CN119439495A 多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统 （深圳市宇创显示科技有限公司）

道黎光社区黎光新工业区15号（厂房多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统了一种多层复合偏光片的性能优化设计方法及算各偏光层分子取向度变化对不同偏振态光学精确控制，提升了偏光片的性能指标和生产效2对显示屏的使用环境进行偏振光谱分析，获得入射偏振光谱数据分别对样本产品的各偏光层进行生产过程数据测量，分别将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据输入双域和全局上下文特征提基于所述融合特征向量，计算各偏光层分子取向度变化对不同偏振态光学性能的影根据所述偏振态重要性权重，对所述初始拉伸比数据进行强化基于所述拉伸比调整策略对各偏光层的加工参数对显示屏的使用环境中的自然光源进行多角度光强度测量，得到入射对所述水平偏振分量数据和所述垂直偏振分量数据进行光谱分析根据所述偏振光优化权重矩阵构建多层复合偏光片的光学性能传递方基于所述分子取向度数据进行材料力学特性分析基于所述光强分布数据进行偏振态分离计算，得到平行透过率数据和垂直透过率数将所述平行透过率数据和所述垂直透过率数据输入消光比计算对样本产品进行椭偏仪入射角扫描，得到各偏光层的振幅比数据和相3对所述折射率各向异性数据进行分子取向度反演计算，并基于所述分将所述理论偏振性能数据与所述偏振性能数据进行对比分析，确定将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据输入双域和全局上下文特征提取网络进将所述分子取向度数据输入空间域特征提取分支，所述空间域特征提取分支包含4个将所述分子取向度数据进行快速傅里叶变换，输入频域特征提对所述空间域特征图和所述频域特征图进行通道注意力加权，并通过跨将所述偏振性能数据输入全局上下文编码器，所述全局上下文编码器包含3个多头自对所述全局上下文特征向量进行多尺度特征分解，通过3个并行的1x1卷积层提取不将所述双域特征向量和所述多尺度上下文特征输入特征融合对所述初始融合特征进行自校准操作，通过非局部注意力模块捕获基于所述标准化特征数据，构建分子取向度变化序列，将分子取将所述7组分子取向度变化数据分别代入双折射率计算公式n=n0+Δn(3cos2θ一1)/2，基于所述偏振态一透过率对应关系数据，计算每组分子取向度4对所述偏振态初始权重数据通过指数函数exp(x)进行数值映射，并进基于所述偏振态重要性权重和所述初始拉伸比数据，构建状态对所述拉伸比调整动作数据进行离散化处理，将连续动作空间划分为21个离散动作对所述动作价值数据进行双重优势函数分解，分离基于所述优势加权数据构建优先级经验回放缓冲区，将每个动作将所述优化轨迹数据输入目标网络，所述目标网络结构与策略网络基于所述目标动作数据和所述离散化动作数据计算时序差分误基于所述拉伸比调整策略构建第一工艺约束矩阵和第二工艺约束矩工艺约束矩阵包含拉伸温度范围[120℃,18第二工艺约束矩阵包含拉伸速度范围[5mm/min,50mm/min]和拉伸加速度范围[0.1mm/对所述第一约束条件和所述第二约束条件进行协同优化目标构建根据所述多目标优化函数构建第一控制变量矩阵和第二控制变量矩阵基于所述全局优化变量空间进行分段优化求解，将拉伸过程分为5对所述分段控制参数序列的相邻段进行过渡段优化，引入第一过渡得到光滑过渡序列；基于所述光滑过渡序列构建第一参数补偿模型和第二参数补偿将所述补偿优化参数按照第一量化精度和第二量化精度进行控第一量化精度为温度控制的最小分度值0.1℃,所述第二量化精度为速度控制的最小分度基于所述数字化控制指令进行时序组合编排，生成包含主控制测量模块，用于分别对样本产品的各偏光层进行生产过融合模块，用于分别将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性计算模块，用于基于所述融合特征向量，计算各偏光层优化模块，用于根据所述偏振态重要性权重，对所生成模块，用于基于所述拉伸比调整策略对各偏光层的加工参所述至少一个处理器调用所述存储器中的所述指令，以使得所述电子设备执要求1_7中任一项所述的多层复合偏光片所述指令被处理器执行时实现如权利要求1_7中任一项所述的多层复合偏光片的性能优化6[0003]当前偏光片生产过程中，分子取向度控制和拉伸工艺参数优化仍存在较大挑分别将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据输入双域和全局上下文特基于所述拉伸比调整策略对各偏光层的加工参数进行多目标优化和序列二次规7图2是本发明实施例提供的多层复合偏光片的性能优化设计系统的结构示意性框8可以理解的是，本申请的执行主体可以为多层复合偏光片的性能优化设计系统，9具体的，通过多点偏振光谱分析仪进行透过率测量，设置扫描波长范围为450_[0019]步骤300、分别将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据输入双域和全局的变化情况，为后续计算提供变化范围。将7组分子取向度变化数据代入双折射率计算公[0022]步骤600、基于拉伸比调整策略对各偏光层的加工参数进行多目标优化和序列二[1℃/min,5℃/min]之间，以确保温度的性能的不稳定。第二工艺约束矩阵则包含拉伸速度范围[5mm/min,50mm/min]和拉伸加速[0024]本申请实施例中，通过引入双域和全局上下文特征提取网络进行特征提取和融;分别获得水平偏振分量和垂直偏振分量的数据。对水平偏振分量和垂直偏振分和垂直偏振分量进行波长扫描，得到每种偏振态的波长分布数据。设定波长范围为(例;;;;光层在特定条件下应达到的偏振透过效率的期望值，通过数值模拟或者实验测量来得到。;通过最大化应力的均匀分布确定最佳的分子取向角度9on，使得偏光片在拉伸;将多点偏振光谱分析仪设置为450_750nm波长扫描范围，对样本产品进行透过率基于光强分布数据进行偏振态分离计算，得到平行透过率数据和垂直透过率数对样本产品进行椭偏仪入射角扫描，得到各偏光层的振幅比数据和相位差数据，并基于振幅比数据和相位差数据进行双折射率计算，得到各偏光层的折射率各向异性数入)、入射角(9)和方位角(⃞)下的光强度。通过这些数据，获得每个偏光层在不同波;;;An可通过以下公式计算：;;n1分别是水平和垂直方向上的折射率，n是折射率的差异。通过计将分子取向度数据输入空间域特征提取分支，空间域特征提取分支包含4个卷积将偏振性能数据输入全局上下文编码器，全局上下文编码器包含3个多头自注意对全局上下文特征向量进行多尺度特征分解，通过3个并行的1x1卷积层提取不将双域特征向量和多尺度上下文特征输入特征融合网络，特征融合网络包含2个到校准后的融合特征，并将校准后的融合特征输入特征压缩网络，通过2个全连接层和将7组分子取向度变化数据分别代入双折射率计算公式n=n0+Δn(3cos2θ_1)/2，基于偏振态_透过率对应关系数据，计算每组分子取向度变化引起的透过率变化对光学性能响应曲线进行积分运算，在0o_180o范围内以5o为间隔计算曲线下面;;;;对拉伸比调整动作数据进行离散化处理，将连续动作空间划分为21个离散动作;;;Q(s,a)=w,·LeakyReLU(3·LeakyReLU(,·LeakyReLU；其中，Q(s,a)表示给定状态和动作的Q值，反映了在当前状态下选择某一特定动;数更新采用软更新方式进行。软更新方法通过平滑地更新网络参数来提高训练的稳定性。;t为软更新的比;约束矩阵包含拉伸温度范围[120℃,180℃]和升温速约束矩阵包含拉伸速度范围[5mm/min,50mm/min]和拉伸加速度范围[0.1mm/min2,1mm/过渡序列；量化精度为温度控制的最小分度值0.1℃,第二量化精度为速度控制的最小分度值0.1mm/偏光层的拉伸温度和速度控制序列。范围和升温速率范围，具体为温度范围[120℃,180℃]和升温速率范围[1℃/min,5℃/约束矩阵和第二工艺约束矩阵的具体结构表;fop=入1·偏振效率应力不均匀性+入·能源消耗；;其中，分别为温度的起始值和结束值，tstar;;;;;其中，a和β为调节过渡速度的参数，和vt分别表示当前的温度和速度，;;例中多层复合偏光片的性能优化设计系统10一个处理器301执行时，可使得处理器301执行上述任一种多层复合偏光片的性能优化设计方[0044]应当理解的是，处理器301可以是中央处理单元(CentralProcessingUnit，CPU)，该处理器301还可以是其他通用处理器、数字信号处理器(DigitalSignal上述描述的电子设备300的具体工作过程，可以参考前述多层复合偏光片的性能优化设计