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文档简介

1、电子束蒸发原理,孔庆峰,蒸镀机照片,一.金属蒸镀的分类,一.热蒸镀 二.电子束蒸镀 三,溅射蒸镀,1.热蒸镀,Thermal Evaporation 就是在高真空下，将所要蒸镀的材料，利用电阻加热到达熔化温度，使其蒸发，达到并附着在基底表面的一种技术。,2.电子束蒸镀,(E-Gun Evaporation) 就是在高真空下，将所要蒸镀的材料，利用电子束加热到达熔化温度，使其蒸发，达到并附着在基底表面的一种技术。,3.溅射技术,磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar和新的电子；新电子飞向基片，Ar 在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰

2、击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜 。,二.电子束蒸镀,1.特点. 相较于热蒸镀的方式电子束蒸镀的方法有其下列的优点。 1.可聚焦的电子束，能局部加温元素源，因不加热其它部分而避免污染。 2. 高能量电子束能使高熔点元素达到足够高温以产生适量的蒸气压。,2.坩埚示意图,3.电子速控制原理,我们只要改变加速电场的大小就可以改变电子束射击到坩锅的位置,假设与电子束平行的位置为X轴方向，如果与交插电子束的位置加装一组磁场,我们便能控制电子束左右的方向,以此我们称为Y轴。 以电场和磁场的控制，我们便能控制电子束扫描的区域及面积的大小。,E-GUN的结构示意图,晶振片探测频率控制膜厚,当下电极的部位沉积一些金属层之后,由于压

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