CN111164743B 用于脉宽调制的剂量控制的系统及方法 （朗姆研究公司）

2020.03.26PCT/US2018/0522462WO2019/067323EN2019.04.04US2005268853A1,2005.12.08US2012156363A1,2012.06.21US2017271184A1,2017.09.21注射器组件中的每一个与所述歧管流体连通且的每一个中的所述阀之间的制造差异和在所述多个注射器组件中的每一个中的所述阀的非一望的剂量从所述多个注射器组件中的每一个中2其中所述多个注射器组件中的每一个与所述歧管流体连基于在所述多个注射器组件中的每一个中的所述阀之间的制造差异和在所述多个注2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述多个注射器组件中的每一个还包含压力传感器，所述压力传感器感测在所述多个注射器组件中的每一个中的所述阀处的压3.根据权利要求2所述的衬底处理系统，其中所述剂量控制器被配置成针对每个阀基4.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述多个注射器组件中的每一个还包含5.根据权利要求4所述的衬底处理系统，其中所述剂量控制器被配置成针对每个阀基于对应的所感测到的所述气体温度而调整相应6.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述剂量控制器被配置成基于所述多个8.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其包含压力调节器以调节所述歧管内部的压9.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述剂量控制器被配置成调整所述脉冲13.根据权利要求12所述的衬底处理系统，其中所述多个注射器组件中的每一个还包且其中所述剂量控制器被配置成基于对应的所感测到的压力针对所述阀和所述旁通阀调14.根据权利要求12所述的衬底处理系统，其中所述多个注射器组件中的每一个还包3含温度传感器，其感测在所述多个注射器组件中的每一个中的对应的所述阀处的气体温述多个注射器组件中的每一个的所述阀与所述旁通阀的期望的重叠来改变对应的所述脉4[0002]本申请要求于2017年11月27日提交的美国临时专利申请No.62/590,815的优先此外，气体混合物可在行进通过气体输送系统期间起反应。一些工艺，例如原子层蚀刻[0007]一种用于处理衬底的衬底处理系统包含：歧管和位于处理室内的多个注射器组所述多个注射器组件中的每一个中的所述阀之间的制造差异和在所述多个注射器组件中5成的上游偏斜和预补偿从后续工艺预期的下游偏的这些阀之间的制造差异和在所述多个注射器组件中的每一个中的这些阀的非一致性中对所述多个注射器组件中的每一个所述阀与所述旁通阀的期望的重叠来改变脉6个歧管中的第一者供给第一气体混合物，且同时使用所述Y组注射器组件中的第二者从所N个注射器组件中的每一个中的所述阀处的压力。所述剂量控制器被配置成基于对应的所在所述N个注射器组件中的每一个中的所述阀处的气体温度。所述剂量控制器被配置成基中的这些阀之间的制造差异和在所述N个注射器组件中的每一个中的这些阀的非一致性中件中的每一个还包含压力传感器，其感测在所述N个注射器组件中的每一个中的所述阀处N个注射器组件中的每一个中的所述阀处的气体温度。所述剂量控制器被配置成基于对应的气体温度而调整所述阀和所述旁通阀的脉冲宽7个中的这些阀之间的制造差异和在所述多个注射器组件中的每一个中的这些阀的非一致应的气体温度而调整所述阀和所述旁通阀的脉8些阀之间的制造差异以及在所述多个注射器组件中的每一者中的这些阀的非一致性中的[0041]供给流体至衬底处理系统来处理衬底的方法包含：在处理室中布置Y组注射器组组件中的N个注射器组件中的每一者分别耦合至N个歧管中的一者。所述N个注射器组件中N个歧管的一者供给第一气体混合物，且同时使用所述Y组注射器组件的另一者从所述N个阀之间的制造差异和在所述N个注射器组件中的每一者中的这些阀的非一致性中的至少一测在所述N个注射器组件中的每一者中的所述阀处的气体温度，以及还基于对应的气体温9在处理室中布置多个注射器组件。所述多个注射器组件中的每一者与所述歧管流体连通，别调整输出至与所述R组相关联的这些阀的脉冲宽度，将所述主气体流量对应于所述主气体流量的R个预定流量比例而分流为R个气体流量，其中所述R个预定流量比例中的至少一些阀之间的制造差异以及在所述多个注射器组件中的每一者中的这些阀的非一致性中的[0053]图1为根据本公开内容的衬底处理系统的示例的功能框图，该衬底处理系统包含有制造差异或其他不一致性的两个注射器来提[0056]图4A-4D为图表，其图解了分区布置的单个注射器或成组的注射器之间在时序上[0066]图19A-19C图解用于将注射器分割成一或多组来根据本公开内容使得能在空间上[0076]根据本公开内容的系统和方法使得能够使用在处理室内部的多个注射器将精确的气体剂量注射到处理室内。这些注射器可在阻塞流动状态或非阻塞流动状态下进行操[0077]脉冲宽度可通过剂量控制器改变，以补偿注射器之间的制造差异和/或其他非一传感器在该歧管中和/或在注射器处进行测量，这些压力传感器具有高于注射器切换频率量和/或经验数据的组合。在一些示例中，在歧管内的压力通过压力调节器进行主动地控及66-N(统称为MFC66)。MFC66控制从气体源62至歧管68(气体于该处混合)的气体流量。[0084]在一些示例中，衬底支撑件54的温度可通过电阻式加热器76和/或冷却剂通道78别布置在歧管68或歧管72中以测量压力。阀92和泵94可用于从处理室52排空反应物和/或[0085]控制器96包含剂量控制器98，其控制通过该多注射器喷头74所提供的配料显示)和/或测量冷却剂温度的传感器(未显示)的温度回馈而控制衬底支撑件54和衬底56使用相同脉冲宽度(特别是较短的脉冲宽度)时可能不提供相同的剂量。如果两个注射器些注射器来提供不同配料时，可进行类似的补偿。在一些示例中，这些注射器进行台架154-X(统称为VFR154)的入口处感测压力。VFR15包含多个注射器204。主动式喷头200的示例进一步显示和描述于提交于XXXXXXXXX,XX,传感器296与温度传感器298以测量在腔282中的压器(例如上文所述的那些)，其针对上游和/或下游衬底非一致性或偏斜(此处统称为偏斜(skew))提供补偿。偏斜数据可与具有厚于边缘区域的中央区域、厚于中央区域的边缘区于处理室482的下游，以在处理之后在衬底上执行一或多个测量并针对该衬底产生计量数量映像模块514。该剂量映像模块514基于来自补偿模块512的偏斜补偿数据而补偿基底剂增加或减少针对前体或蚀刻气体的局部剂量或暴露的持续时间。剂量映像模块514将补偿多个下游工艺所造成的偏斜而预补偿输出的衬底。剂量映像模块560基于输出衬底的期望偿模块572还接收在574的针对下游衬底的期望空间图。补偿模块572针对输出的衬底产生或成组的注射器提供不同的注射器剂量控制时序。与时序分布A相关联的个别注射器或成分布D相关联的个别注射器或成组的注射器在对应的周期期间具有固定的脉冲宽度。与个别注射器或成组的注射器相关联的可变的脉冲宽度使得能对空间和/或时间配料进行精确A相关联的注射器或成组的注射器对于一些时间周期具有与时序分布B及C相似的脉冲宽及654-N中的一者。该布置使得供给至N个歧管654的气体混合物能输送至成组的注射器组预定比例的主流量在不需要分流器的情况下能输送至该R个[0119]与该R个组相关联的注射器使用R个脉冲宽度进行控制，以提供供给至歧管718的1/2的脉冲宽度进行脉冲输送，以使流至该R个组中的所述一者的流较少且使流至该R个组解释为意味着使用非排他性逻辑或(OR)的逻辑(A或B或C)，并且不应被解释为表示“A中的工具和其他转移工具和/或与具体系统连接或通过接口可以包括存储程序指令的固件形式的芯片、数字信号处理器(DSP)、定义为专用集成电路指令可以是以各种单独设置(或程序文件)的形式发送到控制器的指令，单独设置(或程序文件)定义用于在半导体晶片或系统上或针对半导体晶片或系统执行特定工艺的操作参述的工艺和控制)工作的一个或多个分立的控制器而呈分布式。用于这种目的的分布式控制器的示例是在与远程(例如在平台级或作为远程计算机的一部分)的一个或多个集成电或用于半导体晶片的制造和/或制备的任何