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文档简介

结构以及位于相邻的两个遮光结构之间的透光遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的透过的出射光束和在透光区处透过的出射光束2衬底、位于所述衬底上的多个分立的遮光结构以及位于相邻的两所述遮光结构至少包括透光率不同的第一遮光结构和第二遮光构和所述第二遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在所述衬底上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在所述透光区处透过的出射光束之间具有6.根据权利要求5所述的掩模版,其特征在于,所述刻蚀停止层的透光率的范围在结构沿所述衬底的边缘设置并覆盖至少部分沿所述衬底的边缘设置且材料包括相移材料在所述衬底上形成多个分立的遮光结构,将相邻的所述遮光遮光结构和所述第二遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在所述衬底上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在所述透光区处透过的出射光束之间形成第一保护层,所述第一保护层覆盖位于所述第一区域的所述衬形成第二遮光材料层,所述第二遮光材料层覆盖位于所述第二区3形成第二保护层,所述第二保护层覆盖位于所述第一区域、所述第二区形成第三遮光材料层,所述第三遮光材料层覆盖所述第三区域以及位于去除位于所述衬底的中间区域的所述遮蔽材料层以形成遮蔽结构刻蚀所述第一遮光材料层以在所述第一区域刻蚀工艺中刻蚀所述遮蔽材料层和所述第一遮光材料层以分别形成遮蔽结构和第一遮光所述方法还包括:去除位于所述衬底的中间区域的所述遮蔽结构沿所述衬底的边缘设置,并覆盖至少部分位于所述衬底的边缘区域的所述第一遮光结4光结构和所述第二遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在所述衬底上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在所述透光区处透过的出射光束之间具设置并覆盖至少部分沿所述衬底的边缘设置且材料包括相移材料的所述遮光5第一遮光结构和所述第二遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在所述衬底上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在所述透光区处透过的出射光束缘设置的所述遮光结构的材料包括透光率大于0的相移材料;在所述衬底上形成多个分立一道刻蚀工艺中刻蚀所述遮蔽材料层和所述第一遮光材料层以分别形成遮蔽结构和第一6遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在所述衬底上设置有相移材7或其它取向)并且在此使用的空间描述语相应8又一实施例提供的掩模版的结构示意图,图5为本公开另一实施例提供的掩模版的结构示包括透光率大于0的相移材料,且在衬底10上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和[0059]在实际操作中,本公开实施例提供的掩模版可以用于制造动态随机存取存储器[0061]第一遮光结构12和第二遮光结构15中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,在衬底10上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在透光区104处透过的出射光[0063]在一实施例中,第一遮光结构12和第二遮光结构15的材料均包括透光率大于0的光结构15的透光率为30且第一遮光结构12的材料为硅化钼,第二遮光结构15的材料为钼。二遮光结构15中材料为相移材料的一者的透光率的范围在3%至15%之间(包括端点值)或9[0070]如图4至图5所示,在本公开的再一实施例中,衬底10还包括至少一个第三区域光结构17中的一者的透光率为0,用于转移尺寸较大且对曝光工艺的分辨率要求较低的图案,另外两者的材料包括透光率大于0的相移材料,用于转移需要更高的曝光分辨率的图光结构和第二遮光结构中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,且在衬底上设置[0080]图7至图13为本公开实施例提供的掩模版的制造方法的工艺流程图,图14至图15料包括透光率大于0的相移材料,且在衬底10上设置有相移材料的位置处透过的出射光束[0088]形成第一保护层14,第一保护层14覆盖位于第一区域101的衬底10以及第一遮光[0096]第一遮光结构12和第二遮光结构15中至少一者的材料包括透光率大于0的相移材料,在衬底10上设置有相移材料的位置处透过的出射光束和在透光区104处透过的出射光[0098]在一实施例中,第一遮光结构12和第二遮光结构15的材料均包括透光率大于0的光后形成的图形的影响,其透光率的范围在15%至50%之间(包括端点值),例如18%、光结构15的透光率为30且第一遮光结构12的材料为硅化钼,第二遮光结构15的材料为钼。二遮光结构15中材料为相移材料的一者的透光率的范围在在3%至15%之间(包括端点值)底10的边缘设置的遮光结构20的材料包括透光率大于0的相移材料;在衬底10上形成多个[0107]图16至图17中示出的遮蔽结构13是在形成遮光结构20之′′光结构17中的一者的透光率为0,用于转移尺寸较大且对曝光工艺的分辨率要求较低的图案,另外两者的材料包括透光率大于0的相移材料,用于转移需要更高的曝光分辨率的图[0131]当第一遮光结构12、第二遮光结构15和第三遮光结构17中透光率为0的一者设置

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