GBT 43798-2024 平板显示阵列用正性光阻材料测试方法标准立项发展报告

平板显示阵列用正性光阻材料测试方法标准立项发展报告StandardizationDevelopmentReport:TestMethodsforPositivePhotoresistMaterialsUsedinFlatPanelDisplayArrays摘要随着显示产业的飞速发展，平板显示技术已从传统的液晶显示（LCD）向有机发光二极管显示（OLED）、有源矩阵有机发光二极管显示（AMOLED）及微型发光二极管显示（MicroLED）等多元化技术方向演进。光阻材料作为平板显示阵列制造工艺中的关键性功能材料，其性能直接决定显示面板的图形精度、良品率及最终显示品质。然而，长期以来我国在平板显示用正性光阻材料测试方法领域缺乏统一的国家标准，导致各生产企业测试手段不一、数据可比性差，严重制约了产业链上下游的协同发展。本报告系统阐述了GB/T43798-2024《平板显示阵列用正性光阻材料测试方法》国家标准的立项背景、编制原则、主要技术内容及预期实施效果。该标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出并归口，于2024年3月15日由国家市场监督管理总局（国家标准化管理委员会）正式发布，自2024年10月1日起实施。标准的发布填补了我国平板显示用正性光阻材料测试方法领域的标准空白，对于规范市场秩序、提升产品质量、促进国产光阻材料在新型显示产业中的推广应用具有里程碑式的意义。关键词：平板显示阵列；正性光阻材料；测试方法；国家标准；光刻胶；显示产业Keywords:FlatPanelDisplayArray;PositivePhotoresistMaterials;TestMethods;NationalStandard;Lithography;DisplayIndustry一、引言1.1研究背景平板显示产业是国家战略性新兴产业的重要组成部分，也是新一代信息技术产业的核心基础之一。近年来，在国家和地方政府一系列政策的大力支持下，中国大陆已成为全球最大的平板显示产业制造基地。据中国光学光电子行业协会液晶分会（CODA）统计数据，2023年中国大陆显示面板产能占全球总产能的比例已超过65%，京东方、TCL华星、天马微电子等龙头企业均在国内设有大规模高世代生产线。光阻材料（又称光刻胶）是平板显示阵列制造过程中不可或缺的关键材料，其作用在于通过光刻工艺将掩膜版上的电路图形转移至基板表面。在薄膜晶体管液晶显示（TFT-LCD）阵列制程中，正性光阻材料被广泛应用于光刻工序，其分辨率、感度、均匀性、耐蚀刻性等性能指标对最终显示面板的良率与可靠性具有决定性影响。然而，国际市场上平板显示用正性光阻材料长期由日本、韩国等国家的少数企业高度垄断，如东京应化（TOK）、JSR、住友化学、LG化学等。近年来，国内光阻材料企业如苏州瑞红、彤程新材、南大光电等虽已实现部分型号产品的批量供货，但由于缺乏统一的测试方法标准，产品性能评价体系不完备，下游面板厂商对国产材料的认证与导入面临诸多困难。1.2标准立项的必要性在GB/T43798-2024发布之前，我国涉及光阻材料测试的标准主要面向半导体集成电路领域（如GB/T39720-2020等），针对平板显示阵列工艺特性的测试方法标准尚属空白。由于平板显示阵列用光阻材料在基板尺寸、膜厚范围、曝光波长、工艺环境等方面与半导体用光阻材料存在显著差异，直接套用半导体领域的测试标准无法准确全面地反映其真实性能。因此，制定专门针对平板显示阵列用正性光阻材料测试方法的国家标准，建立科学统一的技术评价体系，已成为促进我国显示产业健康可持续发展、保障关键材料自主可控的迫切需求。二、标准编制概况2.1标准基本信息-标准编号：GB/T43798-2024-标准名称：平板显示阵列用正性光阻材料测试方法-英文名称：Testmethodsforpositivephotoresistmaterialsusedinflatpaneldisplayarrays-标准性质：推荐性国家标准-发布日期：2024年3月15日-实施日期：2024年10月1日-发布机构：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会-技术归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC203）-标准状态：现行-国际标准分类号（ICS）：31.030（电子技术专用材料）-中国标准文献分类号（CCS）：L902.2编制原则本标准的编制遵循以下基本原则：（1）科学性原则：各项测试方法的确定基于充分的实验验证和理论分析，确保检测数据的准确性、重复性和再现性。（2）适用性原则：充分考虑平板显示阵列制造工艺的实际需求及生产环境条件，确保标准的可操作性和实用性。（3）协调性原则：在技术内容上与现有相关国家和行业标准保持协调一致，对涉及半导体领域的通用测试方法予以合理引用。（4）先进性原则：紧跟国际显示技术发展趋势，适当借鉴SEMI、IEC等国际标准组织的相关标准成果，确保标准的国际兼容性。（5）规范性原则：按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的要求编写。三、标准主要技术内容GB/T43798-2024《平板显示阵列用正性光阻材料测试方法》规定了平板显示阵列制造工艺用正性光阻材料的各项性能测试方法，主要包括以下技术内容：3.1适用范围本标准适用于平板显示阵列（包括TFT-LCD、AMOLED等）制程中使用的正性光阻材料的性能测试，涉及的基板类型涵盖玻璃基板及柔性基板。标准所规定的各项测试方法适用于材料研发、生产质量控制及来料检验等环节。3.2一般要求标准对测试环境条件（温度、湿度、洁净度）、试剂要求、仪器设备校准及安全注意事项等作出统一规定，以保证各实验室测试条件的一致性和可比性。3.3主要测试项目标准涵盖的测试项目主要包括但不限于以下方面：（1）固体含量测试：规定采用烘箱干燥法测定光阻材料中固体成分的质量百分比，该指标直接影响涂布膜厚控制精度。（2）粘度测试：采用旋转粘度计法，在规定的温度条件下测定光阻液体的动力粘度。粘度是评价光阻材料涂布性能的核心指标，对膜厚均匀性和涂布缺陷具有显著影响。（3）密度测试：在规定温度下测定光阻材料的密度，用于配方批次一致性评估。（4）过滤精度测试：通过微孔过滤法评价光阻材料中颗粒物的粒径分布及含量。（5）金属离子含量测试：采用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定材料中钠、铁、铜、锌等微量金属离子含量，是评价材料纯净度的重要指标。（6）涂布性能测试：包括涂布膜厚、膜厚均匀性、涂布外观（条纹、气泡、针孔）等项目的测试方法。（7）光学性能测试：包括透光率、感度（光速度）、对比度、分辨率和锥角等参数的测定方法。（8）耐热性能测试：测定光阻膜在不同温度条件下的热稳定性及其对图形尺寸稳定性的影响。（9）耐蚀刻性能测试：评估光阻膜在干法蚀刻和湿法蚀刻条件下的耐受能力及抗蚀刻因子。（10）剥离性能测试：规定光阻膜剥离液的可去除性和剥离速度的测试方法。四、主要编制单位介绍本标准的制定汇聚了我国显示材料领域产学研用各方的优势力量，其中苏州瑞红电子化学品有限公司（以下简称“苏州瑞红”）作为核心起草单位之一，在标准编制过程中发挥了关键的技术支撑作用。苏州瑞红电子化学品有限公司成立于1993年，是国内最早从事光刻胶及配套精细化学品研发与生产的高新技术企业之一。公司总部位于江苏省苏州市，拥有研发中心、应用评价实验室及规模化生产基地，生产的正性光刻胶产品广泛应用于半导体集成电路和液晶显示面板制造领域。经过三十余年的深耕发展，苏州瑞红已建立起覆盖产品研发、分析检测、应用验证全流程的技术体系，在光阻材料配方设计、纯化工艺和质量控制方面积累了丰富的工程经验。在标准编制过程中，苏州瑞红承担了以下主要职责：第一，牵头起草了标准中涂布性能测试方法和耐热性能测试方法等技术条款，将企业在量产实践中的检测经验和技术诀窍转化为具有普适性的标准化检测方案，确保测试方法的工业生产适用性。第二，依托其完善的分析检测平台，组织了多批次标准验证试验工作，对各项测试方法的精密度和重复性进行系统评价，为技术指标的最终确定提供了翔实可靠的实验数据支撑。第三，作为国内光阻材料产业的代表性企业，苏州瑞红在标准讨论过程中充分反映了国内材料生产企业的技术与产业诉求，在保证标准技术先进性的同时兼顾了国内产业的实际发展水平，促进标准顺利落地实施。此外，标准编制过程中还得到了京东方科技集团股份有限公司、TCL华星光电技术有限公司等下游面板制造企业及中国电子技术标准化研究院等科研机构的大力支持和积极参与，充分体现了产业链上下游协同创新的标准化工作模式。五、标准实施的意义与预期效果5.1填补标准空白，完善标准体系GB/T43798-2024的发布填补了我国平板显示用正性光阻材料测试方法标准的空白，与现有半导体光刻胶相关标准共同构建起覆盖显示和半导体两大应用领域的光刻材料测试标准体系，为新型显示材料领域的标准化工作奠定了重要基础。5.2促进产品质量提升，保障供应链安全标准的实施为国产平板显示用正性光阻材料的质量评价提供了统一的"标尺"，有助于国内光阻材料企业对标国际先进水平持续改进产品性能。同时，统一测试方法也为下游面板厂商提供了客观可靠的来料检验依据，降低了国产材料导入的技术壁垒，对促进关键材料国产化替代、保障产业链供应链安全具有重要意义。5.3推动产业协同发展统一的测试方法标准有助于打破不同企业间因测试手段不一致而产生的技术壁垒，促进产业链上下游的信息互通和技术协同。此外，该标准的发布还将为后续相关产品规范标准（如性能规范、验收条件等）的制定提供基础和参考，进一步完善我国新型显示材料标准体系。5.4增强国际竞争力本标准的制定充分参考了国际先进标准成果。标准发布后，有望推动我国平板显示光阻材料测试方法标准走向国际，增强我国在全球显示材料领域的技术话语权和国际竞争力。六、结论与展望GB/T43798-2024《平板显示阵列用正性光阻材料测试方法》是我国平板显示材料领域一项重要的基础性标准。该标准的发布和实施，体现了国家对新型显示产业关键材料质量保障的高度重视，是我国显示产业标准化工作的重要里程碑。参考文献[1]国家市场监督管理总局,国家标准化管理委员会.GB/T43798-2024平板显示阵列用正性光阻材料测试方法[S].北京:中国标准出版社,2024.[2]全国半导体设备和材料标准化技术委员会.平板显示阵列用正性光阻材料测试方法国家标准编制说明[Z].2023.[3]GB/T1.1-2020标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则[