CN111755362B 基片处理装置及基片处理方法 （东京毅力科创株式会社）

JP2017195338A,201JP2018139259A,201本发明提供一种基片处理装置及基片处理预定的混合比混合作为处理液的原料的第一磷述混合液从所述混合部输送至所述处理部的送2混合部，其按预定的混合比混合作为所述处理液的原料的第一磷酸混合比修正部，其修正所述处理液的原料的混合比，具有将输送至所述处理部的送液线路和在所述送液线路的中途供给第二磷酸的第二磷酸供给部；和控制部，其控制所述第一磷酸与所述氧化硅析出抑制剂的第一混合所述混合部包括：用于贮存所述混合液的混合罐；对所述混合罐供第一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述氧化硅析出抑制剂的氧化硅析出抑制剂供给所述控制部通过基于所述基片的处理条件变更所述第一混合比和所述第二混合比中所述基片的处理条件是所述基片的要用所述处理液处理的图所述控制部在调配完的所述混合液从一个所述混合罐中被取出并向所述处理部输送所述控制部在多个所述混合罐中按预定的顺序切换要向所述处理部送出调配完的所所述送液线路包括对多个所述处理部单独地输送所述混合液的单独所述混合比修正部包括在所述送液线路的中途暂时贮存所述混合液和所述第二磷酸所述混合比修正部具有使从所述缓冲罐取出的所述处理液返回至所述缓冲罐的循环按预定的第一混合比混合作为处理液的原料的第一磷酸与氧化硅析出按预定的第二混合比混合所述混合液与第二磷酸，来修正所述处理液3在所述基片处理方法中，通过基于所述基片的处理条所述基片的处理条件是所述基片的要用所述处理液处理的图包括在调配完的所述混合液从一个混合罐中被取出并向处理所述基片的处理部输送包括在多个混合罐中按预定的顺序切换要向处理所述基片的处理部送出调配完的所所述层叠膜具有在厚度方向上贯通所述层叠膜所述处理液有选择地蚀刻所述硅氧化膜和所述硅氮化膜中的所述4[0021]图9是表示一实施方式的处理液的原料的混合比与第二混合比(Q2:Q1)的关系的5[0022]图10是表示一实施方式的每一批次的基片的片数与Q1和Q2之和(Q1+Q2)的关系的6般的添加剂。的第二混合比(Q1:Q2)将混合液与第二磷酸混合来调配处理液3。混合比修正部6作为处理[0059]混合部5可以具有循环线路54，循环线路54使从混合罐51取出的混合液返回至混7[0060]混合部5在循环线路54的中途可以具有方向切换阀57。方向切换阀57将混合液的流动方向切换为返回至混合罐51的第一方向或送至混合比修正部6的第二方向。向第一方[0061]混合部5可以具有排液部58，排液部58将混合液从混合罐51中排出到基片处理装[0062]混合部5可以具有残留液测量部59，残留液测量部59测量残留在混合罐51中的混[0064]混合比修正部6具有送液线路61和第二磷酸供给部62。送液线路61将混合液从混以水溶液的形式供给。第二磷酸水溶液的磷酸浓度和第一磷酸水溶液的磷酸浓度可以相[0065]混合比修正部6具有第一流量计63和第二流量计64。第一流量计63在混合液与第的流量q2之和(参照图2)。第一磷酸与氧化硅析出抑制剂的流量比(q2:q1)与第一混合比[0066]混合比修正部6在送液线路61的中途可以具有缓冲罐65。缓冲罐65暂时贮存混合[0067]混合比修正部6可以具有使从缓冲罐65取出的处理液3返回至缓冲罐65的循环线[0068]送液线路61具有上游线路61a和下游线路61b。上游线路61a将多个混合罐51与缓8[0072]处理槽71例如是二重槽，具有贮存处理液3的内槽71a和回收从内槽71a溢出的处[0073]处理部7具有循环线路72，循环线路72将从外槽71b取出的处理液3送至内槽71[0077]处理部7具有液供给部78，液供给部78将新的处理液3从混合比修正部6导入处理7排出的旧的处理液3的流量Q3(L/min)可以相等。由于将新的处理液3与旧的处理液3以等[0081]处理部7具有第二添加剂供给部80，第二添加剂供给部80对处理槽71供给硅浓度9[0084]上述程序存储在例如计算机可读存储介质中，从其存储介质安装到控制部9的存[0086]混合部5为了将新的处理液3供给到多个处理部7，从一个混合罐51取出调配完的[0090]处理液3的原料的混合比，例如磷酸与氧化硅析出抑制剂的混合比的最佳值对于[0091]处理液3的原料的混合比也可以依赖于图案27以外的处理条件。处理条件包括：输入到控制部9的条件例如是除了基片2的图案27之外的基片2的处理时间及每批基片2的[0092]磷酸与氧化硅抑制剂的混合比，如上所述也可以依赖于除了基片2的图案27以外[0093]具体而言，控制部9从预先存储的多个混合比中将氧化硅析出抑制剂的比率最高的混合比确定为第一混合比(M:N)。这是因为氧化硅析出抑制剂的比率如后所述能够通过9如上所述从预先存储的多个混合比中将氧化硅析出抑制剂的比率最高的混合比确定为第要变更第一混合比(M:N)的情况下，进行排液直到没有旧的第一混合比(M:N)的混合液为[0097]控制部9在实施从混合罐51的排液(S102)的期间，进行至少一部分的氧化硅析出53a的注入。由于同时实施混合罐51的排液(S102)和至少一部分的氧化硅析出抑制剂的计次数少于N次的情况下(S106，否)，由于氧化硅析出抑制剂的供给量不足，控制部9返回[0100]图7是表示一实施方式的第一混合比(M:N)与供给次数N的[0104]图9是表示一实施方式的处理液的原料的混合比与第二混合比(Q2:Q1)的关系的[0107]图10是表示一实施方式的每批基片的片数与Q1和Q2之和(Q1+Q2)的关系的图。由[0108]另一方面，在供给指令的目的是将新的混合比的处理液3贮存在处理槽71中的情[0110]混合液的供给(S204)或混合液和第二磷酸的供给(S205)供给被实施直到达成供[0112]上述实施方式的控制部9控制磷酸与氧化硅析出抑制剂的混合比，但是添加剂的[0114]因此，磷酸与硅浓度调节剂的混合比也和磷酸与氧化硅析出抑制剂的混合比同从预先存储的多个混合比中将硅浓度调节剂的比率最高的混合比确定为第一混合比(M: