（精密仪器及机械专业论文）同步辐射碳污染光学元件清洗研究.pdf

摘要 摘要 同步辐射装置中的光学元件在一段时间使用后表面会被污染。随着同步辐射 能量的提高，这种现象越来越严重。经研究，表面污染物的主要成份是碳，结构 为石墨型。这层污染物会导致通过光学元件光通量的损失，同时增加表面杂散光。 高于碳吸收边能量( 约2 8 0 e v ) 的射线被极大吸收，导致无法利用这部分同步辐 射。为了使受污染的光学元件性能得到恢复，国内外研究了很多清洗技术，取得 了一定效果。但是这些技术需要额外的辅助装置，同时会带来二次污染。本文研 究了利用同步辐射活化氧对受污染处进行清洗，实现了污染和清洗都使用同一束 光。该清洗方法不需要设计其他装置，是真正意义上的原位清洗。该技术操作简 便，清沈完后无需对光束线进行烘烤。论文主要分以下几个部分： 1 实验系统研制 本文中阐明了实验系统设计过程。该系统有以下几个功能：( 1 ) 实现差分 功能，满足与光束线连接的真空要求；( 2 ) 样品安放功能；( 3 ) 系统中各气体分 压测量功能；( 4 ) 完成氧气在同步辐射下分解研究；( 5 ) 完成清洗研究。 在研制过程中，从真空和机械两个方面考虑，同时结合系统安放场地空问进 行设计。完成后的系统符合实验要求，达到各项设计指标。 此外，完成了差分系统设计的程序化，使得差分管设计变得简便，缩短了设 计时间。 2 同步辐射下氧气分解研究 同步辐射活化氧技术采用纯氧作为原始清洗气体。氧气在同步辐射下分解产 生的强氧化性物质( o 和0 3 ) 与污染物反应，并生成气态物质而脱离光学元件 表面达到清洗目的。因此对该部分的研究十分重要的。 氧气在同步辐射下分解产生的主要物质为o 和0 3 。它们的量受氧气压强和 同步辐射能量的影响。在研究中发现，o 和0 3 的量与氧气压强成正比，与同步 辐射能量成正比。 3 碳污染清洗定量研究及模型 本文从两个方面对碳污染清洗进行研究： a 清洗元件表面碳有机物 光学元件表面的污染物主要是石墨型碳，但是其最表层附着少量的碳氢物质 ( 主要是同步辐射照射时间不长，有机物没完全分解形成石墨型碳) 。在不同的 氧气压强下对表面有机物进行清洗，得到以下结论：( 1 ) 氧气与有机物的反应产 摘要 生的主要物质是c 0 2 ；( 2 ) 在研究的氧气量范围内，氧气压强高，反应生成的 c o ：量越多：( 3 ) 同步辐射光束流越高， b 清沈硅片上的碳层 基于光学元件表面污染物的特性， 反应相对越快，产生的c 0 2 量越多。 通过在硅晶片上的碳层模拟污染物，通 过清洗前后反射率变化来确定碳层的厚度。经过研究得到以下几点认识：( 1 r ) 本 文研究方法能有效清除碳层；( 2 ) 在四个小时清洗中，碳清除率可到1 7 5 枞； ( 3 ) 清洗后表面粗糙度有所增加，离光照射处越近反射率下降越多，相应粗糙 度越大。 通过以上韵研究，提出了清洗可能发生的模型，认为清沈过程是一个污染和 清洗并存逐渐清洗的过程。模型在一定程度上符合实验结果。 关键词：同步辐射碳污染光学元件活化氧氧原子臭氧 a b s t r 暑【c t 一 a b s t r a c t o p t i c a le l e m e n t su s e di ns y n c h r o a 的nr a d i a t i o nb e 锄l i n e sf o rs o m et i r n ea r e c o n t 锄i n a t e d t h i sp h e n o m e n o nb e c o m e sm u c hm o r es e r i o u sd u et 0h i g h e rs re n e r g y t h ec o n t a m i n a t i o no no p t i c a le l e m e m s s u r f a c e si s g r a p h i t e l i k e c 打b o nb y r e s e a r c h i n g t kc a r b o nc o n t 锄i n a t i o nc a u s e s s e v e r el o s so fp h o t o nn u xa n d i n c r e a s e ds c a t t e r e dl i g h t a b o v ec ke n e r g y ( a b o u t2 8 0 e v ) p h o t o n sa r es e v e r e l y a b s o r b e ds ot h a tt h e s es re n e 唱yp h o t o n sc o u l d n tb eu t i l i z e d i no r d e r t or e s u s c l t a t e o p t i c a l e l e m e n te m c i e n c y ，r e s e a r c h e sa th o m ea 1 1 d a b r o a dh a v eb e e nd e v o t e dt o c l e a n i n gm e m o d s ，a n dt h e s em e t l l o d s a r ee 丘e c t i v e b u ta d d i t i o n a la s s i s 切n t e q u i p m e n t sa r er e q u i r e df o rt h e s ec l e 越n gm e t h o d s 毅do p t i 跚e l e m e n t sr n a y b e c o n t 锄i n a t e da g a i n 1 1 1 i sp a p e rf o c u s e so nr e s e a r c ho fc l e 撕n gc a r b o nc o n t 锄i n a t e d o p t i c 2 l le l e m e n t sw no x y 鲕a c t i v a t e db ys y n c l l r o 们nr a d i a t i o n ，a 1 1 dt h es 锄eb e 锄 i su s e d d u f i n gc o n t 锄i n a t i o na n dc l e a i l i n gp r o c e s s t h i sm e t h o dr e q u i r e d n o a d d i t i o n a le q u i p m e n t sa n di sr e a n yi n s u i tc l e a i l i n gm e t h o d i ti se a l s ya n dn e e d i l tb e b a k e dt h eb e a ml i n ea 惋rc l e a m n g t h ec o n t e n to f “sp a p e ri sd e s c r i b e da st h e f o l l o w i n g ： 1 d e s 逛n i n go fe x p e r i m e n t a ls y s t e m t h ed e s i g i l i n go fe x p e r i m e n t a ls y s t e mi si l l 啪i n a t e di nm i sp 印e r i tc o n t a i n st h e f o l l o w i n gf i m c t i o n s ：( 1 ) v a c u u md i f r e r e n t i a lm n c t i o n ；( 2 ) s a m p l ee m p l a c i n g ；( 3 ) v 撕o u sg a s e sp r e s s u r et e s t i n g ；( 4 ) c o 如【p l e t i n gt h er e s e a r c ho fo x y g e nd i s s o c i a t i o n ；( 5 ) c o m p i e t i n gc l e a i l i n g d l u i n gs y s t e md e s i 盟i n g ，v a c u u m a n dm e c h a i l i c a l c a p a b i l i t i e s h a v eb e e n c o n s i d e r e d ，a tt h es a m et i m en l es p a c ef o rs y s t e me m p l a c i n gh a sa l s ob e e nt a k e ni n t o a c c o u n t t h es y s t e mm e e t se x p e r i m e n t a lr e q u i r e sa n da c l l i e v e sd e s i g n i n gt a r g e t s a d d i t i o n a l l y ，t h ed e s i g n i n go fv a c u 啪d i 虢r e n t i a ls y s t e mb yp r o g r 锄h a sb e e n a c h i e v e d i tm a k e sd i 仃e r e n t i a it u b ed e s i g m n ge a s ya i l dr e d u c e sd e s i g n i n gt i m e 2 王k s e a r c ho fo x y g e nd i s s o e i a t i o ni ns y n c h r o t r o nr a d i a t i o n c l e a n i n go fo x y g e na c t i v a t e db ys ru s e dp u r eo x y g e na sc l e a n i n gg a s s t r o n g o x i d a t i o ns p e c i e s( oa n d0 3 )p r o d u c e di no x y g e nd i s s o c i a t i o n r e a c t st ot h e c o n t a m i n a t i o na n dm a k e sc o n t a m i n a t i o nb e c a m ev a p o r i z e dg a s e sw h i c he s c a p e df 而m e i e m e n t s s u r f 如e s s oo x y g e nd i s s o c i a t i o ni ns rm a k e sg r e a ts e 璐ei nr e s e a r c h p r o d u c t si no x y g e nd i s s o c i a t i o ni ns r 、v e r em a i n l yoa n d0 3 t h e i ra m o u n t s | l i 论文原创性和授权使用声明 本人声明所呈交的学位论文，是本人在导师指导下进行研究工作 所取得的成果。除已特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含任 何他人已经发表或撰写过的研究成果。与我一同工作的同志对本研究 所做的贡献均己在论文中作了明确的说明。 本人授权中国科学技术大学拥有学位论文的部分使用权，即：学 校有权按有关规定向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子 版，允许论文被查阅和借阅，可以将学位论文编入有关数据库进行检 索，可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。 保密的学位论文在解密后也遵守此规定。 第1 章绪论 1 1 同步辐射简介 第1 章绪论 同步辐射是速度接近光速的带电粒子在曲线运动时沿轨道切线方向发出的 电磁辐射。它于1 9 4 7 年在美国首次被发现。从原子物理中，我们知道任何高速 运动的粒子在速度改变时会产生辐射现象。但是要在实验中观察到这种辐射，粒 子的速度需要接近光速，而电子被加速到光速相对其他粒子容易。因此，同步辐 射一般靠加速电子产生。 1 1 1 同步辐射理论基础 1 8 7 3 年m a ) ( w e l l 创建了麦克斯韦方程方程组，为电磁学的发展奠定了理论基 础。m a ) c 、e l i 提出并论证了电荷密度的变化会导致向外辐射电磁场。1 8 8 7 年，赫 兹证明了辐射电磁波的存在，并给出了电子在圆形轨道上运行时能量损失的速率 公式。1 8 9 8 年利纳德指出一个能量为e ，质量为m 的电子，沿着半径为r 的圆形 轨道运动，其速率为v ，这种匀速圆周运动将是一个强辐射源，其辐射功率可以 表示为( 王德武，1 9 9 4 ) ： 1 ， p 、4 尸芘素4 【丢j 其中= “光速) n d 1 9 0 8 年剑桥大学的斯格特发表了一篇名为e l e c 仃o m a g i l e t i ci h d i a t i o n 的论文。该 论文阐述了同步辐射的基本理论，并推导出同步辐射的特性，证明了利纳德的关 于“电子能量损失随电子能量的四次方增加 的结论。斯格特关于辐射干涉来 自许多电子的思想成为当今在同步辐射光源建造扭摆磁铁及产生自由电子激光 的思想基础。1 9 4 5 年，前苏联物理学家a r i m o v i c h 和p r o m e r a n c h u k 发表了一篇 名为t h er a d i a l i o no f f a s te l e c t r o ni nt h em a g i l e t i cf i e l d 的文章，并推导出能量的 损失和辐射的角度分布。1 9 4 6 年，中国学者朱洪元研究了宇宙射线中的高能电 子在地球磁场中运动发出辐射的问题。1 9 4 7 年，他发表了一篇“论高速荷电粒 子在磁场中发出的辐射 的文章，对同步辐射的发展做出了重要贡献。 1 1 2 同步辐射技术基础 同步辐射是由高能粒子做曲线运动时产生的辐射，只有当电子能量达到一定 数值时才能产生可观察的辐射。1 9 4 1 年凯斯特等人在通用公司建造了一台 第1 章绪论 2 0 m e v 的电子感应加速器，他们期望利用它能观测到电磁辐射，但是实验结果 发现电子能量在2 0 m e v 时，辐射是微乎其微的。因此，能获得高能粒子的装置 是获得同步辐射的基础。通常使用加速器获得高能粒子，加速器可分为：直线加 速器，回旋加速器，电子感应加速器和同步加速器。 1 直线加速器 直线加速器是加速电子得到高能电子较简单的方法，其加速方式可分为：直 接高压型，交变电场型和射频微波型。1 9 2 8 年e 维德罗提出加速原理。应用直 接高压加速法使电子获得k e v 或m e v 的能量，那么高压电压同样需要k v 或 m v 。为了避免高压击穿，需要把很高的电压分成几段。利用谐振电路就能产生 交变电压，在合适的频率下，电子被加速而获得能量。1 9 4 6 年后，人们开始利 用射频微波来加速带电粒子。在柱形金属空管( 波导) 内输入微波，可激励各 种模式的电磁波，其中一种模式沿轴线方向的电场有较大分量，可用来加速带 电粒子。为了使沿轴线运行的带电粒子始终处于加速状态，要求电磁波在波导 中的相速降低到与被加速粒子运动同步，这可以通过在波导中按一定间隔安置 带圆孔的膜片或漂移管来实现。 2 回旋加速器和感应加速器 2 0 世纪2 0 年代，回旋加速器和感应加速器相继出现。回旋加速器建立在利 用高频电压给电子加速和利用磁场使电子做圆周运动这两种作用的基础上的。 它主要由偏转电磁铁( 使粒子作圆周运动) 和真空腔组成。真空腔中有两个d 形盒状的电极。d 形电极接高频电压，在两个d 形盒间隙之间形成电场，电子 在电场中被加速。感应加速器主要利用电子在作绕圈运动时因磁通飘确筠醛醛 蚕季耋鸵鼻驷墓蓥；攀翘绪蚋弱妻磷霎蓁崮q 郎杉彝羹蓟蕊薹铱缘要高光子通量的实验影响最大。 除了效率下降外有时造成元件特殊作用的消失，如闪耀光栅，由于碳污染物沉积 在光栅面上，结果零级光强最大，正负一级光强相近，这些都说明污染后的闪耀 光栅失去了闪耀特征而变成“反射镜”。 聚焦波带片是软x 射线显微术光束线中常用的聚焦、色散元件，使用的波段 是包含c ，n x 第1 章绪论 之后r o s e n b e r gr a e ta l ( 1 9 9 0 ) 做了进一步的研究。假想的碳污染薄膜生长模式如 图1 2 所示( r o s e n b e r gr ae ta l ，1 9 9 0 ：徐向东等，2 0 0 0 ) 。 图1 2 碳污染溥膜形成图不 图卜2 中s 表示入射的有机分子数；r 表示反射的有机分子数量；v 表示解 吸率；n 表示吸附密度；k 表示污染速率。撞击光学元件表面上的碳氢分子或被 吸附或被反射。被吸附的分子主要是被次级光电子( s e c o n d a 巧p h o t o e l e c t r 0 i l s ) 而 非原光子( p r i m a r yp h o t o i l s ) 打成碎片或热解吸而发生聚合或交联。该过程周而复 始。由这一过程的动力学分析可以得到污染速率k 的表达式( r o s e n b e 玛ra e t a l ，1 9 9 0 ) ： k = c l p i c 2 + c 3 t e x p ( - e k d + i ( 1 2 ) 式中c i ，c 2 ，c 3 为常数；p 为气压；i 为光子或光电子的电流密度；t 为温度；k 为波尔兹曼常数；e 为热解吸的活化能。 r 0 s e n b e 略ra 的研究表明同步辐射光学元件辐照污染的过程存在以下几点 特性： ( 1 ) 碳沉积发生在元件表面； ( 2 ) 碳沉积速率与气压成正比( 气压在1 1 0 。7t o r r 到6 x 1 0 。7t 0 r r ) ，在较高 气压下几乎无关： ( 3 ) 碳污染生长速率与光学元件基底温度成反比； ( 4 ) 碳污染生长速率与真空室内残余气体组分有关，丙酮和异丁烯酸甲脂气 氛中的生长速率较大： ( 5 ) 俄歇电子能谱证实光解作用只发生在同步辐射光照射的区域 5 i 彪 第1 章绪论 率。 综合文献，我们了解到d c 或i 强放电清洗各有优缺点。在同步辐射装置中， 各光学元件是相互分离的，要为每个光学元件单独设计装置，有时这种设计是极 其复杂的；放电极与光学元件的距离要调准适当，这是比较困难的，否则会影响 除污效果。 1 3 3 臭氧紫外光清洗 目前，臭氧紫外光清洗广泛在半导体工业中用于清除硅表面的碳氢污染物。其 机理尚未清楚，一般认为在氧原子和臭氧的作用下，污染物转化为气化的物质 ( h a u l s e nr wce ta l ，1 9 9 4 ) 。h a i l s e ne ta l ( 1 9 9 4 ) 研究了臭氧紫外光清洗在复制光栅 的应用，取得了一定的成果。复制光栅表面涂有金反射层，里面是环氧层，实验 证实有机物层的清除速度是在同步辐射中产生的石墨型污染物的l o o 倍。如果清 洗过程中，臭氧渗透到环氧层，那么光栅将被损坏。紫外光可用汞灯或氘灯产生。 这种方法要求汞灯或氘灯距离光学元件表面5 衄左右。经实验证实，此法对除去 碳污染物是有效的，若光学元件表面发射层已破坏，则清洗后会破坏光学元件。 这种方法照射时间较长，可能导致氧化物的产生，使光学元件效率下降； 而且清洗后要重新调整真空度( 清洗时要分离光学元件，引入紫外光，装置暴露 在空气中) 。 1 4 课题背景及意义 同步辐射光束线是将同步辐射光从电子储存环引入到实验站的装置，其核心 部件就是实现各种功能的光学元件，如在软x 波段应用较多的是聚焦镜、反射镜 及选择特定波长的光栅。光学元件性能的好坏决定了光强和光分辨率，从而影响 到实验工作站的性能及实验的可信度。对于材料加工质量高、器件定位精度高的 同步辐射光学元件，其造价昂贵；对于第二代、第三代同步辐射光源，光学元件 在数周之内就可见表面污染物生成。如果采用更换元件的方式，不仅代价大、费 时，而且可能改变光束线的性能。 以前常用的清洁方法虽然能使光学元件的性能得到恢复，但是具有以下不足 7 第1 章绪论 之处： ( 1 ) 通常在清洁过程中需要引入放电电极，而电极离光学元件表面比较近 ( 1 0 m m 左右) ，容易引起二次污染，破坏元件表面。 ( 2 ) 在光束线中，各光学元件彼此分开，且距离相隔较远，放置光学元件的 结构比较复杂，因此需要为每个元件单独设计清洗装置。 ( 3 ) 如果选择较高氧气压强或含有水蒸气的混合气体( 为提高清洗效率) 作 为清洗反应的工作气体，那么在清洗完毕后需要对光束线进行烘烤，以 达到高真空度的要求 本文中研究的清洗方法，不需要对光学元件拆卸，保证了光学元件的位 置精度。同时，清洗和污染都使用固一光束，实现哪儿有污染就清洗哪儿的 功能。本文中的方法不仅操作简单，而且能有效保证清洗后的各项性能。 1 5 本文完成的主要工作 本文对同步辐射活化氧清洗碳污染进行了深入研究，建立了清洗原理模型。 该技术依靠同步辐射对氧气作用，使氧气分解，产生具有强氧化性的物质，这些 物质与光学元件表面碳污染进行反应，生成c 0 2 或c o 等气态物质，进而被真空 泵抽走，以达到清洗光学元件，恢复光学性能的目的。 本文主要完成以下三部分的研究： 1 实验系统研制 根据实验要求，实验系统实现以下功能：差分，测量，供气，稳压观察 等，通过编程实现了差分设计程序化。 2 氧气在同步辐射的分解 基于光化学，从同步辐射能量和氧气键能关系，通过实验定量的测定氧 气分解产物及与氧气压强的关系。 3 碳污染清洗研究 通过对清沈前后样品反射率变化，确定碳层厚度的变化。在此基础上建 立了清沈碳污染的模型。 8 第2 章实验系统研制 子场，粒子就是对应的场量子化的场量子。当空间存在某种粒子时，表明那种量 子场处于激发态；反之不存在粒子时，就意味着场处于基态。因此，真空是没有 任何场量子被激发的状态，或者说真空是量子场系统的基态。 关于真空的近代认识不再是哲学上的思辨，而是可通过实验来检验的。有不 少现象都需要用真空的近代观念予以说明。例如氢原子能级的兰姆移位和电子的 反常磁矩，实验上已经以非常高的精度证实了真空极化的效应；高能正负电子对 撞湮没为高能光子，反之高能光子可使真空激发出大量的粒子，也是很好的明证。 对于真空的认识尚属初级探索阶段，物理学家还在探索真空自发破缺和真空相变 等问题，必将推动物理学的进一步发展。 真空具有如下性质：1 它是所有粒子共同的基态，可以这么说，粒子就被激 发的真空，真空就是未被激发的粒子，粒子的存在就体现于可以被作用，或者更 确切的说，粒子就是一种作用，如果粒子不能被作用，那么就可以说它是真空， 任何脱离真空的所谓绝对的孤立的粒子是不存在的，真空时刻都处于一种动态的 平衡中，粒子的每一个变化都离不开与真空的互动，粒子和真空的互动是无时无 刻都在进行中的，任何绝对静止的物质是不存在的，粒子的本质在于自身的空 性。2 真空存在极性，因此说真空是不对称的。但这种不对称是相对局部的，在 相对整体上又是对称的，如此的循环嵌套构成了真空的这个性质。3 真空的每个 局部具备了真空的全体性质。大和小是相对而言的。时间也是相对于空间而言的， 时间不能脱离了具体的空间而单独的存在。 日常生活中的真空指的是气压比标准大气压小的气体空间，是指稀薄的气体 状态或稀薄的气体。真空可分为极高真空( 压强低于1 3 1 0 j 1 p a ) 、超高真空 ( 1 3 x l o 6 1 3 1 0 0 1 p a ) 、高真空真空( o 1 3 1 3 l o 印a ) 和低真空( 0 1 3 p a ) 。 真空度用来描述真空状态下的气体稀簿程度，通常用“真空度高”和“真空 度低”来表示。若所测设备内的压强低于大气压强，其压力测量需要真空计。从 真空计所读得的数值称真空度。真空度数值是表示出系统压强实际数值低于大气 压强的数值，对于真空度的标识通常有两种方法：一是用“绝对压力 、“绝 对真空度”( 即比“理论真空”高多少压力) 标识：在实际情况中，真空泵的绝 对压力值介于0 1 0 1 3 2 5 k p a 之间。绝对压力值需要用绝对压力仪表测量；二是 1 0 第2 章实验系统研制 分子流。由于气流的不同流念转变存在连续的区域，故还存在湍一粘滞流和粘滞一 分子流。 1 湍流 湍流一般发生在真空系统工作初期，如真空泵启动时的气流。湍流主要有以 下特点：( 1 ) 湍流流线无规则，伴有漩涡现象；( 2 ) 气体质点速度变化较快，即加 速度比较大。 2 粘滞流 当真空系统经过一段时间的运作，管路中的气流渐趋平稳，流线呈现一定的 规律，并随着管道形状变化和不同分层的速度，这种气流状态叫做粘滞流( 层流) 。 全 世l ； l j 莎 图2 1 粘滞流速度分布 图2 1 为圆管管道粘滞流速度分布曲线。管道中半径r 处的速度v 满足一下 方程( 郭洪震，1 9 9 2 ) ： ，= 等( r 2 一一 ( 2 1 ) 其中p 。一p ：是管道压强差；“是内摩擦系数；l 是管道长度；r 是管道半径。 各层的流速随着r 而变化。 h a g e ng 和p o i s e u l l ej 分别于1 8 3 9 和1 8 4 0 年各自从实验中提出计算粘滞流 流量公式，并可以严格从理论上推导求出( 郭洪震，1 9 9 2 ) 。 瓯2 盖户( 日一最) ( 2 - 2 ) d 为管道直径：户为管道中的平均气体压强；材是内摩擦系数；l 是管道长 度； 由于该公式从理想气体推导出来，所以对于压强较高时存在一定的偏差。在 6 6 7 3 0 6 6 4p a 范围内与实验的符合性较好【l 】。当压强低于6 6 7p a 时，由于管壁 附近产生滑动，实际的流量比上述公式计算要大。 3 分子流 1 2 第2 章实验系统研制 当管道中的压强比较低，气体分子的平均自由程与管道直径相当时，气体分 子相互问的碰撞变得非常少甚至可以忽略，气体分子依靠自身的热运动在管内分 子密度的推动下从压强高处流向低处，气体的这种运动状态叫做分子流。 分子流状态下，分子与管壁的碰撞是一种“漫反射”，即分子与管壁碰撞时 会在管壁停留一段时间，而且返回的速度不受入射时速度的影响。根据这一物理 特性，m 1 汕d s e n 等人推导出分子流的流量公式( 郭洪震，1 9 9 2 ) ： 纵2 若譬( h ) ( 2 3 ) 日：单位压强下的气体密度；d ：管道直径；：管道长度；只和忍分 别为管道出口和入口压强 4 粘滞一分子流 粘滞一分子流是间于粘滞流与分子流的过度流态。对于该流态流量的计算， 目前主要采用经验公式，并加以修正。m k n u d s e n 对于圆管的粘滞一分子流提出 以下的经验公式( 郭洪震，1 9 9 2 ) ： q = q 牯+ 6 q 分 ( 2 4 ) ，1 + 等叩 ( 2 5