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离子注入机简介 2 离子注入机的种类 3 6200 NV10160 10180 10160SD简介离子注入机按照真空系统分为三个部分SOURCEBEAMLINEENDSTATION 4 各部分包括的控制器 5 离子注入的原理离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流 以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转 选出我们所需的离子 通过加速高压的作用获得一定的能量 离子通过透镜的聚焦后 以一定的扫描方式打入硅片 6 离子源的工作原理当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时 灯丝受热后发射的热电子在ARC电压 源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后 工艺气体发生电离产生离子 7 质量分析器洛仑磁力 F qvBR mv qB带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转 11B 31P 40Ar 75As 121Sb 350D 先分析后加速 NV1080 先加速后分析 8 Q LENS静电四极透镜静电四极透镜 对离子进行聚焦作用 加速后的离子在Q LENS静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑 9 FARADAYSYSTEMFARADAY的作用是测量束流 通过DOSE控制器精确地计量注入到硅片上的剂量 BEAMSETUP 束流打在FLAGFARADAYIMPLANT 束流打在ENDSTATION 350D 束
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