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文档简介

4.5.1 PLD的结构、表示方法及分类 4.5.2 组合逻辑电路的PLD实现 4.5 组合可编程逻辑器件 概述 从逻辑功能的特点来看,数字电路可分为 通用型和专用型两种。前面介绍的都属于 通用型。如门电路、计数器、寄存器等。 还有很多电路实现复杂逻辑功能,是为某 种用途专门设计的集成电路,称为专用集 成电路,简称ASIC。 系统规模扩大,连接多、可靠性下降、功耗大、成本升高 及占用空间大 设计周期长,成本高及承担设计风险 可编程逻辑器件,简称PLD(Programmable Logical Device)。它属于通用器件,但它 的逻辑功能是由用户通过编程来设定的。 PLD的集成度很高,足以满足一般数字系统 的要求。 由由PLD编程的开发系统由硬件和软件两部分 构成。硬件为计算机、专用编程器等;软件 为集成开发软件、 编程的开发系统由硬件和软件两部分 构成。硬件为计算机、专用编程器等;软件 为集成开发软件、ABEL、Verilog HDL、 、 VHDL等语言。等语言。 在系统可编程器件isp的编程更为简单,不 需专门的编程器,只要将计算机运行的编程 数据直接写入PLD即可。 1. 结构 4.5.1 PLD的结构、表示方法及分类 输出 或 门 阵 列 与 门 阵 列 输入 输出 或 门 阵 列 与 门 阵 列 输入 BA YZ 可编程 与阵列 可编程 与阵列 固定或 阵列 固定或 阵列 乘积项乘积项 2. 表示法 连接方式 基 本 门 表 示 法 A B C D 当浮栅上带有负电荷时,则衬底表面感应的是正 电荷,这使得 当浮栅上带有负电荷时,则衬底表面感应的是正 电荷,这使得MOS管的开启电压变高,如果给控制 栅加上同样的控制电压, 管的开启电压变高,如果给控制 栅加上同样的控制电压,MOS管仍处于截止状态。管仍处于截止状态。 SIMOS管利用浮栅是 否累积有负电荷来存 储二值数据。 管利用浮栅是 否累积有负电荷来存 储二值数据。 N沟道叠栅管沟道叠栅管(SIMOS),其结构如下:,其结构如下: 写入数据前,浮栅不带 电荷,要想使其带负电 荷,需在漏、栅级上加 足够高的电压 写入数据前,浮栅不带 电荷,要想使其带负电 荷,需在漏、栅级上加 足够高的电压25V即可。即可。 若想擦除,可用紫外线或若想擦除,可用紫外线或X射线,距管子射线,距管子2厘米处照 射 厘米处照 射15-20分钟。分钟。 当浮栅上没有电荷时,给控制栅加上控制电压, 当浮栅上没有电荷时,给控制栅加上控制电压, MOS管导通管导通. 浮栅隧道MOS管 Flotox MOS 可用电擦除信息,以字为单位,速度高,可重 复擦写 可用电擦除信息,以字为单位,速度高,可重 复擦写1万次。万次。 与与SIMOS的区别是:的区别是: 浮栅延长区与漏区 浮栅延长区与漏区 N+之间的交叠处有 一个厚度约为 之间的交叠处有 一个厚度约为80A (埃埃)的薄绝缘层。的薄绝缘层。 快闪(Flash)叠栅 MOS管 与SIMOS的区别是: 1.闪速存储器存储单元 MOS管的源极N+区大于漏 极N+区,而SIMOS管的源 极N+区和漏极N+区是对称 的; 2. 浮栅到P型衬底间的氧 化绝缘层比SIMOS管的更 薄。 PROMPLAPALGAL 低密度可编程逻辑器件低密度可编程逻辑器件 (LDPLD)(LDPLD) EPLDCPLDFPGA 高密度可编程逻辑器件高密度可编程逻辑器件 (HDPLD)(HDPLD) 可编程逻辑器件 ( 可编程逻辑器件 (PLD) 按集成密度分为 3. PLD的分类 按结构分为按结构分为 基于与基于与/ 或阵列结构的器件或阵列结构的器件SPLD(PROM、 、 PLA、PAL、GAL)、)、CPLD(EPLD),并称之 为 并称之 为PLD。 基于门阵列结构的器件( 基于门阵列结构的器件(FPGA) 按编程工艺分为按编程工艺分为 1. 熔丝和反熔丝编程器件。如:熔丝和反熔丝编程器件。如:Actel的的FPGA器件。器件。 2. SRAM 器件。如:器件。如:Xilinx的的FPGA器件。器件。 3. UEPROM器件,即紫外线擦除器件,即紫外线擦除/电编程器件。电编程器件。 如大多数的如大多数的EPLD器件。器件。 4. EEPROM器件。如:器件。如:GAL、CPLD器件。器件。 PROM PLA PAL 4.5.2 组合逻辑电路的PLD实现 1.PLA BnAn “或”阵列 (固定) SnCn+1 “与”阵列 (可编程) Cn nnnnnnn nn

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