CN119403816A 寡核苷酸的制造方法 （住友化学株式会社）

2024.12.20PCT/JP2023/0267332023.07.21WO2024/019137JA2024.01.25式(2)所示的化合物与式(4)所示的2’_OMe_U酰OMe_U酰胺溶解于包含乙腈及式(3)所示的芳香2表示羟基的保护22.如权利要求1所述的寡核苷酸的制造方法，其自由甲基、乙基及卤素原子组成的组中的1个或2个取代基的苯，苯具有2个取代基的情况34.如权利要求1～3中任一项所述的寡核苷酸的制造方法，其中，溶解有式(4)所示的5.如权利要求1～3中任一项所述的寡核苷酸的制造方法，其中，溶解有式(4)所示的6.如权利要求1～3中任一项所述的寡核苷酸的制造方法，其中，溶解有式(4)所示的9.如权利要求1～8中任一项所述的寡核苷酸的制造方法，其中，激活剂为5_苄硫基_45[0001]本专利申请基于日本专利申请2022_117422号(2022年7月22日提出申请)主张巴[0016]本发明的目的在于提供具有1个以上的2’_OMe_U的寡核苷酸的高纯度的制造方6[0018]本申请的发明人为了实现上述目的而反复深入研究，结果提供一种核酸制造方78[0068]本发明的寡核苷酸的制造方法涉及下述寡核苷酸的制造方法，其包括使式(2)所9[0086]寡核苷酸的制造方法可以包括下述步骤：使在乙腈与式(3)所示的芳香族系烃的[0093]与式(4)所示的2’_OMe_U酰胺的反应前体具体而言为以下的式(12)所示的化合[0131](3)将前述步骤中生成的亚磷酸三酯氧化，转化成磷酸三酯键从而制造延伸的核a34c[0143]W1为W基、或由W基衍生的基团(例如，从固相载体切出的残基、经去保护的基团[0145]X1为X基、或由X基衍生的基团(例如，从固相载体切出的残基、经去保护的基团2及G2基的定义中的烷氧基的烷基部分具有与此处的烷基的定核酸碱基也包括天然型或非天然型的核酸碱基骨有氰基作为EW所示的吸电子基团的式(15)所示的保护[0189]式(15)所示的保护基能够依照例如国际公开第2013/027843号及国际公开第[0190]R基为除羟基以外的取代基的核苷酸及酰胺也能够由利用日本专利第3745226号于后述的实施例中记载的方法或利用对这些方法加以适当变更的方外，能够依照通常已知的方法(例如，前述的日本专利第5157168号公报或日本专利第[0196]步骤(1)的去保护步骤是对担载于固相载体上的RNA链末端的5’羟基的保护基进[0197]步骤(2)的缩合步骤是使图1的路线A中记载的下述式(A3)所示的核苷亚磷酰胺与利用前述去保护步骤进行了去保护的寡核苷酸链末端的5’羟基键合的反应。需要说明的[0206]步骤(3)的氧化步骤为将利用前述缩合步骤形成的亚磷酸基转化成磷酸基或硫代可举出日本专利第4705716号公报中[0211]就步骤(5)中的在固相载体上延伸了所期望的链长的寡核苷酸从固相载体的切出护基可以按照国际公开第2006/022323号)、国际公开第2013/027843号、或国际公开第[0218]序列(A)：5’AUGGAAUmACUCUUGGUUmACdTdT3’(遵照ST.25标准)(5’照ST.25标准)(5’_AmsGmsTmsCCTCATCTCCCTCAAGCGTTTAAGAGTTTAAATAAGGCTAGTCCGTTATCAACTTGAAAAAGTGGCACCGAGTCGGTGCTTTTmsTmsTmsT_3’(遵照[0235]测定前述粗产物的OD260。OD260表示1mL溶液(pH＝7260的测定值计算收量。酐乙腈溶液和10wt％N_甲基咪唑/10wt％2