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文档简介
电子元器件可靠性物理 中国电子电器可靠性工程协会费庆Tel 010 67642668北京市南三环东路27号C1108 第一讲失效物理的概念 失效的概念 失效定义1特性剧烈或缓慢变化2不能正常工作失效种类1致命性失效 如过电应力损伤2缓慢退化 如MESFET的IDSS下降3间歇失效 如塑封器件随温度变化间歇失效 失效物理的概念 定义 研究电子元器件失效机理的学科失效物理与器件物理的区别失效物理的用途 失效物理的定义 定义 研究电子元器件失效机理的学科失效机理 失效的物理化学根源举例 金属电迁移 金属电迁移 失效模式 金属互连线电阻值增大或开路失效机理 电子风效应产生条件 电流密度大于10E5A cm2高温纠正措施 高温淀积 增加铝颗粒直径 掺铜 降低工作温度 减少阶梯 铜互连 平面化工艺 失效物理与器件物理的区别 撤销应力后电特性的可恢复性时间性 失效物理的用途 1失效分析 确定产品的失效模式 失效机理 提出纠正措施 防止失效重复出现2可靠性评价 根据失效物理模型 确定模拟试验方法 评价产品的可靠性 可靠性评价的主要内容 产品抗各种应力的能力产品平均寿命 失效物理模型 应力 强度模型失效原因 应力 强度强度随时间缓慢减小如 过电应力 EOS 静电放电 ESD 闩锁 latchup 应力 时间模型 反应论模型 失效原因 应力的时间累积效应 特性变化超差 如金属电迁移 腐蚀 热疲劳 应力 强度模型的应用 器件抗静电放电 ESD 能力的测试 温度应力 时间模型 T高 反应速率大 寿命短E大 反应速率小 寿命长 温度应力的时间累积效应 失效原因 温度应力的时间累积效应 特性变化超差 与力学公式类比 失效物理模型小结 应力 强度模型与断裂力学模型相似 不考虑激活能和时间效应 适用于偶然失效和致命性失效 失效过程短 特性变化快 属剧烈变化 失效现象明显应力 时间模型 反应论模型 与牛顿力学模型相似 考虑激活能和时间效应 适用于缓慢退化 失效现象不明显 应力 时间模型的应用 预计元器件平均寿命 1求激活能E LnL1 LnL2 1 T2 1 T1 B 预计平均寿命的方法 2求加速系数F 设定高温为T1 低温为T2 可求出F 预计平均寿命的方法 由高温寿命L1推算常温寿命L2F L2 L1对指数分布L1 MTTF 1 失效率 温度应力 时间模型的简化 十度法则 内容 从室温算起 温度每升高10度 寿命减半 应用举例 推算铝电解电容寿命105C 寿命1000h 标称值 55C 寿命1000X2E5 32000h35C 寿命1000X2E7 128000h 128000 365 24 14 81年 小结 失效物理的定义 研究电子元器件失效机理的学科失效物理的用途 1失效分析 确定产品的失效模式 失效机理 提出纠正措施 防止失效重复出现2可靠性评价 根据失效物理模型 确定模拟试验方法 评价产品的可靠性 第二讲阻容元件失效机理 电容器的失效机理 电解电容钽电容陶瓷电容薄膜电容 电解电容的概况 重要性 多用于电源滤波 一旦短路 后果严重优点 电容量大 价格低缺点 寿命短 漏电流大 易燃延长寿命的方法 降温使用 选用标称温度高的产品 电解电容的标称温度与寿命的关系 标称温度 85105125标称温度寿命 h 100010001000工作温度 353535工作温度寿命 h 1000X2E51000X2E71000X2E9320001280009120003 65年14 6年59 26年 电解电容的失效机理和改进措施 漏液 电容减小阳极氧化膜损伤难以修补 漏电流增大 短路放电 大电流烧坏电极电源反接 大电流烧坏电极 阴极氧化 绝缘膜增厚 电容量下降长期放置 不通电 阳极氧化膜损伤难以修补 漏电流增大 电解电容的阳极修复功能 Al OH 改进措施 降温使用 不做短路放电 电源不反接 经常通电 固体钽电容 过流烧毁正负极反接 陶瓷电容 电路板弯曲引起芯片断裂 漏电流增大 陶瓷电容 银迁移引起边缘漏电和介质内部漏电 第三讲微电子器件失效机理 失效模式的概念和种类 失效的表现形式叫失效模式按电测结果分类 开路 短路或漏电 参数漂移 功能失效 失效机理的概念 失效的物理化学根源叫失效机理 例如开路的可能失效机理 过电烧毁 静电损伤 金属电迁移 金属的电化学腐蚀 压焊点脱落 CMOS电路的闩锁效应漏电和短路的可能失效机理 颗粒引发短路 介质击穿 pn微等离子击穿 Si Al互熔 失效机理的概念 续 参数漂移的可能失效机理 封装内水汽凝结 介质的离子沾污 欧姆接触退化 金属电迁移 辐射损伤 失效机理的内容 失效模式与材料 设计 工艺的关系失效模式与环境应力的关系环境应力包括 过电 温度 湿度 机械应力 静电 重复应力失效模式与时间的关系 水汽对电子元器件的影响 电参数漂移外引线腐蚀金属化腐蚀金属半导体接触退化 辐射对电子元器件的影响 参数漂移 软失效例 n沟道MOS器件阈值电压减小 失效应力与失效模式的相关性 过电 pn结烧毁 电源内引线烧毁 电源金属化烧毁静电 MOS器件氧化层击穿 输入保护电路潜在损伤或烧毁热 键合失效 Al Si互溶 pn结漏电热电 金属电迁移 欧姆接触退化高低温 芯片断裂 芯片粘接失效低温 芯片断裂 失效发生期与失效机理的关系 早期失效 设计失误 工艺缺陷 材料缺陷 筛选不充分随机失效 静电损伤 过电损伤磨损失效 元器件老化随机失效有突发性和明显性早期失效 磨损失效有时间性和隐蔽性 第四讲失效分析技术 失效分析的作用 确定引起失效的责任方 用应力 强度模型说明 确定失效原因为实施整改措施提供确凿的证据 举例说明 失效分析的概念和作用 某EPROM使用后无读写功能失效模式 电源对地的待机电流下降失效部位 部分电源内引线熔断失效机理 闩锁效应确定失效责任方 模拟试验改进措施建议 改善供电电网 加保护电路 失效分析的受益者 元器件厂 获得改进产品设计和工艺的依据整机厂 获得索赔 改变元器件供货商 改进电路设计 改进电路板制造工艺 提高测试技术 设计保护电路的依据整机用户 获得改进操作环境和操作规程的依据提高产品成品率和可靠性 树立企业形象 提高产品竞争力 失效分析技术的延伸 进货分析的作用 选择优质的供货渠道 防止假冒伪劣元器件进入整机生产线良品分析的作用 学习先进技术的捷径破坏性物理分析 DPA 失效前的物理分析 失效分析的一般程序 收集失效现场数据电测并确定失效模式非破坏检查打开封装镜检通电并进行失效定位对失效部位进行物理化学分析 确定失效机理综合分析 确定失效原因 提出纠正措施 收集失效现场数据 作用 根据失效现场数据估计失效原因和失效责任方根据失效环境 潮湿 辐射根据失效应力 过电 静电 高温 低温 高低温根据失效发生期 早期 随机 磨损失效现场数据的内容 水汽对电子元器件的影响 电参数漂移外引线腐蚀金属化腐蚀金属半导体接触退化 辐射对电子元器件的影响 参数漂移 软失效例 n沟道MOS器件阈值电压减小 失效应力与失效模式的相关性 过电 pn结烧毁 电源内引线烧毁 电源金属化烧毁静电 MOS器件氧化层击穿 输入保护电路潜在损伤或烧毁热 键合失效 Al Si互溶 pn结漏电热电 金属电迁移 欧姆接触退化高低温 芯片断裂 芯片粘接失效低温 芯片断裂 失效发生期与失效机理的关系 早期失效 设计失误 工艺缺陷 材料缺陷 筛选不充分随机失效 静电损伤 过电损伤磨损失效 元器件老化随机失效有突发性和明显性早期失效 磨损失效有时间性和隐蔽性 失效发生期与失效率 失效率 时间 随机 磨损 早期 以失效分析为目的的电测技术 电测在失效分析中的作用重现失效现象 确定失效模式 缩小故障隔离区 确定失效定位的激励条件 为进行信号寻迹法失效定位创造条件电测的种类和相关性连接性失效 电参数失效和功能失效 电子元器件失效分析的简单实用测试技术 一 连接性测试 万用表测量各管脚对地端 电源端 另一管脚的电阻 可发现开路 短路和特性退化的管脚 电阻显著增大或减小说明有金属化开路或漏电部位 待机 standby 电流测试 所有输入端接地 或电源 所有输出端开路 测电源端对地端的电流 待机 standby 电流显著增大说明有漏电失效部位 待机 standby 电流显著减小说明有开路失效部位 电子元器件失效分析的简单实用测试技术 二 各端口对地端 电源端的漏电流测试 或I V测试 可确定失效管脚 特性异常与否用好坏特性比较法确定 由反向I V特性确定失效机理 由反向I V特性确定失效机理 直线为电阻特性 pn结穿钉 属严重EOS损伤 反向漏电流随电压缓慢增大 pn结受EOS损伤或ESD损伤 反向击穿电压下降 pn结受EOS损伤或ESD损伤 由反向I V特性确定失效机理 反向击穿电压不稳定 芯片断裂 芯片受潮 烘焙技术 1应用范围 漏电流大或不稳定 阻值低或不稳定 器件增益低 继电器接触电阻大2用途 确定表面或界面受潮和沾污3方法 高温储存 高温反偏 清洗技术 应用范围 离子沾污引起的表面漏电用途 定性证明元器件受到表面离子沾污方法 无水乙醇清洗去离子水冲洗 可免去 烘干 烘焙和清洗技术的应用举例 烘焙和清洗技术的应用举例 双极型器件的反向靠背椅特性是钝化层可动离子沾污的结果 可用高温反偏和高温储存来证实 失效分析的发展方向 失效定位成为关键技术非破坏非接触高空间分辨率高灵敏度 无损失效分析技术 无损分析的重要性 从质检和失效分析两方面考虑 检漏技术X射线透视技术用途 观察芯片和内引线的完整性反射式扫描声学显微技术用途 观察芯片粘接的完整性 微裂纹 界面断层 检漏技术 粗检 负压法 氟碳加压法细检 氦质谱检漏法 负压法检漏 酒精 接机械泵 焊点染色法 氟碳加压法 FC43沸点180C F113沸点47 6C 加热至125C X射线透视与反射式声扫描比较 样品制备技术 种类 打开封装 去钝化层 去层间介质 抛切面技术 去金属化层作用 增强可视性和可测试性风险及防范 监控 打开塑料封装的技术 去钝化层的技术 湿法 如用HF H2O 1 1溶液去SiO285 HPO3溶液 温度160C去Si3N4干法 CF4和O2气体作等离子腐蚀去SiNx和聚酰亚胺干湿法对比 去层间介质 作用 多层结构芯片失效分析方法 反应离子腐蚀特点 材料选择性和方向性结果 去金属化Al层技术 作用配方 30 HCl或30 H2SO4KOH NaOH溶液应用实例 形貌象技术 光学显微术 分辨率3600A 倍数1200X景深小 构造简单对多层结构有透明性 可不制样扫描电子显微镜 分辨率50A 倍数10万景深大 构造复杂对多层结构无透明性 需制样 以测量电流效应为基础的失效定位技术 红外热象技术用途 热分布图 定热点光发射显微镜用途 微漏电点失效定位栅氧化层缺陷 pn结缺陷 闩锁效应电子束感生电流象用途 pn结缺陷 单端输出束感生电流象 EBIC EBIC的用途 用SEM观察pn结缺陷传统EBIC用双端输出 每次只能观察一个结单端输出EBIC可同时观察芯片所有pn结的缺陷
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