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文档简介

号供的检测光斑经所述投影单元投影至一待测面第二光斑，所述第二探测器获取第二光斑的功和所述第二光斑的功率计算出所述待测面的离2所述投影单元用于将所述检测光斑投影至一待测面上，并经所述待测所述探测单元包括探测狭缝、第一探测器和第二探测器；所述探测狭缝所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率得到所述待测面所述耦合镜组和所述滤波片用于调制并选择所述光所述第一反射镜用于将经所述第一光阑的所述光照反射至所述6.如权利要求4所述的调焦调平装置，其特征在于，所述投影狭缝的位置满足如下条7.如权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述探测狭缝的位置满足如下条3ξ为所述反射光斑入射至所述探测狭缝的入射角；一凹面镜汇聚的所述检测光斑转换为发散的所述检测光斑并传递至所述11.如权利要求10所述的调焦调平装置，其特征在于，所述探测单元还包括第五反射所述第三凹面镜汇聚的所述反射光斑转换为发散的所述反射光斑并传递至所述第四凹面其中，所述检测光斑经所述投影单元入射至所述硅片上，经所述硅片反射4所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率计算出所述硅片其中，5[0010]所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率得到所述待6汇聚的所述检测光斑转换为发散的所述检测光斑并传递至所述第7面镜汇聚的所述反射光斑转换为发散的所述反射光斑并传递至所[0051]所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率计算出所述8述待测面M反射形成反射光斑并投射至所述探测单元30。所述探测单元30包括探测狭缝9二透镜202和第二反射镜203。所述检测光斑经所述第一透镜201汇聚并传递至所述第二反测狭缝301、所述第一探测器302以及所述第二探测器303一次性测量到相差180相位的所[0089]请继续参阅图4，所述探测单元30还包括第三透镜304、第二光阑305和第四透镜205和所述第二凹面镜207用于反射并汇聚所述检测光斑。所述第一凸面镜206用于将经所述第一凹面镜205汇聚的所述检测光斑转换为发散的所述检测光斑并传递至所述第二凹面面镜309以及第六反射镜311。所述检测光斑依次经所述第五反射镜307、所述第三凹面镜309用于将经所述第三凹面镜308汇聚的所述反射光斑转换为发散的所述反射光斑并传递[0102]步骤四S40：所述数据处理单元40根据所述第一光斑a的功率和所述第二光斑b的并使得经所述透光区和所述反射区的检测光斑分别被第一探测器302和第二探测器303所

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