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文档简介
4.1 半导体三极管(BJT),4.2 共射极放大电路,4.3 图解分析法,4.4 小信号模型分析法,4.5 放大电路的工作点稳定问题,4.6 共集电极电路和共基极电路,4.7 放大电路的频率响应,4 半导体三极管及放大电路基础,4.8 多级放大电路,4.1 半导体三极管(BJT),BJT是通过一定的工艺,将两个PN结结合在一起的器件。由于两个PN结之间的相互影响,使BJT表现出不同于单个PN结的特性而具有电流放大作用,从而使PN结的应用发生了质的飞跃。,BJT的应用: (1)在模拟电路中作为放大元件 (2)在数字电路中作为开关元件,1个PN结 : 二极管,单向导电性,开关作用,非线性电阻 2个PN结 : 三极管,电流控制作用,开关作用 3个PN结 : 晶闸管,可控整流,4.1.1 BJT的结构简介,4.1.3 BJT的特性曲线,4.1.4 BJT的主要参数,4.1.2 BJT的电流分配与放大(控制)原理,4.1 半导体三极管(BJT),4.1.1 BJT的结构简介,半导体三极管的结构示意图如下图所示。它有两种类型:NPN型和PNP型。 两种类型的三极管,发射结(Je),集电结(Jc),基极,用B或b表示(Base),发射极,用E或e 表示(Emitter);,集电极,用C或c 表示(Collector)。,发射区,集电区,基区,三极管符号,结构特点(对NPN PNP型均适用),发射区的掺杂浓度最高;,集电区掺杂浓度低于发射区,且面积大;,基区很薄,一般在几个微米至几十个微米,且 掺杂浓度最低。,管芯结构剖面图,1、要使三极管具有电流放大作用所必须提供的条件:,外部条件:外加直流电压源保证发射结正偏,集电结反偏。 内部条件: 发射区的掺杂浓度最高; 集电区掺杂浓度低于发射区,且面积大; 基区很薄,一般在几个微米至几十个微米,且掺 杂浓度最低。,4.1.2 BJT的电流分配与放大原理,两个PN结,每个有正偏和反偏两种状态,组合起来,共有4种状态:,发射结正偏,集电结反偏:放大区,在模拟放大电路中使用,发射结正偏,集电结正偏:饱和区,发射结反偏,集电结反偏:截止区,发射结反偏,集电结正偏: 倒置状态,基本上没有什么用处,在数字电路中使用,2、三极管具有电流放大作用时在三极管内部载流子的传输过程(以NPN管为例介绍),(1)发射区向基区注入自由电子(对NPN管子为自由电子,对PNP管子为空穴),发射结正偏,发射区多子向基区扩散,形成发射极电子电流InE,基区多子向发射区扩散,小,可忽略,漂移运动很弱,可忽略,发射极电流IE= InE,(2)自由电子在基区扩散与复合(对NPN管子为自由电子,对PNP管子为空穴),在基区内自由电子继续向集电结方向扩散,一部分与基区空穴复合,形成基极复合电流 IB,绝大部分扩散到集电结边缘,三极管制成后二者分配比例就已经确定,(3)集电区收集从发射区扩散过来的载流子(对NPN管子为自由电子,对PNP管子为空穴),集电结反偏,发射区扩散过来的自由电子向集电区漂移,集电区自身的少子向基区漂移,基区自身的少子向集电区漂移,扩散运动难以进行,形成集电极电子电流Inc,形成反向饱和电流ICBO,集电极电流IC= Inc +ICBO,基极电流IB = IB - ICBO,以上看出,三极管内有两种载流子(自由电子和空穴)参与导电,故称为双极型三极管或BJT (Bipolar Junction Transistor)。,3、 电流分配关系,根据传输过程可知,IC= InC+ ICBO,IB= IB - ICBO,通常 IC ICBO,IE=IB+ IC,(1)共基极直流电流放大系数,(2)共射极直流电流放大系数,综上所述,三极管的放大作用,主要是依靠它的发射极电流能够通过基区传输,然后到达集电极而实现的。 实现这一传输过程的两个条件是: (1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄。 (2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。,BJT的电流分配与放大(称为控制更合适)原理,小结:,2019/7/21,半导体三极管的型号,第二位:A锗PNP管、B锗NPN管、 C硅PNP管、D硅NPN管,第三位:X低频小功率管、D低频大功率管、 G高频小功率管、A高频大功率管、K开关管,国家标准对半导体器件型号的命名举例如下:,3DG110B,4.1.3 BJT的特性曲线,BJT非线性器件,所以电压、电流之间的关系只能用曲线才能描述清楚,从使用三极管的角度看,了解特性曲线比了解内部载流子的运动更重要,所以我们现在作为使用者,而不是制造者,我们要对特性曲线进行更深入的分析,而内部载流子的运动规律可以帮助我们解释为什么特性曲线是这样。,特性曲线的分类,输入特性曲线 输出特性曲线,共射接法特性曲线 共基接法特性曲线 共集接法特性曲线,NPN管特性曲线 PNP管特性曲线,我们只研究NPN共射 特性曲线(输入、输出),规定电压和电流的参考方向如图所示:,注意电压变量、电流变量的写法:小写的字母,大写的下标,iB=f(vBE) vCE=const,iC=f(vCE) iB=const,vCE = 0V,iB=f(vBE) vCE=const,(2) 当vCE1V时, vCB= vCE - vBE0,集电结已进入反偏状态,开始收集电子,基区复合减少,同样的vBE下IB减小,特性曲线右移。,(1) 当vCE=0V时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。(饱和区),1、 NPN共射输入特性曲线,截止区,非线性区,线性区(放大区),NPN共射输入特性曲线的特点描述,(1)当vCE=0V时,相当于正向偏置的两个二极管并联,所以与PN结的正向特性相似 (2) vCE1V的特性曲线比vCE=0V的右移。原因: vCE1V时集电结反偏,集电结吸引自由电子的能力增强,从发射区注入的自由电子更多地流向集电区,对应于相同的vBE (即发射区发射的自由电子数一定) ,流向基极的电流减小,曲线右移 (3) vCE1V与vCE=1V的曲线非常接近,可以近似认为重合 (4)有一段死区 (5)非线性特性 (6)温度上升,曲线左移 (7)陡峭上升部分可以近似认为是直线,即iB与vBE成正比(8)放大状态时,NPN的vBE =0.7V, PNP的vBE =-0.2V,饱和区:iC明显受vCE控制的区域,该区域内,一般vCE0.3V(硅管)。此时,发射结正偏,集电结正偏或反偏电压很小。,iC=f(vCE) iB=const,2、 NPN共射输出特性曲线,截止区:iC接近零的区域,相当iB=0的曲线的下方。此时, vBE小于死区电压。,放大区:iC平行于vCE轴的区域,曲线基本平行等距。此时,发射结正偏,集电结反偏。,NPN共射输出特性曲线的特点描述,截止区: 的区域:三个电极上的电流为0,发射结和集电结均反偏,相当于开关打开,在数字电路中作为开关元件的一个状态。,饱和区:直线上升和弯曲的部分, 发射结电压0.7V(硅管)或0.2V(锗管);发射结和集电结均正偏,相当于开关闭合,在数字电路中作为开关元件的一个状态。,放大区:曲线近似水平的区域,曲线随vCE增加略有上翘,基区宽度调制效应,发射结 正偏,集电结反偏。集电极电流主要决定于基极电流。,有关三个区的几个简单结论,截止区: 三极管的三个电极所在的支路中的电流为0,任意两个极之间的电压是多少,决定于外电路,满足电路方程。 饱和区: NPN的vBE =0.7V, PNP的vBE =-0.2V,没有,三极管的三个电极所在的支路中的电流决定于外电路,满足电路方程。 放大区:NPN的vBE =0.7V, PNP的vBE =-0.2V, 有,三极管的三个电极所在的支路中的电流决定于外电路,满足电路方程。,判断三极管工作状态的依据:,饱和区:,发射结正偏,集电结正偏,截止区:,发射结反偏,集电结反偏,或:,Vbe0.5V(Si),|Vbe | 0.2V(Ge),放大区:,发射结正偏,集电结反偏,但是用这种判据不方便,判断三极管工作状态的解题思路:,1、把三极管从电路中拿走,在此电路拓扑结构下求三极管的发射结电压: 若发射结反偏或零偏或小于死区电压值:则三极管截止. 若发射结正偏:则三极管可能处于放大状态或处于饱和状态,需要进一步判断。进入步骤2,2、把三极管放入电路中,电路的拓扑结构回到从前;假设三极管处于临界饱和状态(三极管既可以认为是处于饱和状态也可以认为是处于放大状态,在放大区和饱和区的交界区域,此时三极管既有饱和时的特征VCES =0.3V又有放大的特征IC=IB),求此时三极管的集电极临界饱和电流ICS ,进而求出基极临界饱和电流IBS 是三极管的集电极可能流过的最大电流(在三极管状态改变的前提下, VCC和RC保持不变),3、在原始电路拓扑结构基础上,求出三极管的基极支路中实际流动的电流iB,4、比较iB和IBS的大小: 若iB IBS ,则三极管处于饱和状态; 或者 IB ICS 若iB IBS ,则三极管处于放大状态; 或者 IB ICS,4.1.4 BJT的主要参数,(1)共发射极直流电流放大系数,1. 电流放大系数,(2) 共发射极交流电流放大系数 =IC/IBvCE=con
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