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文档简介

目前,几乎所有的主存储器都采用半导体存储芯片构成。,4.2 半导体存储原理及存储芯片,2,工艺,双极型,MOS型,TTL型,ECL型,速度很快、,功耗大、,容量小,电路结构,PMOS,NMOS,CMOS,功耗小、,容量大,工作方式,静态MOS,动态MOS,(静态MOS除外),半导体存储器的分类,3,存储信息原理, 静态存储器SRAM, 动态存储器DRAM,(双极型、静态MOS型):,依靠双稳态电路内部交叉反馈的机制存储信息。,(动态MOS型):,依靠电容存储电荷的原理存储信息。,功耗较大,速度快,作Cache。,功耗较小,容量大,速度较快,作主存。,半导体存储器的分类(续),4,4.2.1 双极型存储单元与芯片,双极型存储器有TTL型与ECL型两种,工作速度快,但功耗大、集成度较低,适于做小容量快速存储器,如高速缓冲存储器或集成化通用寄存器组。,存储单元,存储芯片,4.2.2 静态MOS存储单元与芯片,1.六管单元,(1)组成,T1、T3:MOS反相器,Vcc,触发器,T2、T4:MOS反相器,T5、T6:控制门管,Z,Z:字线,选择存储单元,位线,完成读/写操作,W,W:,(2)定义,“0”:T1导通,T2截止;,“1”:T1截止,T2导通。,(3)工作,T5、T6,Z:加高电平,,高、低电平,写1/0。,(4)保持,只要电源正常,保证向导通管提供电流,便能维持一管导通,另一管截止的状态不变,故称静态。,导通,选中该单元。,电流,读1/0。,Z:加低电平,,T5、T6截止,该单元未选中,保持原状态。,静态单元是非破坏性读出,读出后不需重写。,7,8,地址端:,A9A0(入),数据端:,D3D0(入/出),控制端:,片选CS,= 0 选中芯片,= 1 未选中芯片,写使能WE,= 0 写,= 1 读,电源、地,2.存储芯片,例.SRAM芯片2114(1K4位),外特性:,X0,每面矩阵排成64行16列。,6位行地址,X63,Y0,Y15,两级译码,一级:,地址译码,,选择字线、位线。,二级:,一根字线和,一组位线交叉,,选择一位单元。,4位列地址,4.2.2 动态MOS存储单元与存储芯片,1.四管单元,(1)组成,T1、T2:记忆管,C1、C2:柵极电容,T3、T4:控制门管,Z:字线,(2)定义,“0”:T1导通,T2截止,“1”:T1截止,T2导通,(C1有电荷,C2无电荷);,(C1无电荷,C2有电荷)。,(4)保持,高、低电平,写1/0。,高电平,断开充电回路,,Z:加低电平,,T3、T4截止,该单元未选中,保持原状态。,需定期向电容补充电荷(动态刷新),所以称为动态存储器。,四管单元是非破坏性读出,读出过程即实现刷新。,(3)工作,Z:加高电平,,T3、T4导通,选中该单元。,4.2.2 动态MOS存储单元与存储芯片,1.四管单元,(2)定义,(4)保持,写入:Z加高电平,T导通,,在W上加高/低电平,写1/0。,读出:W先预充电,,根据W线电位的变化,读1/0。,断开充电回路。,Z:加低电平,,T截止,该单元未选中,保持原状态。,单管单元是破坏性读出,读出后需重写。,“0”:C无电荷,电平V0(低),“1”:C有电荷,电平V1(高),(3)工作,Z加高电平,T导通,,(1)组成,C:记忆单元,T:控制门管,Z:字线,W:位线,2.单管单元,4.2.2 动态MOS存储单元与存储芯片,地址端:,A7A0(入),数据端:,Di(入),控制端:,片选,写使能WE,= 0 写,= 1 读,电源、地,分时复用,提供16位地址。,Do(出),行地址选通RAS,列地址选通CAS,:=0时A7A0为行地址,高8位地址,:=0时A7A0为列地址,低8位地址,1脚未用,或在新型号中用于片内自动刷新。,3.存储芯片,外特性:,例.DRAM芯片2164(64K1位),14,15,4.2.4 半导体只读存储器,只读存储器的存储元件实质上可以看作是一个固定的开关电路,以“开”和“关”两个状态来记存信息“0”和“1”。 ROM的组织结构与RAM相似,一般也是由地址译码电路、存储阵列、读出电路与控制电路等几部分组成,控制信号中只需片选信号即可,因为它是只读的,不需要读写控制信号。,16,掩模式ROM中所存储的信息,是在制造的过程中用掩膜工艺来完成写入的。掩膜式ROM一般适用于固定程序而且生产批量较大的产品。,掩膜MOS只读存储器,17,一次编程的只读存储器(PROM) PROM写入信息是一次性的。 可擦除的可编程只读存储器(EPROM) 可擦除的EPROM在需要改写时,用特殊的方法(如紫外线照射)将原写入的信息擦除,重新编程写入,这就给使用带来很大方便 电改写可编程只读存储器(EPROM) EPROM可用电气方法将存储内容擦除,再重新写入。它在联机条件下可以用字擦除方式擦除,也可以用页擦除方式擦除,同时也可以将全部内容擦除。以字擦除方式操作时,能够只擦除被选中的那个存储单元的数据;在页擦除方式操作时,可擦除存储芯片的一行或一列。EPROM基本解决了EPROM存在的问题,故更受用户的欢迎。一般为10万次。,可编程只读存储器(PROM),18,PROM内部结构图,19,掩膜ROM的内容,20,EPROM基本存储电路,21,采用CMOS工艺,既有EPROM结构简单的特点,又吸收了EPROM可在线擦除的特点;不但具有RAM的高速性,而且兼有ROM的非易失性。Flash Memory读出时间为70160ns,比普通外存(如硬盘)快50200倍。可整体擦除或分页擦除,耗电低,集成度高,体积小,可重复使用达10万次以上,有很高的可靠性。 目前,Flash Memory被广泛地用于便携式笔记本电脑或微机的主板上。,Flash Memory(也称快擦型存储器或闪速存储器),22,Flash Memory原理,23,F1ash Memory的读写原理:,Vd=6V,Vg=12V,写入,Open,Vs=12V,擦除,Vd=1V,Vg=1V,读出,24,各种存储器的用途,25,DRAM的研制与发展,1. 增强型DRAM(EDRAM) 增强型DRAM(EDRAM)改进了CMOS制造工艺,使晶体管开关加速,其结果使EDRAM的存取时间和周期时间比普通DRAM减少一半,而且在EDRAM芯片中还集成了小容量SRAM cache。 2. Cache DRAM(CDRAM) 其原理与EDRAM相似,其主要差别是SRAM cache的容量较大,且与真正的cache原理相同。在存储器直接连接处理器的系统中,cache DRAM可取代第二级cache和主存储器(第一级cache在处理器芯片中)。CDRAM还可用作缓冲器支持数据块的串行传送。,26,3. EDO DRAM(EDRAM) 扩充数据输出(extended data out,简称EDO),它在完成当前内存周期前即可开始下一周期的操作,因此能提高数据带宽或传输率。 4. 同步 DRAM(SDRAM) 典型的DRAM是异步工作的,CPU送地址和控制信号之后,等待存储器的内部操作完成,此时CPU不能做别的。 SDRAM与CPU之间的数据传输是同步的,CPU送出地址和控制信号后,经过已知数量的时钟后,SDRAM完成内部操作,此期间,CPU可以做其他的工作,而不必等待。,DRAM的研制与发展,27,5. Rambus DRAM(RDRAM) Rambus公司研制,着重提高存储器频率带宽。 RDRAM与CPU之间通过专用的RDRAM总线传送数据,而不是常用的RAS、CAS、WE、CE信号。 采用异步成组数据传输协议,开始时需要较大的存取时间(例如48ns),以后可达500MB/s的传输速率。 Rambus得到Intel公司的支持,其高档的Pentium III 处理器采用Rambus DRAM结构。,DRAM的研制与发展,28,6. 集成随机存储器(IRAM) 将整个DRAM系统集成在

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