CN119487170A 孔板和培养方法 （三井化学株式会社）

2024.12.25PCT/JP2023/0193102023.05.24WO2024/009636JA2024.01.11本发明提供一种细胞等的粘接性优异且药2通过所述底面构件与所述孔侧壁构件接合而形成有至所述底面构件和所述孔侧壁构件由不同的材所述孔侧壁构件的表面自由能为18.0～34.玻璃化转变温度为_40℃以上。7.根据权利要求1或2所述的孔板，其中，所述底面构件9.根据权利要求1或2所述的孔板，其中，所述底面构10.根据权利要求1或2所述的孔板，其中，所述底面构件的培养面的水接触角为50~测定而测定的玻璃化转变温度为30℃以上。定而测定的玻璃化转变温度为120℃以上。13.根据权利要求1或2所述的孔板，其中，所述孔侧壁构件的表面自由能为18.0~34角为50～100°。性温度分散测定而测定的玻璃化转变温度为30℃以上。性温度分散测定而测定的玻璃化转变温度为120℃以上。孔侧壁构件接合而形成有至少一个孔，所述底面构件和所述孔侧壁构件由不同的材料构[0036]孔板(X)的孔侧壁构件和底面构件以孔内的细胞等或培养基不漏出的方式接合。5[0043]所述底面构件是构成孔板(X)的底面的构件，通过与所述孔侧壁构件接合而形成[0044]构成所述底面构件的材料只要是与构成所述孔侧壁构件成所述底面构件的主要材料(构成构件的材料中以质量基准计含有最多的材料)与构成所[0045]构成所述底面构件的材料优选包含热塑性树脂或玻璃，更优选包含聚烯烃系树选为90.0％以上。全光线透过率的上限没有特别限制，例如可以为100.0％以下或小于[0049]若所述底面构件的全光线透过率在上述范围内，则所述6[0051]所述底面构件的形状只要能够通过与所述孔侧壁构件接合而形成至少一个孔即构件的材料的种类而不同，优选为100℃~400℃,特优选为20℃~100℃,特别优选为30℃~90℃。7[0073]所述孔侧壁构件的通过固体粘弹性温度分散测定而测定的玻璃化转变温度(Tg)8例如可以设为300℃以下。[0075]构成所述孔侧壁构件的材料只要是表面自由能在上述范围内且与底面构件不同开第2006/118261号的段落0037～0063下述式(IV)所示的结构单元组成的组中的96175～R78可以彼此键合而形成单环或多环。8120的烷基或碳原子数3～15的环烷基即脂肪族烃基、碳原子数6～20的芳香族烃基或烷氧89和R90所键合的碳原子与R93所键合的碳原子或R91所键合的碳原子可以直接键合或经95与R92或R95与R99可以彼此键合而形成单结构单元(a)的比例优选为5摩尔％以上且95摩尔％以下，更优选为20摩尔％以上且90摩[0102]作为环状烯烃系共聚物(α)的共聚原料之一的环状烯烃单体(b)是进行加成共聚61R78可以彼此键合而形成单环或多环。8120的烷基或碳原子数3～15的环烷基即脂肪族烃基、碳原子数6～20的芳香族烃基或烷氧89和R90所键合的碳原子与R93所键合的碳原子或R91所键合的碳原子可以直接键合或经95与R92或R95与R99相互可以键合而形成单开第2006/118261号的段落0037～0063体(b)衍生的结构单元(b)的比例优选为5摩尔％以上且95摩尔％以下，更优选为10摩尔%特开昭62252407号公报等方法选择适可以使用例如三井化学株式会社制APEL系列(例如APEL6015T等)、仓敷纺织株式会社制[0125]4甲基1戊烯聚合物(β)包含4甲基1戊烯的均聚物及4甲基1戊烯与其他基1戊烯与选自乙烯和碳原子数3～20的α烯烃(不包括4甲基1戊烯)中的至少1种烯四碳烯和1十六碳烯中的至少1种与选自1十七碳烯和1十八碳烯中的至[0130]由4甲基1戊烯衍生的结构单元的含量优选为60～100摩尔更优选为80～98述结构单元的含量以全部重复结构单元量为100摩尔％。若结构单元的含量在上述的范围[0131]4甲基1戊烯聚合物(β)也可在不损及本发明的效果的范围内具有由4甲基1[0137]丙烯系聚合物(γ)是指在聚(I)表示的至少1种由烯烃衍生的结构单元的聚合物(其中，不包括所述环状上。在含有脂环式结构的聚合物中的含有脂环式结构而成的结构单元的比例处于该范围[0148]作为降冰片烯系聚合物，可举出通过使降冰片烯系单体开环聚合而得到的聚合3,6[0150]作为通过开环聚合得到的聚合物，可举出ZEONEX(注册商标；日本ZEON公司制)、烯系单体进行1,2_或1,4_加成聚合而成的聚合物及其[0162]硅烷化聚烯烃(ε)为含有下述式(1)所示的结构单元的含硅化合物与利用凝胶渗透色谱法(GPC)测定的数均分子量(Mn)为100以上且500,000以下的含乙烯基化合物的反应为该含硅化合物的1分子中具有2个以上SiH基的含硅化合物与作为该含乙烯基化合物的每1分子中具有平均2.0个以上乙烯基的含乙烯基化合物的反应物的硅烷化聚烯烃及其衍生30[0166]构成硅烷化聚烯烃(ε)的含硅化合物为具有下述式(1)所示的结构单元的氢硅烷30[0187]需要说明的是，上述式(2)和上述式(3)中的卤素原子和烃基的定义与上述式(1)[0190]在一个实施方式中，上述式(3)中的l为0～[0196]作为具有1个SiH基的含硅化合物的例子，可举出例如下述式(2a)所示的化合物、丙基等可以包含1个以上杂原子的烃基取代的化合三氟丙基等可以包含1个以上杂原子的烃基取代[0214](上述式(2d)中，g为1以上的整数，h为2以上的整数，g与h的合计的上限例如为[0223]HSi(CH3)2O(Si(CH3)2O)5Si(CH3)[0224]HSi(CH3)2O(Si(CH3)2O)8Si(CH3)[0225]HSi(CH3)2O(Si(CH3)2O)18Si(CH3)[0226]HSi(CH3)2O(Si(CH3)2O)80Si(CH3)[0227]HSi(CH3)2O(Si(CH3)2O)230Si(CH3)三氟丙基等可以包含1个以上杂原子的烃基取代[0235]含乙烯基化合物的通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的数均分子量(Mn)通常为100[0237]构成硅烷化聚烯烃(ε)的含乙烯基化合物通常是将选自碳原子数2～50的烯烃中2降冰片烯、四环十二碳烯、5,6二氢二环戊二烯、3a,4,5,6,7,7a六氢H茚、三环甲基1,4,8癸三烯等具有两个以上双键的环状多烯和具有两个以上双键的链状多烯等。[0244]在优选的实施方式中，上述式(4)所示的含乙烯基化合物的A为仅由碳原子数2~[0245]上述式(4)所示的含乙烯基化合物优选为由乙烯衍生的结构单元处于81～100摩20摩尔％的α烯烃衍生的结构单元处于0～10摩尔％的范围的乙烯α烯[0247]另外，上述式(4)所示的含乙烯基化合物的数均分子量(Mn)优选处于100以上且[0249]进一步优选上述式(4)所示的含乙烯基化合物的乙烯基存在于主链的末端，更优[0250]另外，当上述式(4)所示的含乙烯基化合物仅在主链的末端含有乙烯基时，通过1HNMR计算的末端不饱和率优选为60摩尔％以上且100摩尔％以下。进一步优选的方式之HNMR计算的末端不饱和率为80摩尔％以上且99.5摩尔％以下，更优选为90摩[0264]作为硅烷化聚烯烃(ε)，可以使用[0265]构成孔侧壁构件的材料中的硅烷化聚烯烃(ε)的含量在构成孔侧壁构件的材料[0284]使用在作为丙烯系聚合物(γ)PrimePolymer公司制聚丙烯F10790质量份中干混作为硅烷化聚烯烃(ε)的日本专利第5575929号的合成例6中得到的硅烷化聚烯烃10[0286]作为4_甲基_1_戊烯聚合物(β)，使用三井化学株式会社制TPX(全光线透过率[0288]作为4_甲基_1_戊烯聚合物(β)，使用三井化学株式会社制TPX(全光线透过率[0289]4_甲基_1_戊烯聚合物(β)的含量在底面构件(B_1)或(B_2[0293]将厚度100μm的聚丙烯膜(相当于丙烯系聚合物(γ)，东洋纺织株式会社制[0297]使等离子体处理后的底面构件(B_1)～(B_6)借助医疗用粘着剂(3M公司制)密合[0304]将评价用药剂溶液1变更为评价用药剂溶液2，除了从没有在评价用药剂溶液1的准试验液1～3，测定孔板框(被检体)的接触角。通过基于后述的用于算出表面自由能的Kitazaki_Hata理论的计算法，使用标准试验液的已知的表面自由能和标准试验液在被检成分设为归属于分散力的成分(B1d)、归属于取向(极性)力的成分(B1p)和归属于氢键力的[0328]同样地，当将各成分的值已知的标准试验液2的表面自由能设为B2并且将各成分框和标准试验液1、标准试验液2及标准试验液3的表面自由能的各成分和接触角的值，式[0342]培养容器1～7的底面构件的玻璃化转变温度(Tg)是依据日