CN119457104A 一种单分散多孔钼粉及其制备方法和应用 （西安建筑科技大学）_第1页
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本发明公开了一种单分散多孔钼粉及其制氛下，将片层状二氧化钼在750℃~800℃进行还混合粉末中的碳酸氢钾进行分解产生碳酸钾和氧化钾，氧化钾与水蒸气反应生成液态氢氧化到单分散多孔钼粉。本发明制备的钼粉分散性25.根据权利要求1所述的一种单分散多孔钼粉的制备方法，其特征在于，球磨时间为9.一种权利要求1_8任一项所述的制备方3还原处理将二氧化钼转化成钼粉。本发明选择片层状二氧化钼的原因在于750℃~800℃下4范围内其他未列举的数值同样适用。[0014]本发明的一个优选实施例中，球磨时间为30h~50h，球磨转速为50r/min~200r/利用片层状二氧化钼在750℃~800℃进行低温还原得到小粒径钼粉后，通过球磨567采用冷喷涂法将实施例1制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将实施例2制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将实施例3制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂8采用冷喷涂法将对比例1制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将实施例4制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将实施例5制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将实施例6制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将对比例2制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂采用冷喷涂法将对比例3制备的单分散多孔钼粉喷涂在氧化铝陶瓷生坯上，喷涂9

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