王娟实习报告.doc

实 习 报 告实习名称： 毕业实习 专 业：电气自动化技术 班 级： 电气自动化07-1 系 部： 电气信息系 姓 名： 王娟 学 号： 200703021621 指导教师： 李文宏 2010年 月 日山东科技大学济南校区教科部制山东科技大学实习任务书一、 实习名称：毕业实习 二、 实习时间： 2010 年 3月至2010 年5月 三、 实习地点：济南晶恒电子有限公司实习 四、 实习主要内容与进度安排：2010年3月到2010年5月在济南晶恒电子有限公司实习。通过该次学习了解电气自动化技术在生产 、教学、管理等领域应用情况。领略到本专业在电子方面的应用。对一些半导体、二级管产品及其芯片的制造工艺有了一定的了解。五、 具体要求（技术要求等）：（1）考查实习单位的技术状态，收集有关的重要的技术资料，了解电气技术的具体应用和发展新动向；（2）熟悉实习单位的设备操作程序和有关规章制度；（3）参与电气技术应用系统的规划、设计及系统安装及使用；（4）在教师指导下，参与企事业单位电气技术应用系统分析、设计与实践。 实习指导教师（签字）： 教研室主任（签字）： 目录1 实习单位和指导教师 1 1.1 实习单位 1 1.2 指导教师 22 实习目的 32.1实习目与意义 32.2 实习要求 33 实习内容 43.1 扩散间 43.2光刻间 64 实习单位前景及历史 105 实习总结与体会 111 实习单位和指导教师1.1实习单位 ：济南晶恒电子有限公司1.1.1 实习单位简介济南晶恒电子有限公司是一个综合体、多元化的高科技集团公司，它的前身为济南半导体元件实验所，成立于1958年，前期主要服务于中国的军事工业，上世纪80年代初开始生产民用产品，至今已有近50念得发展历史。晶恒电子集团目前以研发与生产肖特基二极管、双向触发二极管、LED发光二极管等二极管系列，且产品种类涵盖普通整流二极管、快恢复及超快恢复二极管、高压触发管、稳压二极管、开关二极管、桥堆等。晶恒集团在半导体器件芯片指导及封装方面具有自主知识产权，特别在双向触发二极管制造和封装、肖特基二极管芯片关键势垒工艺等领域拥有多项核心技术。同时拥有二极管芯片、集成电路、集成电路引线框架等。成为电子行业的龙有企业。晶恒集团已发展成为中国最大的半导体芯片和成品的制造商之一。晶恒公司具有一支优秀的半导体研发队伍，在壮大自己的同时，他们也为我国航天事业、国防事业做出了突出贡献。因为公司拥有一条国防科工委指定的军品三极管生产线和一条军用肖特基二极管芯片生产线。40年来为我国航天和军事事业提供了大量优质可靠的产品。在多方面因素影响下，立足于长远的生存和发展，集团公司现涉足具有生命力和高附加值的新产品新技术，以半导体为基础，向电力电子、通讯、计算机领域扩展，发展成为国内一流，具有国际竞争能力的综合性多元化集团公司。晶恒人立志将晶恒公司建设成为国际一流的企业集团，为此集团公司在众多领域做出了探索和尝试，为企业多元化经营和可持续发展积累了宝贵经验。集团的中长期目标为立足并持续发展半导体制造业，并将积累多年的半导体器件研发和规模生产经验充分发挥，在半导体封装领域和新的核心技术上有所发展和突破。“晶芯待客谋发展，恒心管理求创新”是晶恒人坚守的质量方针，晶恒人锐意进取、开拓创新，在时代的变迁和市场激烈竞争的浪潮中，用晶恒人的智慧、激情和努力来营造一个极具竞争力的高科技企业集团。1.1.2实习方面在晶恒电子有限公司实习的两个月中，主要接触到半导体芯片的制造流程，在光刻车间、扩散车间学习，了解到其自动化的控制。1.2 指导教师李文宏、李莉、郭晓丽2 实习目的2.1实习目与意义实习是一门主要的实践性课程，是将理论知识同生产实践相结合的有效途径，是学校教学的重要补充部分。通过实习，巩固所学的理论知识，加深对相关内容的理解，培养独立思考、动手及工作技能。是完成上学到就业的过渡时期通过这次在济南晶恒电子有限公司的实习，进一步加深了我对电气自动化控制的了解，通过对芯片制造流程的学习，明白要完成一件“工程”所进行的准备工作的重要性，知道各个流程的相互关联性。领略到做事情认真仔细的重要性。在实习过程中，受到学校老师和公司里师傅及同事的认真指导，在学习的同时领会到社会中的人际交往。拓宽了知识面，增加感性认识，把所学知识条理化，为以后的学习和工作打下了坚实的基础。2.2 实习要求1） 考察实习单位的技术状态，收集相关的重要资料，了解电子设备的具体应用和发展新动向；2） 考察实习单位的与设备操作程序有关的规章制度，在实习过程中，严格遵守；在单位指导教师的安排指导下正确使用。3） 能独立完成某种电子产品的生产，并尽量减小产品的破坏，提高生产率；4） 在指导教师的指导下，能深刻的了解产品的生产过程及功能，并能提出有效的创新方案，提高产品质量；3实习内容济南晶恒电子有限公司是一个以半导体为主体的综合体、多元化的高科技集团公司，是中国最大的半导体芯片和成品的制造商之一。在这次实习中，我主要在光刻间及扩散间实习，3.1 扩散间3.1.1 扩散流程清洗硅片冲水烘干硅片高温氧化扩散硼（磷）欲沉积图3.1 扩散流程3.1.2 主要仪器(1)烘箱将清洗干净的硅片表面水分烘干（2）扩散炉应用于大规模集成电路，分立器件，光电子器件等生产线硅片氧化、扩散、退火等工艺。3.1.3 工艺介绍（1）高温氧化扩散高温氧化扩散是在高温氧化扩散炉中进行的一种扩散技术。是半导体制造业中对硅片进行热生长氧化的一种重要手段。在高温氧化扩散炉体内硅片与外部供给的高纯氧气反应，使硅片上生成一层热生长氧化层。这层氧化层的质量、稳定性和介质特性等性能对MOS工艺中的栅结构至关重要。温度是影响氧化层特性的关键工艺参数，影响氧化层生长速度、均匀性等特性。氧化工艺要求硅片上各个区间与各个硅片都处于一致均匀、稳定的温度场中，系统对炉膛恒温区间的温度一致性、稳定性要求极高。（2）高浓度硼深扩散自停止腐蚀层硅片高温硼欲沉积和再分布扩散炉中对扩散掺杂工艺的一种扩散技术。在半导体制造业中将硅片与硼原片混合放在高温炉中，在氮气包围下向硅衬底掺以P型或N型杂质，形成抗腐蚀性的一种重要手段。逐步实现扩散结且扩散结深随着再分布时间的增加而增大，且与再分布和欲沉积时间比有重要的关系。（3）硅片清洗 主要是除去硅片表面的杂质，将氨水，过氧化氢混合经水稀释后加热到400度，将硅片放在混合物中沸煮10分钟，冲水后在氢氟酸的稀释液中漂30s后放到盐酸、过氧化氢的稀释液中沸煮10分钟后取出并冲水40min烘干。3.2光刻间3.2.1光刻流程匀胶显影前烘光刻后烘检测腐蚀得到图形硅表面欲处理图3.2光刻流程图3.2.2主要仪器（1）匀胶机该公司使用台式匀胶机，有两档转速在启动之后，先以低速运转，然后自动变到高速运转。两档速度及运行时间分别可调；采用光电检测，数字电路测速，对电机的转速检测快速准确。电机稳速方面采用了光电隔离的精密负反馈电路，使整机在高达8000RPM以上转速时仍十分稳定，有力的保证了匀胶质量；具有“吸片”功能，避免高速转动过程中将硅片甩出。采用电子开关控制电磁阀完成气路通断，这样适合流水线工艺，一个气泵可同时带几台匀胶机工作，提高效率；还有定时采用可调定时电路控制，面板上调节Timer旋钮即可改变匀胶时间。（2）光刻机主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产。主要由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜、双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、多点光源（蝇眼）曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。光刻机是随着我国电子工业发展，为适应生产大规模集成电路、CCD、表面波、微波等器件的光刻需要而设计制造的。它可以真空接触的方法将掩模上的各种图案经紫外光束的曝光，分别转印至硅片或其它基片上，再经其它工序的处理，从而获得完整的微电子器件。3.2.3工艺介绍（1）匀胶技术是指运用匀胶机将硅片表面均匀的涂上一层光刻胶（光致抗蚀剂）简称光刻胶或抗蚀剂，指光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。光蚀剂分为正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂两大类。1) 正性光致抗蚀剂：受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的曝光部分的图形与掩模版一致。正性抗蚀剂具有分辨率高、对驻波效应不敏感、曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点，适合于高集成度器件的生产。2) 负性光致抗蚀剂：受光照部分产生交链反应而成为不溶物非曝光部分被影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。负性光致抗蚀剂的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严，适于低集成度的器件的生产。该车间运用正性光致抗蚀剂，当受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解，留下的非曝光部分的图形与掩模板一致。（2）光刻技术光刻技术在制造过程中利用光学、化学反应原理和化学、物理腐蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图的工艺技术。采用波长为2000-4500埃的紫外线作为图像信息载本，以光致抗蚀剂为中间媒介实现图形的变换、转移和处理。最终把图像信息传递到晶片。（主要指硅片)或介质层上的一种工艺。运用光刻机实现在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。1) 光复印工艺经曝光系统将预制在掩模板上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到欲涂在晶片表面或介质上的光致抗蚀薄膜上2) 刻蚀工艺利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全 一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。例如，大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递3) 曝光方式常用的曝光方式分类：接触式曝光和非接触式曝光。接触式曝光具有分辨率高、复印面积大、复印精度好、曝光设备简单、操作方便和生产效率高等特点。但容易损伤和沾污掩模版和晶片上的感光胶涂层,影响成品率和掩模版寿命,对准精度的提高也受到较多的限制。一般认为，接触式曝光只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产；非接触式曝光主要指投影曝光，在投影曝光系统中，掩膜图形经光学系统成像在感光层上，掩模与晶片上的感光胶层不接触,不会引起损伤和沾污,成品率较高，对准精度也高，能满足高集成度器件和电路生产的要求。但投影曝光设备复杂，技术难度高，因而不适于低档产品的生产。现代应用最广的是 1:1倍的全反射扫描曝光系统和x:1倍的在硅片上直接分步重复曝光系统。 （3） 显影技术显影技术是指光刻曝光结束后，将硅片放在显影液中浸泡，使受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解，留下的非曝光部分的图形与掩模板一致。显影液配置有汽油、已酮、醚类等化学物质。4 实习单位前景及历史济南晶恒电子有限公司是一个综合体、多元化的高科技集团公司，它的前身为济南半导体元件实验所，成立于1958年，前期主要服务于中国的军事工业，上世纪80年代初开始生产民用产品，至今已有近50念得发展历史。公司拥有一条国防科工委指定的军品三极管生产线和一条军用肖特基二极管芯片生产线，40年来为我国航天和军事事业提供了大量优质可靠的产品。晶恒集团已发展为中国最大的半导体芯片和成品的制造商之一。晶恒电子是目前中国最大的肖特基二极管、双向触发二极管生产工厂，产品种类涵盖普通整流二极管、快恢复及超快恢复二极管、高压触发管、稳压二极管、开关二极管、桥堆、LED发光二极管等，同时拥有二极管芯片、集成电路、集成电路引线框架等多个生产分公司，是按照综合性多元化集团模式运作并享有自主进出口权的高新技术企业。晶恒集团在半导体器件芯片指导及封装方面具有自主知识产权，特别在双向触发二极管制造和封装、肖特基二极管芯片关键势垒工艺等领域拥有多项核心技术。立足于长远的生存和发展，集团公司现涉足具有生命力和高附加值的新产品新技术，向电力电子、通讯、计算机领域扩展，发展成为国内一流，具有国际竞争能力的综合多元化集团公司。5 实习总结与体会 通过这次