CN119758494A 一种双层非球面微透镜阵列结构、照明装置及其制备方法_第1页
CN119758494A 一种双层非球面微透镜阵列结构、照明装置及其制备方法_第2页
CN119758494A 一种双层非球面微透镜阵列结构、照明装置及其制备方法_第3页
CN119758494A 一种双层非球面微透镜阵列结构、照明装置及其制备方法_第4页
CN119758494A 一种双层非球面微透镜阵列结构、照明装置及其制备方法_第5页
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(12)发明专利申请(10)申请公布号CN119758494A(54)发明名称(57)摘要2所述第一非球面微透镜阵列(200)的折射率小于所述第二非球面微透镜阵列(100)的折射率。3射率；通过纳米压印技术将所述第二母版转印得到第二样板，使所所述第一母版和第二母版满足：当所述第一靶标与第二靶标第一母版上的第一非球面凸起阵列和所述第二母版上的第二非球面凸起阵列中的凸起面利用如权利要求6至11中任一项所述的制备方法得到所45所述第二非球面微透镜阵列的一表面设有与所述第一非球面微透镜阵列的第一6部的口径小于所述第一凹形部的口径，且所述第二凹形部和第一凹形部的底面均为非球和/或，所述第二非球面微透镜阵列和所述第一非球面微透镜阵列的材质为光刻和/或，所述第二凹形部的中心到对应的第一凹形部的中心的距离大于第一非球7版上的第一非球面凸起阵列与所述第二母版上的第二非球面凸起阵列对8附图说明[0021]图1为本发明的一个示例性实施例提供的具有双层非球面微透镜阵列结构的高准图5为本发明的一个示例性实施例提供的通过激光灰度直写光刻制造第一母版的图6为本发明的一个示例性实施例提供的通过激光灰度直写光刻制造第二母版的图7为本发明的一个示例性实施例提供的第一母版一次转印得到第一样板、二次图8为本发明的一个示例性实施例提供的第二母版一次转印得到第二样板、二次9[0025]在本发明的一个实施例中，提供了一种双层非球面微透镜阵列结构，适用于第二非球面微透镜阵列100的一表面设有与第一非球面微透镜阵列200的第一凹形部210相适配的凸起部110,相对的另一表面设有阵列排布的多个第二凹形部120,第二凹小于第二凹形部120的中心的曲率半径；第二凹形部120的中心到对应的第一凹形部210的列200的折射率范围介于1.3至1.5,比如可选为1.45;第二非球面微透镜阵列100的折射率S400:在高折率光刻胶层820上滴胶以得到第二胶层，第二胶层具有第二折射率，层形成呈如图9所示的阵列排布的多个第二凹形部120;第二凹形部120与第一凹形部210一[0033]如图5所示，通过激光灰度直写光刻制造第一非球面微透镜阵列的第一母版510,如图6所示，通过激光灰度直写光刻制造第二非球面微透镜阵列的第二母版520,对齐时，第一母版510上的第一非球面凸起阵列512与第二母版520上的第二非球面凸起阵列522对齐：如图4所示第一非球面凸起阵列512中的非球面凸起中心与第二非球面凸起阵[0036]参见图7,通过纳米压印技术将第一母版510转印得到第一样板610,使第一样板610被压印的表面形成与第一非球面凸起参见图8,通过纳米压印技术将第二母版520转印得到第二样板620,使第二样板520

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