第八章_光刻原理和技术.ppt

第八章光刻原理和技术 Lithography 8 1引言 8 2光刻工艺流程 8 3光刻光学 8 4光致抗蚀剂 8 5先进的曝光技术 8 1引言 光刻是IC制造业中最为重要的一道工艺 每三年尺寸减小0 7X 硅片制造工艺中 光刻占所有成本的35 所在的地方代表了roadmap发展的最大的不确定性 设计功能模块 利用软件在功能模块之间布线 用工具检查是否有违反设计规则 designrule 用电路级和系统级模拟工具预测电路性能从设计转移到掩膜版制备 用扫描电子束或激光束在光掩膜版上形成图形 光学曝光 对硅片进行光刻 MaskDefinition Maskdefinitionstartwithamicro systemormicro circuitordeviceconceptThisisfollowedbyLogicDesignCircuitDesignDeviceDesignProcessDesign SimulationMaskLayoutandfabricationMask fusedsilicaplatecoveredwithCr 80nm 用一个工艺中所需要的光刻次数或者掩膜版的多少来衡量该工艺的难易程度 一个典型的硅集成电路工艺包括20多块掩膜版通常我们所说的0 13 m 0 09 m工艺就是指的光刻技术所能达到最小线条的工艺 版图设计规则 设计者和制造厂的约定 ULSI对光刻的基本要求 高分辨率高灵敏度的光刻胶低缺陷精密的套刻对准对大尺寸硅片的加工 第八章光刻原理和技术 Lithography 8 1引言 8 2光刻工艺流程 8 3光刻光学 8 4光致抗蚀剂 8 5先进的曝光技术 光刻流程 LithographyProcess 在硅片上涂一层光刻胶 经过曝光在某些区域感光 经显影后留下胶膜的图形 再把这层胶膜的图形作为掩膜 进一步对其下的SiO2进行腐蚀 或者进行离子注入等 把胶膜上的图形转换到硅衬底的薄膜上去 光刻工艺流程 ThinFilm PHOTO ETCHPhysicallayerformationcycle 光刻工艺流程 如何在一定区域腐蚀硅 光刻技术可分为三个部分 光源 lightsources 曝光系统 exposuresystem 光刻胶 photoresist 能量 光源 引起光刻胶化学反应 改变光刻胶溶解速率 掩膜版 mask 对光进行掩膜 在光刻胶上制造掩膜版的图形对准系统 Aligner 在硅片上把掩膜版和以前的图形对准 光刻胶 Resist 把图形从掩膜版转移到硅片 衬底 substrate 具有以前的掩膜版图形 光源 LightSource 降低器件特征尺寸 featuresize 要求采用短波长的光源一般光刻用的光源 高压汞灯 HgArclamp 可以产生多种波长的光 G line 436nm I line 365nm 准分子激光 Excimerlaser DUVKrF 248nm ArF 193nm X射线 0 5nm 电子束 0 62 离子束 0 12 Opticallithograpy Advancedlithograpy 硅片曝光系统 Waferexposuresystem 完成前后两次光刻图形的精密套刻对光刻胶进行曝光曝光分类接触式 Contact 接近式 Proximity 投影式 Projection Threetypesofexposuresystemshavebeenused 1 1ExposureSystems Usually4Xor5XReduction 目前主流光刻机是ProjectionPrinting光刻掩模版为4X或5X 每一次曝光到晶片的部分区域 一般每台光刻机每小时可以加工25 50片晶片 第八章光刻原理和技术 Lithography 8 1引言 8 2光刻工艺流程 8 3光刻光学 8 4光致抗蚀剂 8 5先进的曝光技术 8 3光刻光学 opticsoflithography 光刻的基本要求基本光学概念曝光分类掩膜版工程 光刻系统的基本要求 Resolution分辨率 即能加工的最小尺寸Depthoffocus焦深Fieldofview视场Modulationtransferfunction光学传递函数5 Alignmentaccuracy套刻精度6 Throughput产量 取决於光学系统 取决於机械系统 8 3光刻光学 opticsoflithography 光刻的基本要求基本光学概念衍射数值孔径分辨率曝光分类掩膜版工程 光的衍射效应 光在空间中以电磁波的形式传播当物体的尺寸远大于波长时 把光作为粒子来处理当物体的尺寸和波长可比拟时 要考虑光的波动性 衍射 衍射光学 光在传播过程中绕过障碍物边缘而偏离直线传播的现象 称为衍射 Diffraction 如果孔径的尺寸和波长相当 光在穿过小孔后发散 小孔越小 发散得越多 bendingoflight 衍射光学 如果想在像平面 如光刻胶 对小孔进行成像 可以用透镜收集光并聚焦到像平面 衍射分类 Fresneldiffractionornearfielddiffraction 像平面和孔径很近 光直接穿过孔径到像平面 无中间透镜系统ContactprintandproximityprintFraunhoferdiffractionorfarfielddiffraction像平面远离孔径 孔径和像平面之间有透镜 来捕捉 聚焦图像Projectionprint AsimpleexampleistheimageformedbyasmallCircularaperture Airydisk Diameterofcentralmaximum f 透镜的焦距d 孔径的直径 点图像的分辨率 根据Rayleigh原理 两个像点能够被分辨的最小间隔为 RayleighsuggestedthatareasonablecriterionforresolutionwasthatthecentralmaximumofeachpointsourcelieatthefirstminimumoftheAirypattern f 透镜的焦距D 孔径的直径 数值孔径 NumericalApertureNA 光学系统的数值孔径描述透镜收集光的能力 n是透镜到硅片间的介质折射率对空气为1 分辨率 Resolution 一般来说 最小线宽K1 0 6 0 8 提高分辨率 减小最小线宽的方法 减小波长采用高数值孔径的光学系统 大透镜 K1取决光刻系统和光刻胶的性质 然而采用高数值孔径的光学系统 大透镜 会使景深变差 采用MTF来表征掩膜上的图形转移成光刻胶上像的质量 衡量图像的对比度 contrast 和线条尺寸有关 线条尺寸越小 MTF越小 一般MTF须大于0 5 光学传递函数 ModulationTransferFunctionMTF 8 3光刻光学 opticsoflithography 光刻的基本要求基本光学概念曝光分类掩膜版工程 曝光方式 接触式曝光Contactprinting光学接近式曝光Opticalproximityprinting扫描投影曝光Scanningprojectionprinting 接触式曝光Contactprinting 掩膜版和硅片紧密接触 FresneldiffractionMaskImage ResistImage 1 1 不受衍射现象限制 分辨率高 可达到0 5 m必须加压力 会使胶膜剥离 易沾污 掩膜版易损坏成品率下降 目前在生产中很少使用 由于光刻胶顶层平面不平 所以该曝光方式中间隔并不严格为0 接近式曝光 proximityprinting 掩膜版和硅片有一小的间隙的d 有衍射效应 最小线宽 Wm d 1 2 d 间隔 光源波长分辨率取决于间隙的大小 一般分辨率较差 为2 4 md 10um I line 365nm W 2um 接近式曝光 proximityprinting 接近式曝光所引起的近场衍射 在掩膜版孔径边缘 强度逐渐上升 因为光的衍射效应 在孔径外面的光也曝光了 在孔径尺寸内 光强有起伏这是因为惠更斯衍射效应的极大 极小效应的叠加 投影光刻 projectionprinting 把掩膜上的图形由透镜投影到光刻胶上 掩膜版不易损坏为了提高分辨率 减少图形畸变 一次曝光的象场较小 采用扫描式曝光 Fraunhoferdiffraction Toimprovethedefectdensityofthisoperation thereticleiscommonlyplacedinafixturethathasathinmembrane calledApellicle pellicle OpticalStepper 三种曝光系统比较 当间隔为0时 接触式曝光 理想图形 有一定间隔时 接近式曝光 有透镜系统时 投影曝光 8 3光刻光学 opticsoflithography 光刻的基本要求基本光学概念曝光分类掩膜版工程 MaskEngineering掩膜版工程OpticalProximityCorrection OPC PhaseShifting OpticalProximityCorrection OPC canbeusedtocompensatesomewhatfordiffractioneffects Top maskwithandwithoutOPC Bottom calculatedprintedimages 通过软件对图形修正 消除衍射的影响 移相掩膜技术 phaseshiftmask 选择一种具有一定厚度和折射率的材料 使得相位移动180 形成相消干涉 Withoutphaseshift Withphaseshift PSM 移相掩膜技术 的优点 提高分辨率 使现有光刻技术至少延伸了一代 可用低数值孔径曝光系统 来改善景深提高图像质量 第八章光刻原理和技术 Lithography 8 1引言 8 2光刻工艺流程 8 3光刻光学 8 4光致抗蚀剂 8 5先进的曝光技术 8 4光致抗蚀剂 Photo Resist PositiveandNegativeopticalresistg Lineandi LineResistsDUVResistsBasicPropertiesofResists 光刻胶种类 正光刻胶 Positiveopticalresist 负光刻胶 Negativeopticalresist Resistsareorganicpolymersthatarespunontowafersandprebakedtoproduceafilm 0 5 1mmthick 正性光刻胶 PositiveOpticalResist 正胶的光化学性质是从抗溶解到可溶性 正胶曝光后显影时感光的胶层溶解了 现有VLSI工艺都采用正胶 正胶机制 曝光使感光材料 PAC 中分子裂解 被裂解的分子在显影液中很易溶解 从而与未曝光部分形成强烈反差 负性光刻胶NegativeOpticalresist 负胶的光学性能是从可溶解性到不溶解性 负胶在曝光后发生交链作用形成网络结构 在显影液中很少被溶解 而未被曝光的部分充分溶解 正胶和负胶的比较 正胶a 分辨率高小于1微米b 抗干法刻蚀能力强c 较好的热稳定性负胶a 对某些衬底表面粘附性好b 曝光时间短 产量高c 工艺宽容度较高 显影液稀释度 温度等 d 价格较低 约正胶的三分之一 负胶的光化学特性是从可溶性到抗溶解性 g Lineandi LineResists由三部分组成非活性树脂 InactiveResin 碳氢化合物hydrocarbon光敏材料 PhotoActiveCompound PAC 溶剂 Solvent 8 4光致抗蚀剂 Resist 光刻胶成分光致抗蚀剂性能参数光致抗蚀剂类型光刻胶过程 分辨率 resolution 敏感度 Sensitivity 对比度 Contrast 光谱相应曲线 Spectralresponsecurve 抗腐蚀特性 光致抗蚀剂材料参数 光刻胶的分辨率 正胶的分辨率较负胶好 一般2 m以下工艺用正胶保证抗蚀性性能的情况下 胶越薄 分辨率越高图形的分辨率主要和曝光系统有关 灵敏度S Sensitivity 灵敏度反应了需要多少光来使光刻胶曝光 S越高 曝光时间越短 h为比例常数 I为照射光强度 t为曝光时间在短波长光曝光要求光刻胶有较高的灵敏度 对比度 Contrast 衡量光刻胶辨别亮 light 暗 dark 区域的能力测量方法 对一定厚度的光刻胶 改变曝光剂量 在固定时间内显影 看显影后留下的光刻胶厚度 对比度高的光刻胶造成更好的分辨率 Df 完全溶解光刻胶所需的曝光剂量 D0 溶解光刻胶所需的阈值曝光剂量 Typicalg lineandi lineresistsachievegvaluesof2 3andDfvaluesofabout100mJcm 2 DUVresistshavemuchhighergvalues 5 10 andDfvaluesofabout20 40mJcm 2 临界光学调制函数CriticalModulationTransferFudanction CMTF ByanalogytotheMTFdefinedearlierforopticalsystems theCMTFforresistsisdefinedas IngeneralCMTF MTFisrequiredfortheresisttoresolvetheaerialimage Theaerialimageandtheresistcontrastincombination resultinthequalityofthelatentimageproduced Grayareais partiallyexposed areawhichdeterminestheresistedgesharpness 影响曝光质量的一些其他因素光刻胶厚度的不均匀 Resistthicknessmayvaryacrossthewafer Thiscanleadtounderoroverexposureinsomeregionsandhencelinewidthvariations Reflectivesurfacesbelowtheresistcansetupreflectionsandstandingwavesanddegraderesolution 入射光和光刻胶下面的表面层引起反射光 驻波效应 影响曝光质量的一些因素 驻波效应 standingwave 当单色光对光致抗蚀剂进行曝光时 入射波和反射波之间干涉 在光刻胶层内产生光强周期性涨落的现象叫驻波 Insomecasesanantireflectivecoating ARC canhelptominimizetheseeffects Bakingtheresistafterexposure butbeforedevelopmentcanalsohelp 表面反射 SurfaceReflection 当表面形貌不平时 图像的控制是一个严重问题 由于光学在金属表面反射 使得光刻图形尺寸改变 利用防反射层 AntiReflectionCoating ARC 光刻胶表面平面化 其它改善曝光质量的方法多层光致抗蚀剂工艺 MLR工艺 MultilayerResistProcessor 增强反差层光刻工艺 CEL ContrastEnhancementLayers 无机光致抗蚀剂 InorganicPhotoresists Ge Se Ag 提高反差 光刻胶成分光致抗蚀剂性能参数光致抗蚀剂类型光刻胶过程 8 4光致抗蚀剂 Resist 光刻胶过程 1 衬底处理 烘烤 150C 200C 去水 2 涂一次黏附剂HDMS 3 旋转涂胶 3 6Krpm 4 前烘 10 30min 90 100C 5 曝光 6 显影 7 坚膜 衬底处理 substratecleaning 表面清洁度b 平面度c 增粘处理高温烘培增粘剂处理二甲基二氯硅烷和三甲基二硅亚胺 涂胶 spin coating 旋转涂胶 精确控制转速 加速度提供具有一定厚度和均匀性良好的光刻涂胶层a 膜厚对分辨率的影响膜越厚分辨率越低 但为了减少针孔 又需要膜厚 负胶的膜厚 线宽比为1 2 1 3正胶的膜厚 线宽比为1 1b 膜厚对粘附力的影响如膜太厚 曝光被上层胶吸收 引起下层光刻胶曝光不足 在显影时下层胶会膨胀甚至溶解 影响光刻胶和衬底的粘附 前烘 pre bake 方式 热板和红外等作用 去除光刻胶中的溶剂改善胶与衬底的粘附性 增加抗蚀性 防止显影时浮胶和钻蚀但不能发生热胶联 显影develop方法 湿法显影 干法显影湿法显影液应具备的条件 应去除的胶膜溶解度大 溶解的快 对要保留的胶膜溶解度小 溶解得慢 有害杂质少毒性小 显影后要在显微镜下检查 图形套准情况 边缘是否整齐 有无残胶 皱胶 易浮胶 划伤等 湿法显影的缺点 显影液向抗蚀剂中扩散 刻蚀图形溶胀 显影液组份变化 引起显影液特性变化 硅片易沾污 作业环境差 成本较高 干法显影利用抗蚀剂的曝光部分和非曝光部分在特定的气体等离子体中有不同的反应 最后去除未曝光的部分 或曝光的部分 将曝光部分 或未曝光部分 保留一定厚度 后烘post bake在一定温度下 将显影后的片子进行烘焙 去除显影时胶膜所吸收的显影液和残留水分 改善光刻胶的粘附性和抗蚀能力 腐蚀etch去除显影后裸露出来的介质层 如SiO2 SiN4 多晶硅 Al等 腐蚀要考虑的问题 1 均匀性 2 方向性从线宽角度 希望纵横向的蚀速比大 从台阶覆盖角度 希望纵横向的蚀速比小 3 选择性本身材料和下层材料的腐蚀速率比 4 腐蚀速度 5 公害和安全措施 6 经济性 去胶strip溶剂去胶H2O2 H2SO4 1 3氧化去胶450oCO2 胶 CO2 H2O 等离子去胶高频电场O2 电离O O O 活性基与胶反应CO2 CO H2O 套准精度 影响光刻套准精度的因素有光刻机自身的定位精度 包括光学 机械 电子等系统的设计精度和热效应 硅片的加工精度和硅片在热加工过程中的形变振动环境温度变化光刻胶的套准精度 第八章光刻原理和技术 Lithography 8 1引言 8 2光刻工艺流程 8 3光刻光学 8 4光致抗蚀剂 8 5先进的