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文档简介

一、太阳能电池工艺简介 太阳能电池生产流程图 一、p1工艺简介 p1刻划2d效果图 10x效果图上40x效果图 一、p1工艺简介 p1刻划3d效果图 一、p1工艺简介 p1采用波长为1064nm的激光来刻划(激光能量9-10w), 刻划p1的作用是:将tco分节,作为子电池衬底(按图纸要求将导电 膜划分成所需要的子电池单元) p1工艺标准 刻划线宽455m,重合率40%10%,节节电阻大于20k欧 (具 体工艺标准请以相关工艺文件为准) 工艺调试相关参数 激光电流直接影响激光器光束的能量 激光频率影响光斑重合率的主要参数 平台速度mit的刻线速度是1300mm/s 一、激光工艺简介 一、激光工艺简介 p1未刻断效果图 以上现象是因为玻璃面有杂质 导致激光无法穿透所致,故前 清洗以及传动线滚轮是否清洁 对p1刻划有相当重要的影响 以上是因为玻璃内部杂质所致 ,只能通过控制原材料来预 防。 一、p1工艺简介 影响p1刻不断的因素: 玻璃表面有水、手印或者杂质 玻璃内部缺陷导致光无法穿透 激光电流频率等参数不对 水温过低或高导致激光能量不稳定 光路上有异物遮挡导致激光能量过低 光学镜片不干净或者被刮花导致激光能量过低 腔内晶体凝露导致激光能量过低或者不出光 激光器老化衰减等原因 二、p2、p3工艺简介 p2、p3刻划2d效果图 40x效果图 二、p2、p3工艺简介 p2、p3刻划3d效果图 二、p2、p3工艺简介 p2、p3刻划3d效果图 二、p2、p3工艺简介 p2、p3采用波长为532nm的激光来刻划, 刻划p2的作用是:将非晶硅膜层去掉,露出前级tco,便于镀pvd时 ,铝膜能与tco相连,从而让子电池串联在一起。 刻划p3的作用是:完成子电池的分离。 p2工艺标准 刻划线宽755m,重合率45%5%,底部非晶硅去除干净,刻线边缘 无毛刺,不能伤到导电膜 p3工艺标准 刻划线宽755m,重合率35%5%,铝膜需去除干净,刻线边缘无毛 刺,不能伤到导电膜 (具体工艺标准请以相关工艺文件为准) 工艺调试相关参数 激光电流直接影响激光器光束的能量 激光频率影响光斑重合率的主要参数 平台速度mit的刻线速度是1300mm/s 二、p2、p3工艺简介 p2、p3刻线异常图片 二、p2、p3工艺简介 p2、p3刻线异常图片 二、p2、p3工艺简介 影响p2、p3刻不干净的因素: 玻璃表面有水、手印或者杂质 玻璃内部缺陷导致光无法穿透 激光电流频率等参数不对 水温过低或高导致激光能量不稳定 光路上有异物遮挡导致激光能量过低 光学镜片不干净或者被刮花导致激光能量过低 腔内晶体凝露导致激光能量过低或者不出光 激光器老化衰减等原因 cvd、pvd镀膜不均匀,镀膜异常时(主要是指放电异常、脱膜、靶 材不干净导致异常等原因,也会造成激光刻线效果的异常 cvd镀膜时产生的衍射区域,会导致激光无法刻透。 三、p4工艺简介 p4扫边2d效果图片 三、p4工艺简介 p4扫边2d效果图片 三、p4工艺简介 p2刻划3d效果图 三、p4工艺简介 p4刻划3d效果图 三、p4工艺简介 p4采用波长为1064nm的激光来刻划, 刻划p4的作用是:去掉芯板四周所有膜层,从而起到绝缘防漏电的效 果,另外还有个作用 美观的效果。 p4工艺标准 清边区域约10mm,垂直于玻璃边缘的网格必须断开,平等于玻璃边 缘网格允许轻微相连, (具体工艺标准请以相关工艺文件为准) 三、p4工艺简介 影响p4扫边不干净的因素: 激光能量、频率等参数不对 振镜位置不正导致激光焦点不对 水温过低或高导致激光能量不稳定 光路上有异物遮挡导致激光能量过低 光学镜片不干净或者被刮花导致激光能量过低 腔内晶体凝露导致激光能量过低或者不出光 光纤损坏或老化导致激光能量过低 激光器老化衰减等原因 四、电池内部结构图 四、电池内部结构图 cell width dead area line width 45um 激光刻蚀效果的好坏、dead area的宽窄都会影响产品的转换效率。 spot size (um) p1=40 p2=65 p3=80 total (um) 360 overlap(%) p1=60 p2=25 p3=25 isolation(mohm) p1 1 光束类类型 飞飞

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