薄膜材料与薄膜技术

薄膜材料与薄膜技术Tag内容描述：<p>1、薄膜材料与薄膜技术 答案薄膜材料与薄膜技术(答案) 2011年11月19日第一章 真空技术基础 1、膜的定义及分类。 答：当固体或液体的一维线性尺度远远小于它的其他二维尺度时，我们将这样的固体或液体称为膜。 通常，膜可分为两类： （1）厚度大于1mm的膜，称为厚膜； （2）厚度小于1mm的膜，称为薄膜。 2、人类所接触的真空大体上可分为哪两种？ 答：（1）宇宙空间所存在的真空，称之为“自然真空”；（2）人们用真空泵抽调容器中的气体所获得的真空，称之为“人为真空”。 3、何为真空、绝对真空及相对真空？ 答：不论哪一种类型上的真空，。</p><p>2、薄膜材料与薄膜技术 第二章 薄膜的化学制备方法（1 ） 薄膜制备技术 直流溅射 射频溅射 磁控溅射 离子束溅射 真空 蒸发 溅射 沉积 离子镀 物理气相沉积 （PVD） 化学气相沉积 （CVD） 分子束外延 （MBE） 气相沉积 电 镀 法 溶胶-凝胶法 电阻加热 感应加热 电子束加热 激光加热 直流二极型离子镀 射频放电离子镀 等离子体离子镀 HFCVD PECVD LECVD DC RF MW ECR 热壁 冷壁 化学气相沉积(CVD) 1. 化学气相沉积: 沉积过程中发生化学反应，薄膜与原料的 化合状态不一样。 2. 代表性技术：低压CVD(LPCVD), 常压CVD APCVD, 等 离子体增强CVD (P。</p><p>3、薄膜材料与薄膜技术 第三章 薄膜的物理制备方法（1） 蒸 发 薄膜的物理制备技术 直流溅射 射频溅射 磁控溅射 离子束溅射 真空 蒸发 溅射 沉积 离子镀 物理气相沉积 （PVD） 电阻加热 感应加热 电子束加热 激光加热 直流二极型离子镀 射频放电离子镀 等离子体离子镀 1. 真空蒸发原理 2. 蒸发源的蒸发特性及薄厚分布 3. 蒸发源的类型 4. 合金及化合物的蒸发 5. 膜厚和淀积速率的测量与监控 本章主要内容 真空蒸发原理 真空蒸发原理 真空蒸发的特点与蒸发过程 设备比较简单、操作容易； 薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制； 成膜速度快、。</p><p>4、AB Definitions m: coating metal weight p: metal density; T: plating time; M: metal atomic weight n: valence of metal ions; F: Faraday Constant; I(d): current density; S: coating area; h: coating thickness; C OOH。</p><p>5、薄膜材料与薄膜技术,第八章 薄膜技术,薄膜与高新技术,材料、信息技术与能源称为现代人类文明的三大支柱。国民经济的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展的制约或推动。新材料的发展水平成为了衡量国家技术水平和综合实力的重要标志。 何谓“新材料”？简单地说，就是那些新出现或已在发展中的，在成分、组织、结构、形态等方面不同于普通材料，具有传统材料所不具备的优异性能和特殊功能的材料。 何谓“高技术”？简单地说，就是采用新材料、新工艺，产生更高效益，能促进人类物质文明和精神文明更快进步的技术。 而薄膜，。</p><p>6、薄膜材料与薄膜技术,王成新,薄膜材料的简单分类,薄膜材料,涂层或厚膜,薄膜(1um),材料保护涂层,材料装饰涂层,光电子学薄膜,微电子学薄膜,其它功能薄膜,(1um),(力,热,磁,生物等),薄膜材料的制备技术,薄膜材料的制备技术,机械或化学方法,真空技术(薄膜),喷涂,电镀,物理气相沉积技术,(涂层),化学气相沉积技术,电化学方法(薄膜),薄膜材料的表征,薄膜材料的表征,结构,物性,组份,电子结构,光学性质,电学性质,力,热,磁,生物等性质,晶体结构,主要内容,真空技术基础 薄膜制备的化学方法 薄膜制备的物理方法 薄膜的形成与生长 薄膜表征 薄膜材料,真空。</p><p>7、薄膜材料与薄膜技术 复习题 1 薄膜材料与体材料的联系与区别 1 薄膜所用原料少 容易大面积化 而且可以曲面加工 例 金箔 饰品 太阳能电池 GaN SiC Diamond 2 厚度小 比表面积大 能产生许多新效应 如 极化效应 表面和。</p><p>8、薄膜材料与薄膜技术 复习题 1 薄膜材料与体材料的联系与区别 1 薄膜所用原料少 容易大面积化 而且可以曲面加工 例 金箔 饰品 太阳能电池 GaN SiC Diamond 2 厚度小 比表面积大 能产生许多新效应 如 极化效应 表面和。</p>