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模拟电子技术基础试卷

发射结为____。集电结为____。工作在饱和区时。B、反向偏置。各大题标有题量和总分) 一、选择题(40 小题。共 132.0 分) (4 分)[1]晶体管工作在放大区时。本试卷分第 Ⅰ卷(选择题)和第Ⅱ卷(非选择题)两部分。Ⅱ卷答案写在试卷上。用铅笔把答题卡上对应题目的答案标号涂黑。《模拟电子技术基础》模拟试卷2。

模拟电子技术基础试卷Tag内容描述:<p>1、题目部分,(卷面共有67题,205.0分,各大题标有题量和总分)一、选择题(40小题,共132.0分)(4分)1晶体管工作在放大区时,发射结为____,集电结为____,工作在饱和区时,发射结为____,集电结为____。A、正向偏置, B、反向偏置 , C、零偏置(2分)21。NPN和PNP型晶体管的区别取决于____A、半导体材料硅和锗的不同, B、掺杂元素的不同 ,C、掺杂浓度的不同, D、P区和N区的位置不同。2N沟道和P沟道场效应管的区别在于____A、衬底材料前者为硅,后者为锗,B、衬底材料前者为 N型,后者为 P型,C、导电沟道中载流子前者为 电子,后者为空穴。(2分。</p><p>2、题目部分,(卷面共有 67 题,205.0 分,各大题标有题量和总分) 一、选择题(40 小题,共 132.0 分) (4 分)1晶体管工作在放大区时,发射结为____,集电结为____,工作在饱和区时,发射结 为____,集电结为____。 A、正向偏置,B、反向偏置 ,C、零偏置 (2 分)2 1。NPN 和 PNP 型晶体管的区别取决于____ A、半导体材料硅和锗的不同,B、掺杂元素的不同 , C、掺杂浓度的不同,D、P 区和 N 区的位置不同。 2N 沟道和 P 沟道场效应管的区别在于____ A、衬底材料前者为硅,后者为锗, B、衬底材料前者为 N 型,后者为 P 型, C、导电沟道中载流子前。</p><p>3、电子电工专业试卷说明:本试卷分第 卷(选择题)和第卷(非选择题)两部分,第卷XXX页,第卷XXX页。两卷满分为100分,考试时间120分钟。卷答案涂在答题卡上,卷答案写在试卷上。第卷(选择题,共35分)注意事项:每小题选出答案后,用铅笔把答题卡上对应题目的答案标号涂黑,如需改动,请用橡皮擦干净后,再选择其答案标号,如果答案不涂写在答题卡上,成绩无效。一、选择题(本大题共10小题,每小题3分,共计30分。每小题只有一个正确答案。)1、半导体二极管加正向电压时,有( ) A、电流大电阻小 B、电流大电阻大C、电流小电阻小 D、。</p><p>4、模拟电子技术基础模拟试卷2一、 填空题(共15分,每空1.5分)1、集成运放通常包含 、 、 、 四个部分。2、在双端输入的长尾式差分放大电路中,射极电阻对 信号无影响,对 信号具有抑制作用。3、在放大电路中,引入串联负反馈使输入电阻 ,引入电压负反馈使输出电阻 。4、PN结中进行着两种载流子的运动:多数载流子的 和少数载流子的 。二、 判断题(共18分)1、判断如下(a)、(b)电路中三极管分别工作在哪个区,要求写出简单计算过程或简要说明理由。(本题6分)(a) (b)2、判断如下(c)、(d)电路是否有放大作用,并说明理由(本题6分。</p><p>5、模拟电子技术基础模拟试卷3参考答案班级 座号 姓名 题号一二三四合计 得分得分评卷人一、填空(26分,每空1分)1、工作在线性区的理想运放器,两个输入端的输入电流均为零称为虚 断 。两个输入端的电位相等称为虚 短 ,若反相输入情况下同相端接地,反相端又称为虚 地 。即使理想运放器在非线性工作区,虚 断 结论也是成立的。2、稳定静态工作点应加 直流负 反馈;稳定放大倍数应加 交流负 反馈;稳定输出电压应加 交流电压负 反馈;稳定输出电流应加交流电流负反馈。3、正弦波振荡电路发生自激振荡的相位平衡条件是;振幅平衡条件是,起。</p><p>6、模拟电子技术基础试卷 一概念填空题 本题共6题 每空1分 共14分 1 P型半导体中空穴为 载流子 自由电子为 载流子 2 PN结正偏时 反偏时 所以PN结具有 导电性 3 三极管是 控制元件 场效应管是 控制元件 4 晶体三极管具有。</p>
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