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文档简介

集成电路制造技术 主讲 毛维mwxidian 西安电子科技大学微电子学院 CMOSPROCESSFLOWINTRODUCTION 垂直式热氧化炉管系统 HMDS 六甲基乙硅氮烷 CH3 6Si2NH作用 去掉SiO2表面的 OH 增强附着力 反应离子刻蚀设备 离子注入系统的原理示意图 2020 3 15 37 可编辑 简单平行金属板直流二极管溅射系统 2020 3 15 74 可编辑
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