CN114442424B 一种真空吸盘、纳米压印设备及其控制方法 （苏州光舵微纳科技股份有限公司）_第1页
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新区建业路2号常熟先进制造业科技2所述吸附单元连接有负压控制装置，所述负压控制装所述吸盘本体(1)上表面还设置有定位槽(12)，所述定位槽(12)内设置有多个环形真6.一种真空吸盘控制方法，其特征在于，使用如权利要求1-4中任一项所述的真空吸步骤一，在真空吸盘吸盘本体(1)设置吸附孔(2)阵列，步骤二，负压控制装置控制各吸附单元在滚压机构的滚34[0030]本发明的有益之处在于，通过设置阵列排布的吸附孔2，在压印过程中逐步吸真5直的方向一列或多列吸附孔2连通形成一个吸附单元；所述吸附孔2阵列形成多个吸附单67

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