CN119403382A 显示面板、显示设备和显示面板的制作方法 （合肥维信诺科技有限公司）

层背离基板的一侧，隔离结构围合形成隔离开一结构层的抗刻蚀性强于第二结构层的抗刻蚀2隔离结构，设置于所述像素界定层背离所述第二结构层远离所述基板的一侧的表面在所述基板上的正投影面积小于第三结构层在所的正投影面积小于第三结构层在所述基板上的6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示正投影面积小于第一结构层在所述基板上的3所述发光结构设置在所述像素开口和所述隔离开口中，且位于所优选地，所述封装结构层还包括第二封装层，所述第优选地，所述封装结构层还包括第三封装层，所述第述第一结构层的抗刻蚀性强于所述第二结构述像素界定层设置于所述基板上，所述隔离结构位于所述像素界定层背离所述基板的一所述像素单元还包括第二电极和发光结构，所述第二电极设置在所述所述发光结构设置在所述像素开口和所述隔离开口中，且位于所优选地，所述第一结构层具有导电性，所述第一所述第四结构层位于所述第一结构层和所述第二4提供待制作隔离结构的背板，所述背板包括基板和像素界定层，所述在所述至少部分结晶的第一结构层和所述像素界定层上形成第二结构材料层和第三所述图案化所述第二结构材料层和第三结构材料层还包括：图案化所通过干法刻蚀图案化第三结构材料层和第二结构材料层，以获得第通过湿法刻蚀图案化所述第二初始结构和第四结构材料层，以获得第在所述背板和隔离结构上依次形成发光功能膜层和图案化所述第一电极材料层和所述发光功能膜层以获得至少位于像素开口中的第一显示面板，或包括由上述权利要求15_19中任一项所述显示面板的制作方法制作而成的显5极至少设置在所述像素开口和所述隔离开口中，所述第一电极至少和所述第一结构层搭的一侧的表面在所述基板上的正投影面积小于第三结构层在所述基67[0038]在所述至少部分结晶的第一结构层和所述像素界定层上形成第二结构材料层和[0039]图案化所述第二结构材料层和第三结构材料层以获得第[0046]图案化所述第一电极材料层和所述发光功能膜层以获得至少位于像素开口中的8[0069]下文所提及的相应结构部分如隔离结构的内容，在专利CN118251982A、202410864269.8、PCT/CN2024/098407、PCT/CN2024/102783、PCT/CN2024/098217.PCT/CN2024/099419、PCT/CN2024/099072、CN117979755A、CN117998900A、CN117062489A、CN117580403A、CN116583155A、CN116669477A、CN117396039A、CN116669480A、9构131处凹陷。从而导致像素单元14中的第一电极143和第一导电结构131对应的侧壁区域合形成隔离开口，像素开口在基板21上的正投影落入隔离开口在基板21上的正投影范围单元40的第一电极43后，可以确保第一电极43与第一结构层31的搭接面积符合预设要求，确保第一电极43和第一结构层31对应的侧壁区域搭接良好，显示面板具有良好的点亮效上的正投影和第一中心区312在基板21上的正投影重合，第一电极43搭接在第一边缘区与第一结构层31连接较多，而另一个像素开口中的第一电极43与第二结构层32连接较多TransferLayer,空穴传输层)、EML(EmittingLayer,发射层)和ETL(ElectronTransfer[0117]步骤S65，在至少部分结晶的第一结构层31和像素界定层22上形成第二结构材料[0126]图案化第一电极材料层和发光功能膜层以获得至少位于像素开口中的第一电极以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；