金相分析总结.doc

1. 金相试样的制备步骤：取样、镶嵌、标识、磨光、抛光、显示若选取的试样的形状、大小便于用手握持，则不必镶嵌若检验非金属夹杂物或铸铁中石墨，就不必进行侵蚀2. 纵断面主要用于： 检验非金属夹杂物的数量、大小和形状 检验晶粒的变形程度和锻造显微组织 检验钢材的带状组织，及通过热处理对带状组织的消除程度3. 横断面主要作用于： 检验从表面到中心金相组织变化情况及偏析 检验表层各种缺陷 检验表面热处理结果 检验非金属夹杂物在整个断面上的分布 测定晶粒度等4. 镶嵌分为：有机材料镶嵌法、机械夹持法5. 金属变形层（金属扰乱层）：金相试样在制备中磨面的微观变化，严重变形的粉末金属与磨料的混合物，形成了高度变形玷污区（污染区）6. 金属变形层的危害：若抛光后未完全消除金属扰乱层，则侵蚀后在金相显微镜下就观察不到真实组织而出现假象 故磨光和抛光时试样制备中极为重要的两道工序7. 扰乱层的产生: 使用外形圆润的抛光粉 抛光压力过大（磨光）8. 扰乱层变薄：减轻磨光、抛光压力使用外形尖锐的抛光粉完全避免：不用机械抛光，改用化学抛光消除：扰乱层较厚的试样，一次侵蚀不能将其消除，可采用抛光、侵蚀交替进行法，直至真是组织清晰为止9. 磨光的目的：得到平整光滑的磨面 莫面上允许有极细儿均匀，单一方向的磨痕10. 抛光目的：消除试样细磨时所留下的细微磨痕，得到平整光滑的镜面 机械抛光、电解抛光、化学抛光、复合抛光11. 机械抛光原理:抛光微粉与磨面间的相对机械作用使磨面变成光滑镜面的过程主要作用：磨削（切削）作用【主要作用】 滚压作用12. 化学抛光：将试样侵入一定成分的溶液中，依靠化学药剂对表面的不均匀性溶解，得到 波浪形的平面 不适于高倍观察，适合低、中倍13. 化学侵蚀法：将抛光好的金相试样，侵入化学试剂中，或用化学试剂揩擦试样磨面，显示出显微组织的方法 侵蚀原理 侵蚀时间及深浅程度：当抛光面失去光泽变成灰暗即可【变黑说明寝室过度】14. 常见宏观缺陷的特征及产生原因： 缩孔 特征：横向截面上的试样轴心处，呈现不规则的空洞或裂纹 产生原因：钢液在冷凝时，发生体积集中收缩 中心疏松 偏析 裂纹15. 透镜的象差：实际成象与理想成象之间的偏离就是光学系统的象差象差的危害：影响象的清晰度和物、象之间的相似性16. 物镜类型按象差校正程度分为：消色差物镜【结构最简单】、复消色差物镜、半复消色差物镜17. 平场复消色差物镜除具有复消色差物镜的优点之外，场曲能得到进一步校正18. 数值孔径：表征物镜的聚光能力，NA表示 NA=n sin n-介质的折射率 孔径角物镜的孔径角和介质的折射率越大，咋孔径数值越大增加孔径角的途径：增加透镜的直径 缩短物镜的焦距【常用方法】19. 物镜的分辨力是指物镜对显微组织构成清晰可分辨的能力，一般用能分辨两点间最小距离d的倒数1d d=0.5NA=2NA20. 景深：21. 惠更斯目镜：凉快相同玻璃制成的平凸透镜组成 主要作用：放大作用 使映像亮度均匀焦点位于两透镜之间，不单独作为放大镜使用，又称负型目镜补偿目镜【能校正垂轴色差】可单独作为放大镜使用为正型目镜22. 科勒照明特点: 照明均匀光利用率高，照明效果好23. 临界照明特点：光能利用率高。亮度高适用于高倍率摄影照明24. 照明方式：明场照明 暗场照明 明场照明特点：光束两次穿过物镜，故物镜起着聚光与放大的双重作用 暗场照明：试样的组织便已明亮的物象映衬在暗黑的视场内 特点：光束一次穿过物镜，放大作用25. 显微镜光学行程：分为直立和倒立行程直立光程：金相试样的磨面向上、物镜向下的光学布置缺点：只有试样的上下表面保持平行时，才能在真个视域内获得清晰的象 试样放在镜筒下面，镜筒的上升高度有限，过于高大的试样难于使用倒立光程特点：试样磨面磨平就可观察分析 试样放在载物台上部，空间不受限，可安放尺寸较大的式样26. 视场光阑：限制光学 成象范围的光阑27. 金相摄影包括：实物、低倍摄影与显微摄影28. 反差系数：指胶片拍摄冲洗后的影象明暗程度（黑白对比度）与远景物的明暗程度的比值卤化银颗粒细而均匀，反差系数就打；颗粒粗而不均匀，反差系数就小29. 宽容度：表示胶片表达被摄物全部亮度范围的能力（伸缩性） 与银盐的粒度有关，颗粒越细。宽容度小：反之，大30.低倍摄影 与实物摄影 凸透镜成像 实像31.双折射现象：当一束光线入射到光学各向异性介质，在界面上折射时，会分裂为两条折射光线，在介质中不同方向传播32.偏振片：强烈地吸收寻常光线，而对非常光线的吸收却很少33.二向色性：对寻常光线和非常光线有不同吸收的现象34.偏振光：直线（平面）偏振光、椭圆偏振光、圆偏振光35.直线偏振光：正对光的传播方向观察，光的矢量振动方向是一条直线36.起偏振镜：产生偏振光的装置37.检偏振镜（分析器）