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3 附录：译文 超薄 HfO2 薄膜纳米划痕测试的力学性能研究 摘要： 测试 10nm 的原子沉积 HfO2 薄膜的耐磨性和压痕硬度，从而研究退火对其力学性能影响。超薄片在低负荷时的耐磨损性能是通过原子力显微镜的纳米划痕试验测量。纳米划痕的深度随退火温度升高而降低，这表明退火后薄膜的硬度随退火温度的升高而增加。通过纳米划痕试验产生表面压痕。退火后的薄膜硬度变化的主要原因是由于退火产生了 HfSixOy。 X-射线光电子能谱（ XPS）测量证明， HfSixOy 的硬度随退火温度的升高而增加。存在的 HfSixOy 扩大了界面，使界面层 的厚度的增加。因此，表面硬度随退火产生的 HfSixOy 的增加而增加。 关键词 ： HfO2；薄膜；纳米压痕； 原子力显微镜；纳米压痕。 1、 介绍 在半导体产业中，为了以较低的成本获得良好的功能和性能，晶体管的沟道长度和栅介电层厚度等特征尺寸被要求不断缩小 1-3。二氧化铪（ HfO2）由于其具有相对较高的介电常数，折射率大，并且具有宽的带隙，是一种很有前途的材料，以取代二氧化硅 2-4用于减少栅极绝缘层的厚度。但是，氧化铪在
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