵C.扩散泵D.分子泵2.单层AR膜常用材料是?A.SiO₂B.TiO₂C.MgF₂D.Al₂O₃3.膜厚不均的非原因是?A.蒸发源温不均B.工件架转速慢C.基片固定D.真空度过高4.离子轰击基片的作用是?A.提高速率B.增强附着力C.降温度D.减应力5.高折射率膜(n≈2.3)是?A.MgF₂B.SiO₂C.TiO₂D.Al₂O₃6.基片清洗后需?A.直接装夹B.烘干C.涂胶D.抛光7.扩散泵工作原理基于?A.分子扩散B.油蒸气喷射C.机械压缩D.离子轰击8.多层AR膜结构是?A.高低折射率交替B.高折射率单层C.低折射率多层D.金属膜9.真空度突降的原因是?A.阀门泄漏B.蒸发源通电C.工件架转动D.冷却水流量大10.属于CVD类的镀膜技术是?A.蒸发镀B.磁控溅射C.等离子体增强CVDD.离子镀三、多项选择题(共10题,每题2分)1.真空测量常用传感器有?A.热偶规B.电离规C.压力传感器D.温度计2.常见膜层缺陷有?A.针孔B.雾斑C.划痕D.厚度不均3.电阻蒸发源适合蒸发的材料有?A.金B.银C.铝D.氧化物4.离子镀类型包括?A.直流离子镀B.射频离子镀C.磁控溅射离子镀D.电子束离子镀5.光学薄膜性能参数有?A.折射率B.厚度C.应力D.透光率6.真空系统维护要点有?A.换机械泵油B.洗扩散泵油C.查阀门密封D.保冷却水通畅7.基片清洗方法有?A.化学清洗B.超声清洗C.离子轰击清洗D.抛光清洗8.多层膜设计原则有?A.折射率交替B.厚度匹配C.层数最少D.成本最低9.沉积速率影响因素有?A.蒸发源温度B.真空度C.基片温度D.工件架转速10.光学功能膜有?A.AR膜B.增反射膜C.滤光膜D.导电膜四、判断题(共10题,每题2分)1.真空度越高膜层质量越好。(×)2.电子束蒸发可蒸高熔点材料。(√)3.离子镀沉积温度比蒸发镀低。(×)4.AR膜层数越多减反射效果越好。(×)5.机械泵可直接获高真空。(×)6.基片温度越高附着力越好。(√)7.磁控溅射属PVD技术。(√)8.扩散泵需前级泵工作。(√)9.膜层应力只有压应力。(×)10.透明导电膜常用ITO膜。(√)五、简答题(共4题,每题5分)1.简述光学真空镀膜基本原理。答案:基于PVD/CVD原理,真空环境下将膜料(氧化物等)通过蒸发/溅射转化为气态原子,沉积在基片表面形成薄膜。真空避免膜料氧化,控制沉积速率、基片温度等参数,获得特定折射率/厚度的薄膜,实现减反射、增反射等功能。2.列举3种膜层缺陷及原因。答案:①针孔:基片杂质、蒸发源飞溅;②雾斑:真空不足、基片温低结晶不良;③厚度不均:蒸发源温不均、工件架转速慢。3.真空获得系统组成及作用。答案:由前级泵(机械泵)和高真空泵(扩散泵/分子泵)组成。前级泵获粗真空(10⁻¹~10⁰Pa),为高真空泵提供前级真空;高真空泵获高真空(10⁻³Pa以下),保证膜层纯度。4.AR膜应用及设计要点。答案:应用:眼镜片、相机镜头、太阳能板。设计要点:选合适膜料(单层MgF₂、多层高低交替),厚度λ/4(λ为设计波长),折射率匹配基片/空气,多层膜宽波段优化。六、讨论题(共2题,每题5分)1.如何提高膜层均匀性?答案:①工件架行星转动(自转+公转);②多源/宽源蒸发;③稳定蒸发源温度,调整转速(10~30转/分);④合理装夹基片避免遮挡;⑤保持稳定高真空。通过以上措施降低厚度/性能不均。2.新型光学膜材料(纳米复合、二维材料)应用前景及挑战。答案:前景:纳米复合膜实现宽波段减反射/高硬度,二维材料(石墨烯)用于透明导电膜。挑战:沉积工艺需精确控制速率/温度,纳米颗粒分布不均,材料成本高,二维材料易氧化。需突破工艺瓶颈推动产业化。答案汇总一、填空题1.Torr(托);2.工件架系统;3.钼片;4.减反射、增透光;5.清洗(化学+超声);6.附着力;7.纳米(nm);8.低(粗);9.石英晶体振荡器;10.高二、单项选择题1.D;2.C;3.D;4.B;5.C;6.B;7.B;8.A;9.A;10.C三、多项选择题1.AB;2.ABCD;3.ABC;4.ABCD
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