CN119497703A 用于同时形成和改进玻璃制品的抗反射和抗眩光行为的系统和方法 （康宁股份有限公司）

2025.01.06PCT/US2023/0242632023.06.02WO2023/239603EN2023.12.14用于同时形成和改进玻璃制品的抗反射和一种形成具有改进的抗反射(AR)和抗眩光包覆层相分离并且所述基材的至少一部分变形处理和热成形包括加热所述基材和同时压制所2预加热包括核心层和至少一个包覆层的基材，所述至少一个包覆层包含加热所述基材至低于所述至少一个包覆层的4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中预加热所5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，加热所述基材至从所述至少一个包覆层的玻璃转化温度至所述至少一个包覆层的软6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中同时加热所述基材至约750℃并对所述基材施加约0.9MPa的压力至少600秒。7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，同时地在约750℃下加热所述基材并在成形表面上对所述基材施加约0.9MPa的压力至8.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其中同时地在大于或等于约710℃的温度下加热所述基材并在0.1MPa至0.9MPa范围的压力9.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其中同同时加热所述基材至所述至少一个包覆层发生旋节相分离的温度并在所述基材发生使用多个冷却阶段冷却所述基材，每个冷却阶段包括冷却温度范将至少2％体积的氟化氢(HF)溶液应用到所述基材上3将所述基材浸入一氧化二氢(H2O)浴中至13.一种形成具有改进的抗反射(AR)和抗眩光(AG)特性的相分离玻璃层叠体的方法，14.根据权利要求13所述的方法，其中加热所述基材至所述至少一个包覆层发生旋节加热所述基材至从所述至少一个包覆层的玻璃转化温度至所述至少一个包覆层的软将向所述基材施加的所述第一压力从0.9MPa降低至0.1MPa至0.4MPa范围预加热所述基材至低于所述至少一个包覆层的玻璃转化温18.一种成形和成型具有改进的抗反射(AR)和抗眩光(AG)特性的相分离玻璃层叠体的加热所述基材至高于所述第一温度的第二温度将所述基材冷却至低于所述第二温度的第三温度，同时在小于所述将所述基材冷却至低于所述第三温度的第四温度，同时在小于所述4与所述核心层熔接的至少一个包覆层，所述至少一个包覆层在其外表面包括多孔区，所述成型玻璃层叠体制品在从约400nm至约2200nm的整个光谱范围内具有大于98％的所述成型玻璃层叠体制品在所述外表面在从约400nm至2200nm的整个光谱范围内具有22.根据权利要求21所述的成型玻璃层叠体制品，其中所述多孔区具有大于或等于23.根据权利要求21_22中任一项所述的成型玻24.根据权利要求21_23中任一项所述的成型玻25.根据权利要求21_24中任一项所述的成型玻璃26.根据权利要求21_25中任一项所述的成型玻璃27.根据权利要求21_26中任一项所述的成型玻璃与所述核心层熔接的至少一个包覆层，所述至少一个包覆层在其外表面包括多孔区，所述成型玻璃层叠体制品在从约400nm至约2200nm的整个光谱范围内具有大于或等于所述成型玻璃层叠体制品在所述外表面在从约400nm至2200nm的整个光谱范围内具有29.根据权利要求28所述的成型玻璃层叠体制品，其中所述成型玻璃层叠体制品在从30.根据权利要求28_29中任一项所述的成体制品在从约400nm至约2200nm的整个可见光谱范围内31.根据权利要求28_30中任一项所述的成32.根据权利要求28_31中任一项所述的成33.根据权利要求28_32中任一项所述的成型玻34.根据权利要求28_33中任一项所述的成型玻56[0003]本公开涉及具有改进的光学性能的抗反射(AR)和抗眩光(AG)玻璃层叠体及其制和热成形所述基材的步骤包括同时地在约750℃下加热所述基材并在成形表面上对所述基步骤包括同时地在大于或等于约710℃的温度下加热所述基材并在0.1MPa至0.9MPa范围的7步骤包括同时加热所述基材至所述至少一个包覆层发生旋节相分离(spinodalphase[0010]本公开的另一个示例性实施方式提供了一种形成具有改进的抗反射(AR)和抗眩所述基材至所述至少一个包覆层发生旋节相分离的温度，和将所述基材压到成形表面上，的步骤包括加热所述基材至从所述至少一个包覆层的玻璃转化温度至所述至少一个包覆[0012]本公开的另一个示例性实施方式提供了一种成形和成型具有改进的抗反射(AR)述基材至高于所述第一温度的第二温度，在该温度下所述至少一个包覆层发生旋节相分叠体制品在从约400nm至约2200nm的整个光谱范围内具有大于98％的透射率，以及对于所述成型玻璃层叠体制品的一个表面，所述成型玻璃层叠体制品在从约400nm至2200nm的整8[0015]在一些实施方式中，所述多孔区具有大于或等于10nm且小于或等于200nm的平均率(porosity)。在一些实施方式中，所述多孔区的厚度大于或等于350nm且小于或等于[0016]本公开的另一个示例性实施方式提供了一种成型玻璃层叠体制品，其包括核心叠体制品在从约400nm至约2200nm的整个光谱范围内具有大于或等于97％的透射率，以及所述成型玻璃层叠体制品在所述外表面在从约400nm至2200nm的整个光谱范围内具有小于[0017]在一些实施方式中，所述成型玻璃层叠体制品在从约400nm至约2200nm的整个可[0031]图10显示了说明图9所示的玻璃制品四周不同位置不同波长下的反射率的曲线9[0040]将透射率百分比(％)定义为穿过材料厚度的入射光的百分比。将反射率百分比[0045]将热膨胀系数(CTE)定义为玻璃组合物在从约20℃至约300℃的温度范围内的平循环，其能够形成具有改进的光学性能的梯度一些实施方式中，同时相分离并三维(3D)热成形玻璃制品在高温下操作的模压机中进行，[0053]核心层102包括第一主表面108和与第一主表面相对的第二主表面110。在一些实含与第一玻璃组合物和/或第二玻璃组合物不同的第三器200包括下溢流分配器220和位于下溢流分配器上方的上溢流分配器240。下溢流分配器围绕下溢流分配器220流动，并与流过下溢流分配器的外成形表面226和228的第一玻璃组性状态的第一包覆层104和第二包覆层106的第二玻璃组合物244接触以形成层叠片。在一使用额外的溢流分配器和/或使用具有分隔凹槽的溢流分配器来形成包括四层或更多层的[0061]第一和第二包覆层可以是以旋节方式相分离以产生多孔基质的任何组合物。例如，第一和第二包覆层可以由包含以下的组合物形成：具有45wt％至75wt％(例如，~60wt％)范围的浓度的二氧化硅(SiO2)、具有8wt％至19wt％[0062]在一些实施方式中，包覆层104和106由包含浓度为64.64wt％的SiO2、浓度为104和包覆层106的至少一个包含14_[0063]核心层可以由碱土硼铝硅酸盐玻璃(例如，CORNINGEAGLEXG@玻璃)、CORNING@FOTOFORM玻璃、CORNINGIRISTM玻璃或CORNINGGORILLA@玻璃中的至MgO、4.74wt％SrO。在一些实施方式中，例如，由于其超低自荧光，核心层包括EAGLEXG@玻璃或CORNINGIRISTM玻璃的至少一种。核心层通过核心层和/或包覆层界面的Al2O3核心层玻璃组合物的平均CTE可以大于或等于约60×10_7/℃。在一些实例中，在从20℃至物形成，所述包覆玻璃组合物在从20℃至300℃的范围内具有小于或等于约40×10_7/℃的组合物的平均CTE可以小于或等于约35×10_7/℃。[0066]在一些实施方式中，核心层102以及包覆层104和106的玻璃组合物包括实质相似包覆层106和106的玻璃组合物更低的软化点。这种不同的软化点能够使玻璃片100形成成[0067]图3显示了融熔抽拉层叠玻璃处理工艺。玻璃折射率的斜率改变表明表面上存在叠体相当于上述图1中描述的玻璃制品100，其具有至将玻璃制品100转变成包括相分离的包覆层114和116的3D成型玻璃制品110。应当理解的g100加热至大于或等于包覆层104和106的玻璃转化温度T且小于或等于包覆层104和106的g400℃。℃。℃。℃。[0078]在第五区带或步骤中，压机向玻璃制品100施加750℃的温度和0.9MPa的压力600[0079]在第六区带或步骤中，压机向玻璃制品100施加750℃的温度和0.9MPa的压力600[0080]在第七区带或步骤中，压机向玻璃制品100施加692℃的温度和0.4MPa的压力90[0081]在第八区带或步骤中，压机向玻璃制品100施加633℃的温度和0.1MPa的压力90纳米水平上经历旋节相分离。此类旋节相分离将单相包覆层104和106转变成两相包覆层[0087]在一些实施方式中，使用能够降解或溶解玻璃制品的适宜组分进行湿化学蚀33PO44422过去除包覆层玻璃/空气界面附近的硼或其他元素，产生大于5nm(例如，50nm)或1nm至以较高或较低速率蚀刻其中之一，则蚀刻处理就能够优先针对包覆层组合物的特定元素。[0095]本文所述的(多个)多孔区具有部分地受多孔区的平均孔隙大小影响的抗反射性于或等于200nm、大于或等于150nm且小于或等于200nm、大于或等于175nm且小于或等于于或等于175nm、大于或等于125nm且小于或等于175nm、大于或等于150nm且小于或等于于或等于150nm、大于或等于125nm且小于或等于150nm、大于或等于10nm且小于或等于于或等于100nm、大于或等于25nm且小于或等于100nm、大于或等于50nm且小于或等于于或等于450nm、大于或等于380nm且小于或等于450nm、大于或等于390nm且小于或等于于或等于350nm且小于或等于400nm、大于或等于350nm且小于或等于390nm、大于或等于350nm且小于或等于380nm、大于或等于350nm且小于或等于370nm或者大于或等于350nm且[0097]图7显示了说明通过各种方法成形的玻璃制品在不同波长下的透射率的曲线图[0098]图8显示了说明通过各种方法形成的玻璃制品在不同波长下的反射率的曲线图的方法(即，同时3D热成形和使玻璃制品相分离)制备的样品的平均透射率大于98仅略成形和使玻璃制品相分离)制备的样品的平均反射率小于1与线424所示的未成型已处与点B之间的距离是约65mm。图10显示了图9所示的玻璃制品120四周不同位置在不同波长示玻璃制品120的位置T处在不同波长下的反射率。线C表示玻璃制品120的位置C处在不同射率测量结果方面是相似的，而以T和B标记的位置与玻璃制品120的中心相比具有更大变[0101]图11显示了图9所示的玻璃制品120四周不同位置使