广州高中化学化工.实验流程练习题.doc

1.硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：石英砂粗硅SiHCl3（粗）高纯硅SiHCl3（纯）焦炭高温精馏HCl573kH21357K（00000000001）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是 。（2）下列有关硅材料的说法正确的是 （填字母）。A、碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥B、氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C、高纯度二氧化硅可用于制造高性能通讯材料光导纤维D、普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高E、盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释 。氯化钾硝酸钠混合溶解蒸发浓缩趁热过滤滤渣冷却结晶过滤滤液洗涤干燥KNO3产品水滤液滤渣2.实验室以氯化钾和硝酸钠为原料制备硝酸钾的实验流程如下：0 20 40 60 80 100 温度/溶解度/g 200 100 KNO3 NaNO3 KCl NaCl 硝酸钾等四种物质的溶解度随温度变化如右图所示。 回答下列问题：（1）为了加速固体溶解，可采取的措施是： 。（2）实验室进行蒸发浓缩操作时，将蒸发皿置于铁圈上，用酒精灯加热。取用蒸发皿应使用 （填仪器的名称），为了防止液滴飞溅，进行的操作是 。（3）“趁热过滤”操作中，滤渣的主要成分是（填化学式） 。（4）“趁热过滤”后，有时先往滤液中加入少量水，加热至沸，然后再“冷却结晶”，目的是 。（5）制得的KNO3产品中常含NaCl，进一步提纯的方法是 3硫酸锌可作为食品锌强化剂的原料。工业上常用菱锌矿生产硫酸锌，菱锌矿的主要成分是ZnCO3，并含少量的Fe2O3 、FeCO3 MgO、CaO等，生产工艺流程示意如下：（1） 将菱锌矿研磨成粉的目的是_。（2） 完成“氧化除铁”步骤中反应的离子方程式：Fe(OH)2+_+_=Fe(OH)3 +CI-(3)针铁矿（Goethite）是以德国诗人歌德（Goethe）名字命名的，组成元素是Fe、O和H，化学式量为89，化学式是_。（4）根据下表数据，调节“滤液2”的pH时，理论上可选用的最大区间为_。Mg(OH)2Zn(OH)2MgCO3CaCO3开始沉淀的pH10464沉淀完全的pH12480开始溶解的pH105Ksp566828（5）工业上从“滤液3”制取MgO过程中，合适的反应物是_（选填序号）。KS*5U.C#O%a大理石粉 b石灰乳 c纯碱溶液 d烧碱溶液（6）“滤液4”之后的操作依次为_、_、过滤，洗涤，干燥。（7）分析图中数据，菱锌矿粉中ZnCO3 的质量分数不低于_。【答案】3.（1）增大反应物接触面积或增大反应速率或使反应更充分（2）（3）（或其它合理答案）（4）（或其它合理答案）（5）b或（b和d）；d（6）蒸发浓缩、冷却结晶（或其它合理答案）（7）（或其它合理答案）1.（1）SiHCl3+H2 Si+3HCl3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2+3HCl； 高温下，H2遇O2发生爆炸。（2）ABCD （3）生成白色絮状沉淀，有刺激性气味的气体生成；SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O = 2NH3H2O + H2S