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外文翻译--光刻投影镜头多闭环温度控制系统.doc

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外文翻译--光刻投影镜头多闭环温度控制系统.doc

毕业设计(论文)外文资料翻译学院:机械工程学院专业:机械设计制造及其自动化姓名:学号:指导老师:附件:1.外文资料翻译译文;2.外文原文。指导教师评语:签名:年月日附件1:外文资料翻译译文光刻投影镜头多闭环温度控制系统聂宏飞1,李晓平1,*,何艳2。1国家重点实验室,数字制造装备与工艺,华中科技大学,武汉430074,中国大学2天华学院,上海师范大学,上海201815,中国2008年5月27日收稿;2009年1月8日修订;2009年1月22日定稿;2009年2月6日电子出版摘要:图像质量是光学光刻工具的最重要指标之一,尤其易受温度、振动和投影镜头(PL)污染的影响。本地温度控制的传统方法更容易引入振动和污染,因此研发多闭环温度控制系统来控制PL内部温度,并隔离振动和污染的影响。一个新的远程间接温度控制(RITC)方案,提出了利用冷却水循环完成对PL的间接温度控制。嵌入温度控制单元(TCU)的加热器和冷却器用于控制冷却水的温度,并且,TCU必须远离PL,以避免震动和污染的影响。一种包含一个内部级联控制结构(CCS)和一个外部并行串联控制结构(PCCS)的新型多闭环控制结构被用来防止大惯性,多重迟滞,和RITC系统的多重干扰。一种非线性比例积分(PI)的算法应用,进一步提高收敛速度和控制过程的精度。不同的控制回路和算法的对比实验被用来验证对控制性能的影响。结果表明,精度达到0.006℃规格的多闭环温度控制系统收敛率快,鲁棒性强,自我适应能力好。该方法已成功地应用于光学光刻工具,制作了临近尺寸(CD)100纳米的模型,其性能令人满意。关键词:投影镜头,远程间接温度串级控制结构,并行串连控制结构,非线性比例积分(PI)的算法1简介由于集成电路缩小,更小的临界尺寸(CD)要求,生产过程的控制越来越严格。作为最重要的制造工艺设备,先进的光学光刻工具需要更严格的微控制环境[1],如严格控制其温度、洁净度、气压、湿度等。温度波动,特别是导致图像失真和平面图像转变,成为了光学光刻工具对图像质量影响的一个关键因素。投影镜头(PL)内的温度精度要求一个光刻工具在接近0.01℃制造一个小于100nm的模型。另外需要PL内部温度收敛率快以降低光刻技术的所有权(CoD)的成本.然而,实现这些目标是一个很大的挑战,因为加热器和冷却器控制温度要求操作远离PL[2],否则其性能将被它们的振动和污染所

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